技术总结
本实用新型公开了一种激光镀膜装置，包括密封舱，密封舱内设置有靶材工位，靶材工位上安装有靶材，密封舱设置有氧气入口，密封舱连接质谱仪、抽真空系统b，所述激光镀膜装置还设置有反射式高能电子衍射仪、激光发射装置、电子源，靶材工位的位置与镀膜工位正对，电子源设置在镀膜工位的前方侧面，反射式高能电子衍射仪与电子源相对镀膜工位中心对称，激光发射装置设置在靶材工位的前方侧面。该装置采用激光镀膜，所制备的薄膜质量好、缺陷少、能量转换效率高。
技术研发人员：张培明
受保护的技术使用者：济南工程职业技术学院
技术研发日：2018.09.14
技术公布日：2019.06.11