抛光模面形修改装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及光学元件环抛加工辅助装置，尤其是环抛机抛光模面形修改，属于光学元件加工技术领域。
【背景技术】
[0002]目前，在光学抛光过程中，无论从机械磨削理论还是从化学抛光理论的观点来看，抛光模均起着重要的作用。抛光模不仅能够承载抛光液，保证抛光液对元件的微切削作用及化学作用，而且最重要的是修正元件的面形，使元件达到高精度。因此，抛光模本身的面形对加工元件的面形有着直接的影响。
[0003]常用的抛光模有柏油抛光模，聚氨酯抛光模等。对于柏油抛光模的修正通常是靠一个比柏油抛光模环带大且重量较大的修正盘完成。依靠大而重的修正盘对柏油抛光模的挤压，从而改变柏油抛光模的形状。这种修正盘的尺寸及重量通常靠经验选取，一旦选定无法改变，对抛光模的修正能力有限，无法对抛光模的局部区域进行精密修正，修正效率低且修正过程严重依赖加工人员的判断。而对于聚氨酯抛光模而言，通常采用金刚石修正器修正抛光模面形，通过对抛光模的磨削去除使抛光模达到特定的形状，同样无法对抛光模的局部误差进行修正，且元件的加工精度不及柏油抛光模所加工的元件精度。对于柏油抛光模及聚氨酯抛光模来说，一般整体面形可通过目前的抛光模修正装置修正到不错的精度，但对于抛光模局部误差缺乏有效地修正措施。
[0004]目前可查的文献报道和专利中，可见通过卸荷等方式减轻修正盘重量的报道，未见通过局部加压方式对抛光模进行修正的报道。
【实用新型内容】
[0005]针对上述不问题，本实用新型提供一种可以小范围快速处理环抛机抛光模面形的
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[0006]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:抛光模面形修改装置，包括支撑柱、支持架、导轨和驱动电机，导轨两端由支撑柱和支持架支撑并与其连接；还包括平移装置、施压装置和修改盘；平移装置由滑槽固定在导轨上，平移装置由驱动电机驱动；平移装置和支撑柱之间设有限位杆；施压装置经平移装置与导轨连接，施压装置下部经传压杆与修改盘连接，修改盘与传压杆之间设有水平度调整装置，其由凹槽和其中嵌入的活动轮构成。
[0007]本实用新型的有益效果是，施压装置可主动对抛光模施加压力，设计并采用了一种可变向的修改盘，且修改盘直径可变，压力可控制；解决一般的修改盘无法以主动的方式对抛光模单位面积上施加压力的问题，同时，修改盘解决了抛光模面形压力不均匀的问题，并且达到了局部定点的修改面形，实现了对抛光模面形的高精度修改，减少了环抛加工中的不确定因素，可对加工元件面形进行有效的控制，提升加工元件的加工质量和精度，并提高加工的效率，实现了局部定点修改面形，避免了抛光模矫正板整体下压修改面形所带来的低效率和不确定的结果。
【附图说明】
[0008]图1是本实用新型总体结构示意图；
[0009]图2是图1中修改盘和传压杆结构(放大)示意图；
[0010]图3是图2的正面视图；
[0011]图4是图3的A— A剖面图。
[0012]图中零部件及编号:
[0013]图中零部件以及编号
[0014]I一驱动电机，2一限位杆，3一修改盘，4一施压装置，5一平移装置，
[0015]6—导轨,7—传压杆，8—活动轮，9—修改盘，10一支撑柱，11一支持架。
【具体实施方式】
[0016]下面结合实施例对本实用新型进一步说明。
[0017]参见图1一4，抛光模面形修改装置，包括支撑柱10、支持架11、导轨6和驱动电机1，导轨6两端由支撑柱10和支持架11支撑并与其连接；还包括平移装置5、施压装置4和修改盘3 ;平移装置5由滑槽固定在导轨6上，平移装置5由驱动电机I驱动；平移装置5和支撑柱10之间设有限位杆2 ;施压装置4经平移装置5与导轨6连接，施压装置4下部经传压杆7与修改盘3连接，修改盘3与传压杆7之间设有水平度调整装置，其由凹槽9和其中嵌入的活动轮8构成。
[0018]修改盘3的直径小于抛光模环带的宽度。修改盘3的直径可调整，可主动压载在抛光模上，可对抛光模单位面积上施加压力，具有自由度调整的功能；并且修改盘3能随抛光模的转动而转动。
[0019]施压装置4为气动液压装置。对修改盘3进行垂直方向上的施压作用。施压装置4将压力传动至修改盘3，施压装置4与修改盘3被固定于平移装置5上，随平移装置5可在导轨6的范围内移动。施压装置4可转动，并且可带动修改盘3转动。
[0020]修改盘3材料为聚四氟乙烯。聚四氟乙烯为一种十分耐磨且极难变形的材料，且在磨损过程中不会产生污染。
[0021]导轨6的材料为铝型材。
[0022]平移装置5是由驱动电机I进行移动的。
[0023]施压装置4与修改盘3经平移装置5与导轨6连接，平移装置(由滑槽固定在导轨6上，平移装置5保持垂直方向上的固定，且只能在径向上运动。导轨6由支撑柱10、支持架11两端支撑；修改盘3具有传压杆7、活动轮8，修改盘3为一个凹型结构，传压杆7上端连接在施压装置4上，传压杆7下端为与压力盘3内底部的松配合，活动轮8置于传压杆7与修改盘3之间的凹槽9中，通过活动轮8的作用，使修改盘3在传压杆7的压力作用下，可以在垂直方向上有一定起伏和变形，从而达到对抛光模均匀施力的作用，传压杆7、活动轮8和修改盘3构成施压装置4的主体。
[0024]驱动电机I为精密电机。通过精密电机驱动本装置主体作径向位移。
[0025]传压杆7与修改盘3之间形成松配合，使修改盘3在受压过程中只在垂直方向上的具有一定的移动自由度。
[0026]抛光模面形修改装置的工作步骤是:
[0027]A.确定需要修改的抛光模表面区域(主要是以高出平均高度的区域作为需要修改的区域)，得到抛光模R半径位置，启动抛光设备，抛光模旋转；
[0028]B.驱动电机驱动平移装置径向移动到抛光模R半径位置并等待指令；
[0029]C.读取计算机平台里面的起伏量H与变形面积S并对修改所需的压力值F进行估算，最后对施压装置发出指令；
[0030]D.施压装置开始施压，作用于传压杆，从而作用于修改盘，开始修改面形；
[0031]E.抛光模旋转至修改盘不再覆盖于变形面积S时，施压装置减压并提升修改盘，使之下表面脱离于抛光模表面；
[0032]F.抛光模再次旋转至修改盘下表面可覆盖于变形面积S时，施压装置增压并下降修改盘，使下表面紧贴于抛光模表面；
[0033]G.依照以上方式完成对抛光模表面上所有的变形面积S的修改，完成抛光模面形修改，反馈计算机平台。
【主权项】
1.一种抛光模面形修改装置，包括支撑柱(10)、支持架(11 )、导轨(6)和驱动电机(I),导轨(6)两端由支撑柱(10)和支持架(11)支撑并与其连接；其特征在于，还包括平移装置(5)、施压装置(4)和修改盘(3);平移装置(5)由滑槽固定在导轨(6)上，平移装置(5)由驱动电机(I)驱动；平移装置(5 )和支撑柱(10 )之间设有限位杆(2 );施压装置(4 )经平移装置(5)与导轨(6)连接，施压装置(4)下部经传压杆(7)与修改盘(3)连接，修改盘(3)与传压杆(7)之间设有水平度调整装置，其由凹槽(9)和其中嵌入的活动轮(8)构成。
2.根据权利要求1所述的抛光模面形修改装置，其特征在于，所述的修改盘(3)的直径小于抛光模环带的宽度。
3.根据权利要求1所述的抛光模面形修改装置，其特征在于，所述的施压装置(4)为气动液压装置。
【专利摘要】本实用新型公开了一种抛光模面形修改装置，属于光学元件加工技术领域。它包括支撑柱、支持架、导轨和驱动电机，导轨两端由支撑柱和支持架支撑并与其连接；还包括平移装置、施压装置和修改盘；平移装置由滑槽固定在导轨上，平移装置由驱动电机驱动；平移装置和支撑柱之间设有限位杆；施压装置经平移装置与导轨连接，施压装置下部经传压杆与修改盘连接，修改盘与传压杆之间设有水平度调整装置，其由凹槽和其中嵌入的活动轮构成。本实用新型解决了抛光模面形压力不均匀的问题，实现了对抛光模面形的高精度修改，减少了环抛加工中的不确定因素，可对加工元件面形进行有效的控制，提升加工元件的加工质量和精度，并提高加工的效率，实现了局部定点修改面形。
【IPC分类】B24B13-01
【公开号】CN204277692
【申请号】CN201420707533
【发明人】马平, 游云峰, 谢磊
【申请人】成都精密光学工程研究中心
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年11月24日