1.一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，包括依次相连的放卷室(1)、前张力控制室(2)、进口狭缝室(3)、进口过渡室(4)、前离子清洗室(5)、工艺室(6)、后离子清洗室(7)、出口过渡室(8)、出口狭缝室(9)、后张力控制室(10)和收卷室(11)，所述的放卷室(1)内设置有放卷辊(101)、第一纠偏辊(102)、第二张力辊(103)和第一导向辊(104)，放卷辊(101)与第一纠偏辊(102)、第一张力辊(103)和第一导向辊(104)依次相连，所述的前张力控制室(2)与第一旋片真空泵(201)相连；所述的进口狭缝室(3)与第二旋片真空泵(301)相连；所述的进口过渡室(4)通过第一罗茨真空泵(402)与第二旋片真空泵(401)相连。
2.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的前离子清洗室(5)通过第一深冷吸附阱(502)与第三旋片真空泵(501)相连，前离子清洗室(5)上还设置有第一阳极层离子源(503)。
3.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的工艺室(6)包括平面溅射阴极(601)、C-MAG双旋转溅射阴极(602)、磁悬浮真空分子泵组(603)、第二深冷吸附阱(604)、第二罗茨真空泵(605)和第四旋片真空泵(606)，磁悬浮真空分子泵组(603)之间设置有平面溅射阴极(601)、C-MAG双旋转溅射阴极(602)，平面溅射阴极(601)与第二深冷吸附阱(604)相连，第二深冷吸附阱(604)、第二罗茨真空泵(605)和第四旋片真空泵(606)依次相连。
4.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的后离子清洗室(7)包括第五旋片真空泵(701)、第三深冷吸附阱(702)和第二阳极层离子源(703)，后离子清洗室(7)上设置有第二阳极层离子源(703)，后离子清洗室(7)与第三深冷吸附阱(702)、第五旋片真空泵(701)依次相连。
5.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的出口过渡室(8)包括第六旋片真空泵(801)和第三罗茨真空泵(802)，出口过渡室(8)与第三罗茨真空泵(802)、第六旋片真空泵(801)依次相连。
6.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的出口狭缝室(9)与第七旋片真空泵(901)相连。
7.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的后张力控制室(10)与第八旋片真空泵(1001)相连。
8.根据权利要求1所述的一种卷对卷真空镀膜设备，其特征在于，所述的收卷室(11)内设置有依次相连的收卷辊(1101)、第二纠偏辊(1102)、第二张力辊(1103)和第二导向辊(1104)。