1.一种特种工件镀膜设备，其特征在于，至少包括工件输送及初处理配合线、自动控制生产线以及真空镀膜生产线；
真空镀膜生产线，至少包括真空镀膜设备，该真空镀膜设备设有工艺室和位于工艺室后的静放室；工艺室用于对工件进行往复式反镀膜，静放室用于对完成镀膜的工件进行静放处理；
工件输送及初处理配合线，用于在工件上料后，将工件翻转并送入自动控制生产线；以及用于在接收到完成静放后的工件后，将工件翻转并送入自动控制生产线；
自动控制生产线，设于工件输送及初处理配合线与真空镀膜生产线之间；至少用于正向接收翻转后以反面状态送来的工件，并正向输送至真空镀膜生产线的工艺室；以及用于反向接收从工艺室退出的完成反静放后的工件，并反向输送至工件输送及初处理配合线进行翻转，使完成反静放后的工件翻转至正面状态；以及用于正向接收翻转后以正面状态送来的工件，并正向输送至真空镀膜生产线的工艺室；以及用于反向接收从工艺室退出的完成正静放后的工件，并将工件输送至卸料工位进行工件正面卸料。
2.如权利要求1所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，工件输送及初处理配合线至少包括180°翻转装置，该180°翻转装置，至少用于在工件正面上料后，对工件进行第一次180°翻面，使工件以反面状态进入下一工序；以及用于对完成反静放后的工件进行第二次180°翻面,使工件以正面状态进入下一工序。
3.如权利要求2所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，工件输送及初处理配合线至少还包括自动抓取移载装置以及分别位于180°翻转装置左右两侧的缓冲传送工位和组合工位，自动抓取移载装置可在缓冲传送工位、180°翻转装置、组合工位三者间自由来回移动。
4.如权利要求3所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，自动抓取移载装置包括：
移载平台，与底架相配合，可沿底架来回自由移动；
抓取平台，设于移载平台下方，可相对移载平台上下升降；
夹具，成对设于抓取平台下方，可沿抓取平台相互靠近、或相互远离，从而实现对工件的夹紧或松开。
5.如权利要求3所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，工件输送及初处理配合线至少还包括清洗设备，该清洗设备用于对正面上料后翻转至竖直状态的工件进行清洗处理。
6.如权利要求5所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，工件输送及初处理配合线至少还包括位于清洗设备与缓冲传送工位之间的90°翻转装置，该90°翻转装置至少包括：
支撑底架，
翻转调节夹紧组件，设于支撑底架上，可在夹紧完成清洗并以竖直状态输送而来的工件后相对支撑底架从竖直状态翻转至水平状态；
升降调节传输组件，设于支撑底架上，可相对支撑底架上下升降以承接翻转至水平状态的正面朝上的工件，并将工件输送至下一工位。
7.如权利要求3-6任一项所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，自动控制生产线，至少包括由前向后延伸的下平台和四工位平移升降装置；该下平台前半部分位于组合工位与真空镀膜设备之间，后半部分左侧与卸料工位和/或基片架存储工位相对；四工位平移升降装置，设于下平台上，可沿下平台前后移动，其具有两前后分布的上层传动平台以及两前后分布的下层传动平台，各传动平台可正向或反向传动，且下层传动平台可上下升降。
8.如权利要求7所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，四工位平移升降装置包括可沿下平台前后移动的行走平台、设于行走平台上的起升架以及设于起升架上的所述上层传动平台和下层传动平台，上层传动平台和下层传动平台可在起升架的带动下上下升降；其中，上层传动平台包括靠前的上层第一传动平台以及靠后的上层第二传动平台；下层传动平台包括位于上层第一传动平台下方的下层第一传动平台以及位于上层第二传动平台下方的下层第二传动平台。
9.如权利要求8所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，
自动控制生产线通过四工位平移升降装置正向输出两个工件至真空镀膜设备，该两个工件为两个待静放工件或两个待镀膜工件；以及
自动控制生产线通过四工位平移升降装置反向接收从真空镀膜设备反向输出的四个工件，该四个工件为两待静放工件和两待翻转工件或者两待静放工件和两待卸载工件；以及
自动控制生产线通过四工位平移升降装置移动至卸料工位对两待卸载工件进行卸料。
10.如权利要求1-6任一项所述的特种工件镀膜设备，其特征在于，真空镀膜生产线的真空镀膜设备，至少包括依次串联设置的：
进出片室，用于在正向接收工件后，提供真空环境，以便工件进入工艺室；或者在反向接收工件后，提供非真空环境，以便工件输出；
工艺室，用于对经由进出片室正向输送而来的两工件同时进行往复式镀膜处理，包括依次串联的第一外观检测室、第一镀膜工艺室、第一离子源室、第二离子源室、第二镀膜工艺室以及第二外观检测室；其中，第一外观检测室、第一镀膜工艺室以及第一离子源室构成真空环境下的第一工艺室，供一工件在第一工艺室内来回进行往复式镀膜；而第二外观检测室、第二镀膜工艺室以及第二离子源室构成真空环境下的第二工艺室，供另一工件在第二工艺室内来回进行往复式镀膜；
静放室，包括第一静放室和第二静放室，用于对经工艺室镀膜后正向输送而来的待静放的两工件同时进行静放处理。