%液100mL和氨水20ml并进行加热 溶解。静置之后舍去液体，并且在残渣中再次加入氯化锭10%液100mL和氨水20ml并进行加 热溶解。重复5次W上所述工序直至化0完全溶解。将最终残渣用纯水洗净并过滤后，用盐酸 进行溶解并定容至IOml，并且用ICP-AES进行定量分析。该定量值相当于ZnO粉末中的金属 性锋含量。
[00巧]AZO瓣射祀
[0076] 实施例1
[0077] 在罐中，通过氧化错球而对金属性锋的含量小于化pm且通过肥T法而测量出的比 表面积为V/g的ZnO粉末与通过BET法而测量出的比表面积为5m 2/g的Al2〇3粉末进行球磨 混合，从而制备出陶瓷原料粉末。陶瓷原料粉末中的Al2〇3粉末的含量为质量百分比5%，ZnO 粉末的含量为质量百分比95%。
[0078] 在该罐中，作为胶结剂而相对于陶瓷原料粉末添加质量百分比0.2%的丙締酸乳 剂胶结剂，作为分散剂而相对于陶瓷原料粉末添加质量百分比0.5%的聚簇酸锭，W及作为 分散介质而相对于陶瓷原料粉末添加质量百分比20%的水并进行球磨混合，从而制备出浆 料。将该浆料注入至石膏模具中，接着进行排水，从而获得成形体。
[0079] 将所获得的成形体在25°C干燥48小时后进行烧成，从而制作出烧成体。烧成在烧 成溫度1400°C、烧成时间10小时、升溫速度300°CA、降溫速度50°CA下的条件下实施。
[0080] 对所获得的烧成体进行切削加工且将表面粗糖度Ra设为0.如m，从而获得了直径 为152.4mm且厚度为6mm的AZO瓣射祀。加工中使用了#170的磨石。
[0081 ] 实施例2~4
[0082] 关于实施例2~4, W表1的方式而对陶瓷原料粉末中的Al2〇3粉末的含量进行变更 并将剩余部分设为ZnO粉末，并W除此之外全部与实施例1相同的方式而制造出与实施例1 相同尺寸的AZO瓣射祀。
[0083] 实施例5
[0084] 代替实施例1中的ZnO粉末而使用金属性锋的含量为97ppm且通过肥T法而被测量 出的比表面积为3mVg的化0粉末，并W除此之外全部与实施例1相同的方式而制造出与实 施例1相同尺寸的AZO瓣射祀。
[0085] 实施例6
[0086] 在大气中且在800°C下对金属性锋的含量为20化pm且通过邸T法而被测量出的比 表面积为3mVg的化0粉末进行预烧5小时。预烧后的化0粉末的金属性锋的含量为32ppm。代 替实施例1中的化0粉末而使用所述预烧后的化0粉末，并W除此之外全部与实施例1相同的 方式而制造出与实施例1相同尺寸的AZO瓣射祀。
[0087] 比较例1
[0088] 代替实施例1中的化0粉末而使用金属性锋的含量为20化pm且通过肥T法而被测量 出的比表面积为4m2/g的化0粉末，并W除此之外全部与实施例1相同的方式而制造出与实 施例1相同尺寸的AZO瓣射祀。
[0089] 比较例2
[0090] 代替实施例1中的ZnO粉末而使用金属性锋的含量为1200ppm且通过肥T法而被测 量出的比表面积为4m 2/g的ZnO粉末，并W除此之外全部与实施例1相同的方式而制造出与 实施例1相同尺寸的AZO瓣射祀。
[0091] IGZO 瓣射祀
[0092] 实施例7
[0093] 在罐中，通过氧化错球对金属性锋的含量小于化pm且通过肥T法而被测量出的比 表面积为V/g的ZnO粉末、与通过肥T法而被测量出的比表面积为7m 2/g的In2〇3粉末、与通 过BET法而被测量出的比表面积为IOmVg的Ga2〇3粉末进行球磨混合，从而制备出陶瓷原料 粉末。陶瓷原料粉末中的Im〇3粉末的含量为质量百分比44.2%，ZnO粉末的含量为质量百分 比25.9%，Ga2〇3粉末的含量为质量百分比29.9%。
[0094] 在该罐中，作为胶结剂而相对于陶瓷原料粉末添加质量百分比0.2%的丙締酸乳 剂胶结剂，作为分散剂而相对于陶瓷原料粉末添加质量百分比0.6%的聚簇酸锭，W及作为 分散介质而相对于陶瓷原料粉末添加质量百分比20%的水并进行球磨混合而制备出浆料。 将该浆料注入石膏模具中，接着进行排水，从而获得成形体。
[0095] 在25°C下对所获得的成形体进行干燥48小时之后，进行烧成，从而制作出烧成体。 烧成在烧成溫度1400°C、烧成时间10小时、升溫速度300°C/h、降溫速度50°C/h的条件下实 施。
[0096] 对所获得的烧成体进行切削加工且将表面粗糖度Ra设为0.7WH，从而获得了直径 为152.4mm且厚度为6mm的IGZO瓣射祀。加工中使用了#170的磨石。
[0097] 实施例8
[0098] 代替实施例7中的ZnO粉末而使用金属性锋的含量为97ppm且通过肥T法而被测量 出的比表面积为3mVg的化0粉末，并W除此之外全部与实施例7相同的方式而制造出与实 施例7相同尺寸的IGZO瓣射祀。
[0099] 实施例9
[0100] 在大气中且在800°C下对金属性锋的含量为20化pm且通过邸T法而被测量出的比 表面积为4m 2/g的化0粉末进行预烧5小时。预烧后的化0粉末的金属性锋的含量为32ppm。代 替实施例7中的化0粉末而使用所述预烧后的化0粉末，并W除此之外全部与实施例7相同的 方式而制造出与实施例7相同尺寸的IGZO瓣射祀。
[0101] 比较例3
[0102] 代替实施例7中的化0粉末而使用金属性锋的含量为2(K)ppm且通过肥T法而被测量 出的比表面积为4m2/g的化0粉末，并W除此之外全部与实施例7相同的方式而制造出与实 施例7相同尺寸的IGZO瓣射祀。
[0103] 比较例4
[0104] 代替实施例7中的ZnO粉末而使用金属性锋的含量为1200ppm且通过肥T法而被测 量出的比表面积为3mVg的ZnO粉末，并W除此之外全部与实施例7相同的方式而制造出与 实施例7相同尺寸的IGZO瓣射祀。
[0105] 【表1】
[0106]
[0107] [010 引
【主权项】
1. 一种溅射靶，其为使用金属性锌的含量为lOOppm以下的氧化锌原料而被制造出的含 有氧化锌的溅射靶。2. -种溅射靶，其为使用金属性锌的含量在lOppm以下的氧化锌原料而被制造出的含 有氧化锌的溅射靶。3. 如权利要求1或2所述的溅射靶，其为AZ0制。4. 如权利要求1或2所述的溅射靶，其为IGZ0制。5. -种溅射靶的制造方法，其包括： 使氧化锌原料的金属性锌的含量减少的工序、以及使用在所述工序中获得的金属性锌 的含量为1 OOppm以下的氧化锌原料来制造派射祀的工序。6. 如权利要求5所述的溅射靶的制造方法，其中， 使所述氧化锌原料的金属性锌的含量减少的工序为，对氧化锌原料进行热处理的工 序。
【专利摘要】本发明涉及一种溅射靶及其制造方法。所述溅射靶为使用金属性锌的含量为100ppm以下的氧化锌原料而被制造出的含有氧化锌的溅射靶。所述溅射靶的制造方法包括使氧化锌原料的金属性锌的含量减少的工序、以及使用在所述工序中获得的金属性锌的含量为100ppm以下的氧化锌原料来制造溅射靶的工序。本发明的溅射靶为含有氧化锌的溅射靶，并且在溅射过程中电弧或结块的发生较少。本发明的溅射靶的制造方法能够有效地制造出含有氧化锌并且在溅射过程中电弧或结块的发生较少的溅射靶。
【IPC分类】C23C14/34, H01L21/363
【公开号】CN105705673
【申请号】CN201480059996
【发明人】石田新太郎
【申请人】三井金属矿业株式会社
【公开日】2016年6月22日
【申请日】2014年10月14日
【公告号】WO2015068535A1