一种纳米硅粉制备的加热装置的制作方法

文档序号:3469171阅读:349来源:国知局
专利名称:一种纳米硅粉制备的加热装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及纳米硅粉制备领域,且特别涉及一种纳米硅粉制备的加热装置。
背景技术
随着材料科学以及半导体工艺的发展,纳米硅粉材料在现代的生产以及生 活中扮演越来越重要的角色,为了制备纳米硅粉我们通常需要对其进行高温加 热,现有的加热设备例如采用管式炉对制备纳米硅粉的原材料进行加热。现有
管式炉的加热腔室采用4面加热硅板对腔室内部的加热管进行高温加热,然而 采用硅板进行加热周期较长且耗能十分巨大,同时由于内部加热管是固化的不 能转动受热,加上硅板加热物体不均匀,使得管内的原材料受热不均匀容易产 生质量问题。

实用新型内容
本实用新型提出一种纳米硅粉制备的加热装置,其能够对纳米硅粉制备的
原材料进行均匀加热且耗能低。
为了达到上述目的,本实用新型提出一种纳米硅粉制备的加热装置,包括
加热腔室和加热管,所述加热管可转动的穿设于所述加热腔室的两侧壁,所述
加热管的一端设置有波导管连接于微波发射装置,用于向所述加热管提供^t波
加热,其中所述加热管为柱状管内部中空用于放置加热物。
进一步的,所述加热管外部具有陶瓷管并且两者之间具有一定的间隔。 进一步的,所述陶资管与所述加热管之间的间隔为1.8cm~3.5cm。 进一步的,所述陶资管外部缠绕有紫铜管用于加热所述加热管。 进一步的,所述加热管的直径为80cm~ 120cm。 进一步的,所述加热管的旋转速率为10转/分钟~20转/分钟。进一步的,所述微波发射装置发出的微波频率为小于等于20GHz。 本实用新型提出的纳米硅粉制备的加热装置,在加热腔室两侧壁穿设有可 转动的加热管,并且加热管外部具有缠绕有紫铜管的陶资管对加热管内部的原 材料进行均匀加热,同时加热管的一端设置有波导管连接于微波发射装置,用 于向所述加热管提供微波进行进一步加热,由于采用了加热管并且转速可调, 可对纳米硅粉制备的原材料进行均匀加热且抛弃了硅板加热耗能低。


图l所示为本实用新型较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式

为了更了解本实用新型的技术内容,特举具体实施例并配合所附图式说明 如下。
本实用新型提出一种纳米硅粉制备的加热装置,其能够对纳米硅粉制备的 原材料进行均匀加热且耗能低。
请参考图1,图1所示为本实用新型较佳实施例的结构示意图。本实用新型 提出一种纳米硅粉制备的加热装置,包括加热腔室100和加热管200,所述加热 管200可转动的穿设于所述加热腔室100的两侧壁,所迷加热管200的一端设 置有波导管300连接于微波发射装置400,用于向所述加热管200提供微波加热, 其中所述加热管200为柱状管内部中空用于放置加热物纳米硅粉制备的原材料 例如二氧化硅粉。所述加热管200外部具有陶乾管300并且两者之间具有一定 的间隔,所述陶乾管300与所述加热管200之间的间隔为1.8cm~3.5cm,保证 加热管200可在陶乾管300内部自由转动。所述陶资管300外部缠绕有紫铜管 400用于加热所述加热管200,陶瓷管300用于阻隔加热管200以及紫铜管400, 防止由于紫铜管400温度过高损坏加热管200,所述紫铜管400中空内部装有循 环水用于冷却,并采用公频加热。所述加热管200的直径为80cm~ 120cm为一 般管式加热管的4被左右,这样可以放置更多的纳米硅粉制备的原材料,同时 加热管200的旋转速率为10转/分钟~ 20转/分钟,并且可由用户设置在合适的 转速,进行共振回旋加热具体按照实际工艺情况而定,以达到充分均匀加热纳米硅粉制备的原材料。所述微波发射装置400发出的微波频率为小于等于 20GHz,例如可采用2.6GHz、 6 GHz、 lOGHz、 14GHz、 18GHz等孩b皮频率, 具体按照实际工艺需要来选择,微波通过波导管300传输到加热管200中,在 具体操作工程中首先将纳米硅粉制备的原材料例如二氧化硅粉加入到加热管 200中,并抽去空气之后注入氩气以及反应气体例如氢气、氮气或者氟气等,使 用紫铜管400对加热管200均匀加热到IOOO摄氏度左右,使得二氧化硅表面电 子层变得活跃,然后再由微波发射装置400通过波导管300对纳米硅粉制备的 原材料进行进一步的加热到1500-2000摄氏度,进行相应的反应得到所需的纳 米硅粉。
综上所述,本实用新型提出的纳米硅粉制备的加热装置,在加热腔室两侧 壁穿设有可转动的加热管,并且加热管外部具有缠绕有紫铜管的陶资管对加热 管内部的原材料进行均匀加热,同时加热管的一端设置有波导管连接于微波发 射装置,用于向所述加热管提供微波进行进一步加热,由于采用了加热管并且 转速可调,可对纳米硅粉制备的原材料进行均匀加热且抛弃了硅板加热耗能低。
虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本实用新型。 本实用新型所属技术领域中具有通常知识者,在不脱离本实用新型的精神和范 围内,当可作各种的更动与润饰。因此,本实用新型的保护范围当祝权利要求 书所界定者为准。
权利要求1. 一种纳米硅粉制备的加热装置,包括加热腔室和加热管,其特征在于所述加热管可转动的穿设于所述加热腔室的两侧壁,所述加热管的一端设置有波导管连接于微波发射装置,用于向所述加热管提供微波加热,其中所述加热管为柱状管内部中空用于放置加热物。
2. 根据权利要求1所述的加热装置,其特征在于所述加热管外部具有陶瓷 管并且两者之间具有一定的间隔。
3. W^H^求2所i^^热装置,^#4£^于郞1陶炎管与所述加热管 之间的间隔为1.8cm ~ 3.5cm。
4. 根据权利要求2所述的加热装置,其特征在于所述陶瓷管外部缠绕有紫 铜管用于加热所述力。热管。
5. 根据权利要求1所述的加热装置,其特征在于所述加热管的直径为 80cm~ 120cm。
6. 根据权利要求1所述的加热装置,其特征在于所述加热管的旋转速率为 10转/分钟~ 20转/分钟。
7. 根据权利要求1所述的加热装置,其特征在于所述孩i波发射装置发出的 微波频率为小于等于20GHz。
专利摘要本实用新型提出一种纳米硅粉制备的加热装置,包括加热腔室和加热管,所述加热管可转动的穿设于所述加热腔室的两侧壁,所述加热管的一端设置有波导管连接于微波发射装置,用于向所述加热管提供微波加热,其中所述加热管为柱状管内部中空用于放置加热物。本实用新型能够对纳米硅粉制备的原材料进行均匀加热且耗能低。
文档编号C01B33/02GK201305466SQ20082015441
公开日2009年9月9日 申请日期2008年10月23日 优先权日2008年10月23日
发明者俞月明, 亮 夏 申请人:俞月明;夏 亮
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