1.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括第一腔体和第二腔体，所述第二腔体可移动地设置在所述第一腔体中并配合形成密闭空间，
所述第一腔体中设置有镀膜系统，所述第二腔体上设置有卷绕系统，
所述镀膜系统包括离子源和靶体并设置在所述第一腔体的内壁上，
所述卷绕系统包括第一收放卷、第二收放卷、镀膜辊和导向辊，所述镀膜辊包括第一镀膜辊和第二镀膜辊，所述导向辊用于将所述第一收放卷上的待镀材料引导卷绕到所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊上并进一步引导至所述第二收放卷上或将所述第二收放卷上的待镀材料通过所述第二镀膜辊和所述第一镀膜辊引导至所述第一收放卷上，
所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊开设有液体通道，所述真空镀膜装置还包括旋转接头，所述旋转接头连接所述镀膜辊，所述液体通道连通所述旋转接头和所述镀膜辊，
所述旋转接头和所述液体通道保持静止，不发生转动。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述第二腔体底部设置有行走轮，所述第一腔体上固定设置有轨道，所述行走轮在所述轨道上移动以使所述第二腔体并入所述第一腔体和从所述第一腔体中分离。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述镀膜系统还包括磁性组件，所述磁性组件的磁场线穿过所述靶体。
4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述液体通道呈圆柱形，所述液体通道的轴线和所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊的轴线位于同一直线上。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述卷绕系统还包括电机和皮带，所述电机的输出轴通过所述皮带带动所述第一镀膜辊和所述第二镀膜辊转动，所述电机的转速可调。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述皮带包括同步皮带、大同步皮带轮和小同步皮带轮，所述小同步皮带轮连接所述电机的输出轴，所述大同步皮带轮连接所述镀膜辊，所述同步皮带连接所述大同步皮带轮和所述小同步皮带轮。
7.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述卷绕系统还包括压辊、张力辊和展平辊，所述压辊、所述张力辊和所述导向辊配合以调整所述待镀材料的张紧程度，所述压辊和展平辊配合以调整待镀材料的平整度。
8.根据权利要求7所述的真空镀膜装置，其特征在于，所述压辊和所述张力辊的位置可调节。