本实用新型属于地板生产设备技术领域，特别是涉及一种地板表面处理砂光工艺设备。
背景技术：
砂光是指对一些不平整、厚度不均、不符合工艺要求的材料或物件通过纱布、砂轮、百洁布等物理去除的方式使之更加光滑平整、厚度均匀，达到工艺标准，砂光工艺应用于机械、玩具工艺品、家装地板各行各业，对于现有的地板砂光设备，大多只能分别对上表面和侧面分别进行砂光，且只能对一种厚度的地板进行砂光工艺处理，这样不仅耗时，而且处理不同厚度的地板，需要不同的砂光设备，生产成本高，若采用手持式砂光设备则需要投入大量人力，且会造成工作效率和质量低，因此，如何解决上述问题成为本领域研究的重点。
技术实现要素：
本实用新型的目的就是提供一种地板表面处理砂光工艺设备，能完全解决上述现有技术的不足之处。
本实用新型的目的通过下述技术方案来实现：
一种地板表面处理砂光工艺设备，包括底部支架、传送机构和固定架，所述传送机构设置在底部支架上，传送机构包括间隔设置的第一传送带和第二传送带，所述固定架为“ㄇ”结构，固定架的左侧支撑板、右侧支撑板设置在底部支架上，固定架左侧支撑板、右侧支撑板和上侧支撑板上均设置有滑槽，滑槽内通过限位螺钉固定设置有滑动安装板，左侧和右侧滑动安装板上安装有第一打磨机和第二打磨机，上侧滑动安装板上固定设置有砂光带，所述第一打磨机、第二打磨机和砂光带之间的区域为砂光区，底部支架上位于砂光区正下方、第一传送带和第二传送带之间设置有一伸缩台。
作为优选，所述左侧支撑板和右侧支撑板上设置有喷气嘴。
采用上述设计方案，由于设置喷气嘴，因此在对地板进行砂光时，可以清理板面残余废屑，既不影响砂光，又保持板面整洁。
作为优选，所述砂光区沿传送机构的传动方向设置一个或多个。
采用上述设计方案，由于设置沿传动方向的砂光区，因此可以进行多次砂光处理，提高板面处理的平整度和均匀度，更能达到工艺标准。
作为优选，所述左侧、右侧和上侧滑动安装板上设置有刻度层。
采用上述设计方案，由于设置刻度层，因此在调节滑动安装板使更能准确掌握调整后左右、上下之间的距离，减少板面多砂或少砂的情况发生。
作为优选，所述伸缩台上表面设置有一吸盘阵列。
采用上述设计方案，由于在砂光处理过程中，地板受摩擦力可能发生移动，因此在伸缩台上设置吸盘阵列，可以吸住地板，避免发生位移，保证砂光处理的顺利施行。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：
本实用新型结构简单，设计合理，通过旋松限位螺钉，移动左侧、右侧和上侧的滑动安装板，可以改变工作区的空间大小，实现对不同厚度、不同宽度地板的上表面及侧面同时进行砂光工艺处理，减少了繁杂的工序，大大提高工作效率，也节约了生产成本。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
附图标记：1-底部支架，201-第一传送带，202-第二传送带，301-左侧支撑板，302-右侧支撑板，303-上侧支撑板，4-限位螺钉，5-滑动安装板，6-第一打磨机，7-第二打磨机，8-砂光带，9-伸缩台，10-喷气嘴，11-刻度层，12-吸盘阵列。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步的说明。
实施例一
如图1所示，一种地板表面处理砂光工艺设备，包括底部支架1、传送机构和固定架，传送机构设置在固定架1上，且传送机构包括第一传送带201和第二传送带202，第一传送带201与第二传送带202等高且间隔设置，固定架包括左侧支撑板301、右侧支撑板302和上侧支撑板303，三块支撑板呈“ㄇ”结构，左侧支撑板301和右侧支撑板302底端垂直设置在底部支架1上，三块支撑板上均设置有滑槽，滑槽内配合设置有滑动安装板5，滑动安装板5分别通过限位螺钉4与各支撑板固定，左侧和右侧的滑动安装板5上分别安装有第一打磨机6和第二打磨机7，上侧的滑动安装板5上设置有砂光带8，第一打磨机6、第二打磨机7和砂光带8支架的区域为砂光区，在底部支架1正上方，位于第一传送带201和第二传送带202之间设置有一伸缩台9。
本实用新型在工作时，首先根据所要进行砂光处理的地板的厚度与宽度，旋松上侧支撑板303上的限位螺钉6，调整上侧的滑动安装板5，使砂光带8的最底端与伸缩台最大伸长时上表面之间的距离为地板厚度，调整后，旋紧上侧支撑板303上的限位螺钉6，然后旋松左侧支撑板301和右侧支撑板302上的限位螺钉6，调节左侧和右侧的滑动安装板5，使第一打磨机6与第二打磨机7前端之间的距离为地板宽度，旋紧限位螺钉6，调整好后，开启电源，当地板传送至伸缩台9时，伸缩台9上升，将地板顶起至砂光区进行砂光处理，砂光完毕后，伸缩台下降，地板放回传送机构传至下一工序。
实施例二
如图1所示，一种地板表面处理砂光工艺设备，包括底部支架1、传送机构和固定架，传送机构设置在固定架1上，且传送机构包括第一传送带201和第二传送带202，第一传送带201与第二传送带202等高且间隔设置，固定架包括左侧支撑板301、右侧支撑板302和上侧支撑板303，三块支撑板呈“ㄇ”结构，左侧支撑板301和右侧支撑板302底端垂直设置在底部支架1上，三块支撑板上均设置有滑槽，滑槽内配合设置有滑动安装板5，滑动安装板5分别通过限位螺钉4与各支撑板固定，左侧和右侧的滑动安装板5上分别安装有第一打磨机6和第二打磨机7，上侧的滑动安装板5上设置有砂光带8，第一打磨机6、第二打磨机7和砂光带8支架的区域为砂光区，在底部支架1正上方，位于第一传送带201和第二传送带202之间设置有一伸缩台9。
所述左侧支撑板301和右侧支撑板302上设置有喷气嘴10。这种设计方案，由于设置喷气嘴，因此在对地板进行砂光时，可以清理板面残余废屑，既不影响砂光，又保持板面整洁。
实施例三
如图1所示，一种地板表面处理砂光工艺设备，包括底部支架1、传送机构和固定架，传送机构设置在固定架1上，且传送机构包括第一传送带201和第二传送带202，第一传送带201与第二传送带202等高且间隔设置，固定架包括左侧支撑板301、右侧支撑板302和上侧支撑板303，三块支撑板呈“ㄇ”结构，左侧支撑板301和右侧支撑板302底端垂直设置在底部支架1上，三块支撑板上均设置有滑槽，滑槽内配合设置有滑动安装板5，滑动安装板5分别通过限位螺钉4与各支撑板固定，左侧和右侧的滑动安装板5上分别安装有第一打磨机6和第二打磨机7，上侧的滑动安装板5上设置有砂光带8，第一打磨机6、第二打磨机7和砂光带8支架的区域为砂光区，在底部支架1正上方，位于第一传送带201和第二传送带202之间设置有一伸缩台9。左侧支撑板301和右侧支撑板302上设置有喷气嘴10。
所述砂光区沿传送机构的传动方向设置一个或多个。这种设计方案，由于设置沿传动方向的砂光区，因此可以进行多次砂光处理，提高板面处理的平整度和均匀度，更能达到工艺标准。
实施例四
如图1所示，一种地板表面处理砂光工艺设备，包括底部支架1、传送机构和固定架，传送机构设置在固定架1上，且传送机构包括第一传送带201和第二传送带202，第一传送带201与第二传送带202等高且间隔设置，固定架包括左侧支撑板301、右侧支撑板302和上侧支撑板303，三块支撑板呈“ㄇ”结构，左侧支撑板301和右侧支撑板302底端垂直设置在底部支架1上，三块支撑板上均设置有滑槽，滑槽内配合设置有滑动安装板5，滑动安装板5分别通过限位螺钉4与各支撑板固定，左侧和右侧的滑动安装板5上分别安装有第一打磨机6和第二打磨机7，上侧的滑动安装板5上设置有砂光带8，第一打磨机6、第二打磨机7和砂光带8支架的区域为砂光区，在底部支架1正上方，位于第一传送带201和第二传送带202之间设置有一伸缩台9。左侧支撑板301和右侧支撑板302上设置有喷气嘴10。所述砂光区沿传送机构的传动方向设置一个或多个。
所述左侧、右侧和上侧滑动安装板上设置有刻度层11。这种设计方案，由于设置刻度层，因此在调节滑动安装板使更能准确掌握调整后左右、上下之间的距离，减少板面多砂或少砂的情况发生。
实施例五
如图1所示，一种地板表面处理砂光工艺设备，包括底部支架1、传送机构和固定架，传送机构设置在固定架1上，且传送机构包括第一传送带201和第二传送带202，第一传送带201与第二传送带202等高且间隔设置，固定架包括左侧支撑板301、右侧支撑板302和上侧支撑板303，三块支撑板呈“ㄇ”结构，左侧支撑板301和右侧支撑板302底端垂直设置在底部支架1上，三块支撑板上均设置有滑槽，滑槽内配合设置有滑动安装板5，滑动安装板5分别通过限位螺钉4与各支撑板固定，左侧和右侧的滑动安装板5上分别安装有第一打磨机6和第二打磨机7，上侧的滑动安装板5上设置有砂光带8，第一打磨机6、第二打磨机7和砂光带8支架的区域为砂光区，在底部支架1正上方，位于第一传送带201和第二传送带202之间设置有一伸缩台9。左侧支撑板301和右侧支撑板302上设置有喷气嘴10。所述砂光区沿传送机构的传动方向设置一个或多个。左侧、右侧和上侧滑动安装板上设置有刻度层11。
所述伸缩台9上表面设置有一吸盘阵列12。这种设计方案，由于在砂光处理过程中，地板受摩擦力可能发生移动，因此在伸缩台上设置吸盘阵列，可以吸住地板，避免发生位移，保证砂光处理的顺利施行。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。