技术总结
本发明是关于低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃，涉及石英玻璃制备领域，主要目的在于制备羟基含量较低的石英玻璃。石英玻璃的制备方法包括：由含硅原料经化学气相沉积制得第一二氧化硅疏松体，所述第一二氧化硅疏松体内具有气孔和羟基；对所述第一二氧化硅疏松体通入脱羟基气流，并在脱羟基温度下，使所述脱羟基气流对第一二氧化硅疏松体脱羟基后，获得第二二氧化硅疏松体；对所述第二二氧化硅疏松体在烧结温度下进行烧结，冷却后，获得石英玻璃成品。本发明中第一二氧化硅疏松体是纳米二氧化硅颗粒的聚集体，第一二氧化硅疏松体中包含大量气孔，有利第一二氧化硅疏松体中羟基的脱除，获得的石英玻璃成品中羟基含量较低，可在1ppm～50ppm或小于1ppm。
技术研发人员：聂兰舰;向在奎;饶传东;王蕾;刘飞翔;邵竹锋;王慧;王宏杰;贾亚男;符博;张辰阳;王玉芬
受保护的技术使用者：中国建筑材料科学研究总院
文档号码：201610798092
技术研发日：2016.08.31
技术公布日：2017.02.22