一种铽-锗-铋材料、制备方法及其应用

文档序号:10506247阅读:517来源:国知局
一种铽-锗-铋材料、制备方法及其应用
【专利摘要】本发明公开了一种铽?锗?铋材料、制备方法及其应用。它的化学式为Tb4Ge3?xBix,其中,x为Bi的含量,0.2≤x≤2.9;具有反Th3P4型立方晶体结构,空间群为I?43d。本发明提供的铽?锗?铋材料在235~350K的温度区间呈现较大磁熵变,具有较大的磁制冷能力,良好的热、磁可逆性质,且价格低廉,是理想的室温区磁制冷材料。
【专利说明】
-种铺-错-祕材料、制备方法及其应用
技术领域
[0001] 本发明设及一种磁性材料,特别设及一种铺-错-祕材料、制备方法及其应用。
【背景技术】
[0002] 传统气体压缩制冷技术已广泛应用于各行各业,但它存在制冷效率低、能耗大、破 坏大气环境等缺点。磁制冷技术是指W磁性材料为制冷工质的一种新型制冷技术。与传统 气体压缩制冷技术相比,其具有高效节能、绿色环保、稳定可靠等显著优势,被誉为高新绿 色制冷技术,其制冷原理是借助于磁制冷材料的磁热效应,即在等溫条件下,当磁场强度增 加(磁化)时磁制冷材料的磁矩趋于有序排列,磁赌降低,向外界排热;当磁化强度减弱(退 磁)时磁矩趋于无序排列,磁赌增加,磁制冷工质从外界吸热,从而达到制冷的目的。
[0003] 通常,衡量磁制冷材料磁热性能的参数主要是磁赌变和磁制冷能力(即RC,指在一 个制冷循环中可传递的热量)。按工作溫区划分,磁制冷材料可分为低溫(20KW下)、中溫 (20K~77K)、高溫(77K~270K)和室溫(270K~330K)磁制冷材料。其中,室溫磁制冷材料有 望取代含氣制冷,受到国内外研究机构及产业部口的广泛关注。目前,在该溫区研究发现的 磁制冷材料主要包括稀上Gd单晶和多晶材料,及稀±金属间化合物,如GdsSi4-xGex。但是,由 于上述磁制冷材料的相变可调溫区过低过窄(270K~310K),大的热滞后效应明显的减弱了 磁热性能,使其商业应用受到了限制。

【发明内容】

[0004] 本发明针对现有技术存在的不足,提供一种具有良好的磁、热可逆性质,且价格低 廉,适用于室溫磁制冷的铺-错-祕材料及其制备方法。
[0005] 实现本发明目的的技术方案是,提供一种铺-错-祕材料,它的化学式为化4G63-xBix,其中,X为Bi的含量,0.2含X含2.9;所述的铺-错-祕材料具有反化3P4型立方晶体 结构,空间群为I-43d。。
[0006] 本发明技术方案还包括制备如上所述的铺-错-祕材料的方法,具体步骤如下: (1) W纯度高于99.9%的化、(ie和Bi为原料,按化学式化4Ge3-xBix中各原子的百分比, 分别称取各原料,其中,X为Bi的含量,0.2 < X < 2.9;混合后得到混合原料; (2) 将步骤(1)得到的混合原料置于电弧炉或感应加热炉中,在真空度为5 X ICT2Pa~1 X 1(T中a的条件下,用纯度为99.999%的高纯氣清洗并烙炼,烙炼溫度为1200°C~1700°C, 烙炼时间为30秒~80秒;冷却后得到铸态合金; (3) 将步骤(2)得到的铸态合金进行真空退火处理;或先将步骤(2)得到的铸态合金在 甩带机中感应烙化快泽得到非晶薄带,再进行真空退火处理;所述真空退火处理的真空度 为1 X 1 〇-3化~1 X l〇-5pa,溫度为600°C~1100°C,真空退火处理的时间为1~40天; (4) 真空退火处理后泽入液氮或冰水中快速冷却,得到一种铺-错-祕材料。
[0007] 制备方法步骤(1)中,原料Bi按原子百分比计,过量添加1%~15%。
[000引本发明提供的铺-错-祕材料,可将其用作室溫磁制冷材料。
[0009]在本发明提供的制备方法中,步骤(1)中的元素 Bi按原子百分比的1%~15%的比例 过量添加,W补偿其在实验过程中的挥发和烧损,从而获得单相。步骤(2)中,由于稀±化元 素易氧化,材料制备应尽量保证在高真空环境下进行,否则会导致化合物比例失配,从而影 响成相,因此,抽真空至5 X 1〇-中aW上均可W实现本发明目的,优选在5 X 1〇-2化至1 X 1〇-3化之间。对于本领域的普通技术人员应该理解在此所说的"5 X 10-中a W上"实质上指的是 数值上低于5X1(T2化的真空度。另外,烙炼溫度也非常重要,因为如果溫度不够,材料不能 充分烙化,不能制备出需要的化合物,通常烙炼溫度需要在1200°C W上;然而如果溫度过 高,可能会加速稀±化元素的挥发,因此,介于1200°C~1700°C之间是优选的溫度条件。在 步骤(3)中,经过真空退火处理后应力得到释放,物理和化学性质将更加稳定,且适当的退 火处理也有助于材料成相,因此可W达到上述目的的其它真空度、退火溫度及时间也可W 使用;本发明优选在600°C~1100°C的溫度范围内真空退火,且更优选地在该溫度下真空退 火1~40天。另外,所述快速冷却包括将退火化4Ge3-xBix材料泽入冰水或者液氮中。
[0010] 综上所述,本发明制备的铺-错-祕材料Tb4Ge3-xBix,其中X=O . 2~2.9,它具有反 化3P4型立方晶体结构。由于铁磁-顺磁相变可随Bi含量变化,本发明提供的铺-错-祕材料在 室溫附近较宽溫区( 235K~350K)呈现较大磁赌变,具有较大磁制冷能力,其中的 化46日2.泌1日.2、化466281、化46日日.化2.庇的磁赌变峰值在0~2刊兹场变化下分别达到-4.31/ kg ? K、-2.7J/kg ? K和-2.2J/kg ? K。
[0011]与现有技术相比,本发明提供化合物的铁磁相变为二级相变,具有良好的磁、热可 逆性质,且价格低廉,是一种新型的室溫磁制冷材料。
【附图说明】
[001^ 图1为本发明实施例1、2和3分别制备的化466281、化466日.边12.9、化4662.泌1日.2晶态 化合物的室溫X射线衍射谱线; 图2为本发明实施例1制备的化4Ge2Bi晶态化合物在2000e磁场下的零场降溫和带场降 溫的热磁曲线; 图3为本发明实施例1制备的化4Ge2Bi晶态化合物的等溫磁化曲线; 图4为本发明实施例1制备的化4Ge2Bi晶态化合物的Arro tt曲线; 图5为本发明实施例1制备的化4Ge2Bi晶态化合物的等溫磁赌变对溫度的曲线; 图6为本发明实施例2制备的化4Geo.iBi2.9晶态化合物在2000e磁场下的零场降溫和带 场降溫的热磁曲线; 图7为本发明实施例2制备的化4Ge0jBi2.9晶态化合物的等溫磁赌变对溫度的曲线; 图8为本发明实施例3制备的化4G62.泌io.2晶态化合物在2000e磁场下的零场降溫和带 场降溫的热磁曲线; 图9为本发明实施例3制备的化4G62.泌io.2晶态化合物的等溫磁赌变对溫度的曲线。
【具体实施方式】
[0013] 下面结合附图和实施例对本发明技术方案作进一步的阐述。
[0014] W下各实施例中,利用荷兰帕纳科的PANalytical X'Pert Pro衍射仪测定所制备 晶态化合物的X射线衍射谱线,具体的参数设置如下:Co祀:入射波长0.1790化m;管压: 40kv;管流:35mA;扫描速率:1° /min;扫描范围2目:20°~75°。
[001引利用Quantum Desi即的MPMS-7型超导量子磁强计和PPMS-Dynacool型多功能物性 测量系统在2000e的磁场大小下测定所制备晶态化合物的热磁曲线,在0~50k0e的磁场变 化范围内测定所制备晶态化合物的等溫磁化曲线。
[0016] 实施例1 本实施例制备材料化4Ge2Bi并测定其性能。
[0017] l、Tb4Ge2Bi的制备,具体包括W下步骤: 步骤1:按化4Ge2Bi化学式(即原子比)称料,将纯度高于99.9%的市售的稀±金属化、 半导体Ge、金属Bi原料混合,其中Bi过量添加5%(原子百分比); 步骤2:将步骤1配置的原料放入电弧炉或感应加热炉中抽真空,当真空度达5 X ICT2Pa ~1 X 1〇-3化时,用纯度为99.999 %的高纯氣清洗1~2次后,再次将真空抽至5 X 1〇-申a~1 X 1(T3化时,充入高纯氣气保护,炉腔内气压为1大气压,反复翻转烙炼3~5次,烙炼溫度介 于1200°C~1700°C之间,烙炼时间为60秒; 步骤3:在铜相蜗中冷却获得铸态合金,将铸态合金用粗锥包好,密封在真空度为1 X 1〇-4化的石英管内,在溫度为Iioor的条件下退火处理14天,取出快速泽入液氮中,获得产 物化4Ge2Bi晶态化合物。或者,将铸态合金粗破碎,并装入底部带有小孔的石英管中,然后将 石英管置于甩带机腔体内的感应线圈中央,将腔体抽至高真空,通入高纯氣气。在高纯氣气 保护下通过感应加热使合金烙化,然后从石英管的顶端吹入一定气压的氣气,使得合金烙 液经过石英管底部的喷嘴喷射到高速旋转的铜漉表面上,获得非晶态的薄带状样品。最后 在密封在真空度为1 X 1(T4化的石英管中,在溫度为Iioor的条件下退火处理7天,取出快速 泽入液氮中,获得产物晶态化合物。
[001引 2 JbAGesBi的性能测定 (1化射线衍射谱线 利用X射线衍射仪测定所得化4Ge2Bi晶态化合物的室溫X射线衍射谱线,如图1所示。结 果表明,产物主相为反化3P4型立方晶体结构的化4Ge2Bi,其空间群为I-43d,晶胞参数a= 0.9072nm,V=O.7466nm3。
[0019] (2)热磁曲线 在超导量子磁强计上测定的化4Ge2Bi晶态化合物在磁场强度H=2000e下的热磁(M-T) 曲线,如图2所示。从零场降溫M-T曲线上可确定化4Ge2Bi晶态化合物的居里溫度Tc为295K。 另外,在居里溫度附近零场降溫和带场降溫的热磁曲线完全重合,表明材料的铁磁-顺磁相 变为二级相变,具有良好的热可逆性。
[0020] (3)等溫磁化曲线和Arrott曲线 图3为化4Ge2Bi晶态化合物在265K至325K之间的等溫磁化曲线,基于此,可获得Arrott 曲线,如图4所示。化合物的相变性质可由其Arrott曲线的形状来确定,通常一级相变材料 在相变溫度附近的Arrott曲线的斜率为负或者呈现S形,而二级相变材料的Arrott曲线在 相变溫度附近则呈现正斜率。从图4可W看出,居里溫度Tc附近的曲线均呈正斜率,表明 化4Ge2Bi晶态化合物为典型的二级相变材料。已知发生二级相变的材料具有良好的磁、热可 逆性,磁赌变峰较宽,有利于其在磁制冷机中的应用。
[0021] (4)磁赌变对溫度曲线和磁制冷能力 基于图3的结果,根据麦克斯韦关系:
可W从该溫度磁化曲线计算磁赌变。经计算得到化4Ge2Bi在Tc附近的磁赌变对溫度( A Sl-T)曲线,如图5所示。从图中可知,化合物在Tc附近出现大的磁赌变,其中在O~5T磁 场变化下,TbAGesBi晶态化合物的最大磁赌变分别为5.2J/kg ? K。由于利用永磁体N加'eB可 轻松获得2T的磁场,故在O~2刊兹场变化下的材料的磁赌变倍受关注。在O~2刊兹场变化下, 化4Ge2Bi晶态化合物的赌变峰值达2.7J/kg ? K。
[0022] 制冷能力(RC)是衡量材料实用价值的另一重要参数。一般地,其大小为赌变-溫度 曲线的磁赌变峰值与半高宽的乘积。从图5可知,在0~2T磁场变化下,赌变峰值达2.7J/ kg ? K,半高宽为SAKJbAGesBi晶态化合物的RC达到146 J/kg,表现出优良的刺热性能,且价 格便宜。
[0023] 实施例2 本实施例制备材料化4Ge〇. iBi2.9,并测定其性能。
[0024] 1、Il^Geo.册2.9的制备,具体包括W下步骤: 步骤1:按化4Ge〇jBi2.9化学式(即原子比)称料,将纯度高于99.9%的市售的化、66、8王 原料混合,其中Bi过量添加15%(原子百分比); 步骤2:将步骤1配置好的原料放入电弧炉或感应加热炉中抽真空,当真空度达5 X 1(T 2化~1 X l〇-中a时,用纯度为99.999%的高纯氣清洗1~2次后,再次将真空抽至5 X l〇-申a~ 1 X 1(T中a时,充入高纯氣气保护,炉腔内气压为1大气压,反复翻转烙炼3~5次,烙炼溫度介 于1200°C~1700°C之间,烙炼时间为30秒; 步骤3:在铜相蜗中冷却获得铸态合金,将铸态合金用粗锥包好,密封在真空度为1 X 10-中a的石英管内,在600°C退火处理1天,取出快速泽入液氮中,获得产物化4Ge〇jBi2.9晶态 化合物。利用真空烙体快泽方法获得非晶态的薄带状样品。薄带状样品密封在真空度为IX 10-中a的石英管中,在600°C退火处理1天,取出快速泽入冰水中,获得产物晶态化合物。
[00巧]2、Tb4Ge〇jBi2.9的性能测定 (1化射线衍射谱线 利用X射线衍射仪测定所得化4Ge〇.iBi2.9晶态化合物的室溫X射线衍射谱线,如图1所 示。结果表明,产物主相为反化3P4型立方晶体结构的化4Ge〇jBi2.9,其空间群为I-43d,晶胞 参数 a=0.9314nm,V=O. 8080nm3。
[00%] (2)热磁曲线 在磁性测量系统上测定的化4Ge〇.iBi2.9晶态化合物在磁场强度H=2000e下的热磁(M-T) 曲线,如图6所示。从零场降溫M-T曲线上可确定化4Ge〇.iBi2.9晶态化合物的居里溫度Tc为 350K;另外,在居里溫度附近零场降溫和带场降溫的热磁曲线完全重合,表明材料的铁磁-顺磁相变为二级相变,具有良好的热可逆性。
[0027] ( 3)磁赌变对溫度曲线和磁制冷能力 经计算得到化4Ge〇.iBi2.庙Tc附近的磁赌变对溫度(I A Sl-T)曲线,如图7所示。从图中 可知,化合物在Tc附近出现大的磁赌变,其中在0~5T磁场变化下,Tb4Ge〇jBi2.9晶态化合物 的最大磁赌变分别为4.2J/kg ? K。在0~2T磁场变化下,Tb4Ge〇jBi2.9晶态化合物的赌变峰 值达2.2J/kg ? K,半高宽为66K,其晶态化合物的RC达到145 J/kg。
[0028] 实施例3 本实施例制备彩礼化4G62.泌io.2并测定其性能。
[0029] 1、IlwGes. sBio. 2的制备,具体包括W下步骤: 步骤1:按化4G62.泌io.2化学式(即原子比)称料,将纯度高于99.9%的市售的化、66、8王 原料混合,其中Bi过量添加1%(原子百分比); 步骤2:将步骤1配置的原料放入电弧炉或感应加热炉中抽真空,当真空度达5 X ICT2Pa ~1 X 1〇-3化时,用纯度为99.999 %的高纯氣清洗1~2次后,再次将真空抽至5 X 1〇-申a~1 X 1(T3化时,充入高纯氣气保护,炉腔内气压为1大气压,反复翻转烙炼3~5次,烙炼溫度介 于1200°C~1700°C之间,烙炼时间为80秒; 步骤3:在铜相蜗中冷却获得铸态合金,将铸态合金用粗锥包好,密封在真空度为1 X 1〇-5化的石英管内,在1000°C退火处理40天,取出快速泽入冰水中,获得产物化4G62.泌io.2晶 态化合物。或者,利用真空烙体快泽方法获得非晶态的薄带状样品。薄带状样品密封在真空 度为1 X ICT5化的石英管中,在IOOCTC退火处理10天,取出快速泽入液氮中,获得产物晶态化 合物。
[0030] 2、Tb4Ge2.泌 io.2 的性能测定 (1化射线衍射谱线 Tb4Ge2.泌io.2晶态化合物的室溫X射线衍射谱线,如图1所示。结果表明,产物主相为反 Th3P4型立方晶体结构的Tb4Ge2.8Bi〇.2,其空间群为I-43d,晶胞参数a=0.8997nm,V= 0.7283nm3。
[0031] (2)热磁曲线 Tb4Ge2.沁io.2在磁场强度2000e下的热磁(M-T)曲线如图8所示。从热磁曲线可确定 化4G62.泌io.2的居里溫度Tc为235K。另外,在居里溫度附近零场降溫和带场降溫的热磁曲线 完全重合,表明材料的铁磁-顺磁相变为二级相变,具有良好的热可逆性。
[0032] (3)磁赌变对溫度曲线和磁制冷能力 经计算得到化4G62.泌io.2在Tc附近的磁赌变对溫度(I A S I-T)曲线,如图9所示。从图中 可知,在0~5刊兹场变化下,Tb4Ge2.泌io.2化合物在Tc附近的最大磁赌变为8.3J/kg ? K。在0~ 2T磁场变化下的磁赌变峰值达4.3J/kg ? K,半高宽为92K,其晶态化合物的RC达到396 J/ kg O
【主权项】
1. 一种铽-锗-铋材料,其特征在于:它的化学式为Tb4Ge3-xBix,其中,X为Bi的含量,0.2 < X < 2.9;所述的铽-锗-铋材料具有反1113?4型立方晶体结构,空间群为1-43(1。2. -种制备如权利要求1所述的铽-锗-铋材料的方法,其特征在于包括以下步骤: (1) 以纯度高于99.9 %的Tb、Ge和Bi为原料,按化学式Tb4Ge3-xBix中各原子的百分比,分 别称取各原料,其中,X为Bi的含量,0.2 < X < 2.9;混合后得到混合原料; (2) 将步骤(1)得到的混合原料置于电弧炉或感应加热炉中,在真空度为5 Xl(T2Pa~1 X 10-3Pa的条件下,用纯度为99.999%的高纯氩清洗并熔炼,熔炼温度为1200°C~1700°C, 熔炼时间为30秒~80秒;冷却后得到铸态合金; (3) 将步骤(2)得到的铸态合金进行真空退火处理;或先将步骤(2)得到的铸态合金在 甩带机中感应熔化快淬得到非晶薄带,再进行真空退火处理;所述真空退火处理的真空度 为1 X 10-3Pa~1 X 10-5Pa,温度为600°C~1100°C,真空退火处理的时间为1~40天; (4) 真空退火处理后淬入液氮或冰水中快速冷却,得到一种铽-锗-铋材料。3. 根据权利要求2所述的一种铽-锗-铋材料的制备方法,其特征在于:步骤(1)中原料 Bi按原子百分比计,过量添加1%~15%。4. 一种如权利要求1所述的铽-锗-铋材料的应用,其特征在于将其用作室温磁制冷材 料。
【文档编号】C09K5/14GK105861860SQ201610198054
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年3月31日
【发明人】姚金雷, 颜长, 沈娇艳
【申请人】苏州科技学院
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