技术特征：
技术总结
本发明提供一种配比可控的大面积高通量复合薄膜合成装置和方法，其中，所述合成装置中设置了可移动的基片架，并在基片架和靶材之间设置了用于遮挡掩膜部分区域的挡板，在合成薄膜的过程中，利用挡板掩盖部分掩膜孔并移动基片架，调整基片架与靶材的相对位置和移动速度，从而调整辉羽中心在每个掩膜孔中停留的时间，不仅可以控制每个掩膜孔对应复合薄膜样品的厚度，克服了高通量PLD镀膜不均匀的缺陷，还可以通过控制每个掩膜孔在沉积不同材料时，辉羽中心停留的时间比，调整每个掩膜孔对应的基片样品中沉积的不同材料之间的配比，从而实现配比可控。
技术研发人员：张晓军
受保护的技术使用者：张晓军
技术研发日：2018.12.21
技术公布日：2019.02.19