湿式制程设备的制作方法

本实用新型涉及一种湿式制程设备，特别是涉及一种可在制程中减少对基板的磨耗及可对基板进行双面制程的湿式制程设备。

背景技术：

一般来说，业界多采用湿式制程来对触控面板的玻璃基板进行加工，湿式制程例如为将玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清先制程进行表面清洗等。当玻璃基板在进行上述的湿式制程时，多利用滚轮同时对玻璃基板的板体及从板体延伸的侧边部进行固定与输送。因此，在玻璃基板与滚轮接触的一面，滚轮容易对玻璃基板(包含板体及从板体延伸的侧边部)磨耗，另外玻璃基板与滚轮接触的一面也因滚轮的设置而无法有效进行湿式制程，即公知利用滚轮对玻璃基板进行固定与输送的作法，仅可对玻璃基板进行单面制程。

技术实现要素：

因此，本实用新型提供一种可在制程中减少对基板的磨耗及可对基板进行双面制程的湿式制程设备，以解决上述问题。

为了达成上述目的，本实用新型公开一种湿式制程设备，可用以支撑一基板，所述基板具有一板体部及一侧边部，所述侧边部延伸于所述板体部，所述板体部具有一上表面及相对所述上表面的一下表面，所述湿式制程设备包含一槽体、多个导轮、多个液浮载板以及一水路模块，所述槽体用以容置所述基板，所述多个导轮设置在所述槽体内，所述多个导轮对应所述侧边部并用以支撑所述基板的所述侧边部，所述多个液浮载板设置在所述下表面下方，所述多个液浮载板用以对所述下表面喷射一处理液，以在所述下表面与所述多个液浮载板间形成一薄膜层流，所述薄膜层流用以液浮支撑所述板体部，所述水路模块耦接于所述多个液浮载板，所述水路模块控制所述多个液浮载板产生能沿一输送方向流动的所述薄膜层流或产生能沿相反于所述输送方向的一回复方向流动的所述薄膜层流。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述水路模块包含多个第一斜行水流通道以及多个第二斜行水流通道，所述多个第一斜行水流通道的走向斜交于所述输送方向与所述回复方向，所述多个第一斜行水流通道用以将所述处理液以一第一出水方向喷出，所述第一出水方向与所述输送方向的内积值大于零，所述多个第二斜行水流通道的走向斜交于所述输送方向与所述回复方向，所述多个第二斜行水流通道用以将所述处理液以一第二出水方向喷出，所述第二出水方向与所述回复方向的内积值大于零。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述水路模块还包含一供水泵、一第一水路以及一第二水路，所述供水泵用以供给所述处理液，所述第一水路连接所述多个第一斜行水流通道与所述供水泵，所述供水泵所供给的所述处理液通过所述第一水路进入所述多个第一斜行水流通道，所述第二水路连接所述多个第二斜行水流通道与所述供水泵，所述供水泵所供给的所述处理液通过所述第二水路进入所述多个第二斜行水流通道。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述水路模块还包含一第一止水阀以及一第二止水阀，所述第一止水阀耦接于所述第一水路，所述第一止水阀用以选择性地阻止所述供水泵所供给的所述处理液通过所述第一水路进入所述多个第一斜行水流通道，所述第二止水阀耦接于所述第二水路，所述第二止水阀用以选择性地阻止所述供水泵所供给的所述处理液通过所述第二水路进入所述多个第二斜行水流通道。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述多个第一斜行水流通道形成在一部分的所述多个液浮载板上，且所述多个第二斜行水流通道形成在另一部分的所述多个液浮载板上。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述部分的所述多个液浮载板与所述另一部分的所述多个液浮载板交错设置。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述多个第一斜行水流通道与所述多个第二斜行水流通道分别形成在各液浮载板上。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述水路模块包含多个第一循环水流通道以及多个第二循环水流通道，所述多个第一循环水流通道用以选择性地将所述处理液喷出或吸入，所述多个第二循环水流通道用以选择性地将所述处理液喷出或吸入，当所述多个第一循环水流通道喷出所述处理液时，所述多个第二循环水流通道吸入所述多个第一循环水流通道所喷出的所述处理液，使所述处理液通过所述多个第一循环水流通道与所述多个第二循环水流通道产生沿所述输送方向流动的所述薄膜层流，当所述多个第二循环水流通道喷出所述处理液时，所述多个第一循环水流通道吸入所述多个第二循环水流通道所喷出的所述处理液，使所述处理液通过所述多个第二循环水流通道与所述多个第一循环水流通道产生沿所述回复方向流动的所述薄膜层流。

根据本实用新型其中之一实施方式，所述水路模块还包含一第一供水泵、一第一水路、一第二供水泵以及一第二水路，所述第一供水泵用以供给所述处理液或将所述处理液吸入，所述第一水路连接所述多个第一循环水流通道与所述第一供水泵，所述第一供水泵所供给的所述处理液通过所述第一水路进入所述多个第一循环水流通道，或所述第一供水泵将所述处理液通过所述第一水路由所述多个第一循环水流通道吸入，所述第二供水泵用以供给所述处理液或将所述处理液吸入，所述第二水路连接所述多个第二循环水流通道与所述第二供水泵，所述第二供水泵所供给的所述处理液通过所述第二水路进入所述多个第二循环水流通道，或所述第二供水泵将所述处理液通过所述第二水路由所述多个第二循环水流通道吸入。

综上所述，本实用新型湿式制程设备的导轮仅对应基板的侧边部，而基板的板体部是利用液浮载板所产生的薄膜层流来液浮支撑，因此本实用新型湿式制程设备的导轮便不会接触基板的板体部，进而减少对基板的板体部的磨耗。除此之外，本实用新型湿式制程设备的液浮载板所喷射的处理液可为一蚀刻液或一清洗液，也即本实用新型湿式制程设备除了可利用一水刀喷头(未绘示在图中)对基板的板体部的上表面进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本实用新型湿式制程设备也可利用液浮载板对基板的板体部的下表面喷射处理液，以对板体部的下表面也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本实用新型湿式制程设备达到对基板进行双面湿式制程的目的。有关本实用新型的前述及其他技术内容、特点与功效，在以下配合参考附图的实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。

附图说明

图1为本实用新型第一实施例湿式制程设备的俯视示意图。

图2为图1所示的湿式制程设备沿剖面线X-X且处在第一液浮态样的剖视示意图。

图3为本实用新型第一实施例湿式制程设备处在第二液浮态样的剖视示意图。

图4为本实用新型第二实施例湿式制程设备处在第一液浮态样的剖视示意图。

图5为本实用新型第二实施例湿式制程设备处在第二液浮态样的剖视示意图。

图6为本实用新型第三实施例湿式制程设备处在第一液浮态样的剖视示意图。

图7为本实用新型第三实施例湿式制程设备处在第二液浮态样的剖视示意图。

其中，附图标记说明如下：

1000、1000'、1000”湿式制程设备

1 基板

10 板体部

101 上表面

102 下表面

11 侧边部

2 槽体

20 入口

21 出口

3 导轮

4 液浮载板

5、5' 水路模块

50 第一斜行水流通道

51 第二斜行水流通道

52 供水泵

53、5A 第一水路

54、5C 第二水路

55 第一止水阀

56 第二止水阀

57 第一循环水流通道

58 第二循环水流通道

59 第一供水泵

5B 第二供水泵

6 处理液

6' 薄膜层流

X1 输送方向

X2 回复方向

Y1 第一出水方向

Y2 第二出水方向

X-X 剖面线

具体实施方式

以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本实用新型。请参阅图1以及图2，图1为本实用新型第一实施例一湿式制程设备1000的俯视示意图，图2为图1所示的湿式制程设备1000沿剖面线X-X且处在一第一液浮态样的剖视示意图。如图1以及图2所示，湿式制程设备1000可用以支撑一基板1，基板1具有一板体部10及一侧边部11，侧边部11延伸于板体部10，板体部10具有一上表面101及相对于上表面101的一下表面102。在此实施例中，基板1可为一触控面板的玻璃基板，而湿式制程设备1000可用以对所述玻璃基板进行一湿式制程，所述湿式制程例如可为将所述玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清先制程进行表面清洗等。

另外，湿式制程设备1000包含一槽体2、多个导轮3、多个液浮载板4以及一水路模块5，槽体2用以容置基板1，多个导轮3设置在槽体2内，且多个导轮3对应基板1的侧边部11并用以支撑侧边部11，多个液浮载板4设置在板体部10的下表面102下方，且多个液浮载板4用以对下表面102喷射一处理液6，以在下表面102与多个液浮载板4间形成一薄膜层流6'，其中薄膜层流6'可用以液浮支撑基板1的板体部10，水路模块5耦接于多个液浮载板4，水路模块5控制多个液浮载板4产生能沿一输送方向X1流动的薄膜层流6'或产生能沿相反于输送方向X1的一回复方向X2流动的薄膜层流6'，其中输送方向X1为如图1所示由虚线所绘示的基板1往由实线所绘示的基板1移动的方向。另外，槽体2上形成有一入口20及一出口21，使导轮3可将基板1通过入口20送入槽体2内，或使导轮3可将基板1通过出口21送出槽体2外。

综上所述，本实用新型湿式制程设备1000的液浮载板4所产生的薄膜层流6'可液浮支撑基板1的板体部10，且本实用新型湿式制程设备1000的导轮3可支撑基板1的侧边部11，进而使基板1可稳固地在槽体2内进行湿式制程。另外，本实用新型湿式制程设备1000的导轮3仅对应基板1的侧边部11，而基板1的板体部10是利用液浮载板4所产生的薄膜层流6'来液浮支撑，因此本实用新型湿式制程设备1000便可减少对基板1的板体部10的接触，进而减少对基板1的板体部10的磨耗。除此之外，本实用新型湿式制程设备1000的液浮载板4所喷射的处理液6可为一蚀刻液或一清洗液，也即本实用新型湿式制程设备1000除了可利用一水刀喷头(未绘示在图中)对基板1的板体部10的上表面101进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本实用新型湿式制程设备1000也可利用液浮载板4对基板1的板体部10的下表面102喷射处理液6，以对板体部10的下表面102也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本实用新型湿式制程设备1000达到对基板1进行双面湿式制程的目的。

请参阅图1至图3，图3为本实用新型第一实施例湿式制程设备1000处在一第二液浮态样的剖视示意图。如图1至图3所示，水路模块5包含多个第一斜行水流通道50、多个第二斜行水流通道51、一供水泵52、一第一水路53、一第二水路54、一第一止水阀55以及一第二止水阀56，各第一斜行水流通道50的走向斜交于输送方向X1与回复方向X2，使第一斜行水流通道50可用以将处理液6以一第一出水方向Y1喷出，其中第一出水方向Y1与输送方向X1的内积值大于零，即第一出水方向Y1在输送方向X1的投影分量与输送方向X1同向。各第二斜行水流通道51的走向斜交于输送方向X1与回复方向X2，使第二斜行水流通道51可用以将处理液6以一第二出水方向Y2喷出，其中第二出水方向Y2与回复方向X2的内积值大于零，即第二出水方向Y2在回复方向X2的投影分量与回复方向X2同向。

另外，供水泵52用以供给处理液6，第一水路53连接第一斜行水流通道50与供水泵52，使供水泵52所供给的处理液6能通过第一水路53进入第一斜行水流通道50，第二水路54连接第二斜行水流通道51与供水泵52，使供水泵52所供给的处理液6能通过第二水路54进入第二斜行水流通道51。第一止水阀55耦接于第一水路53，且第一止水阀55可用以选择性地阻止供水泵52所供给的处理液6通过第一水路53进入第一斜行水流通道50，第二止水阀56耦接于第二水路54，且第二止水阀56可用以选择性地阻止供水泵52所供给的处理液6通过第二水路54进入第二斜行水流通道51。

如图2所示，当第一止水阀55开启而第二止水阀56关闭时，第一止水阀55不阻止供水泵52所供给的处理液6能通过第一水路53进入第一斜行水流通道50，因此第一斜行水流通道50便可将处理液6以第一出水方向Y1喷出，而第二止水阀56阻止供水泵52所供给的处理液6通过第二水路54进入第二斜行水流通道51，因此第二斜行水流通道51便无处理液6供应。此时，由第一斜行水流通道50以第一出水方向Y1喷出的处理液6便可在板体部10的下表面102与液浮载板4间形成沿输送方向X1流动的薄膜层流6'，使基板1能被薄膜层流6'带动而往输送方向X1移动。

反之，如图3所示，当第一止水阀55关闭而第二止水阀56开启时，第一止水阀55阻止供水泵52所供给的处理液6能通过第一水路53进入第一斜行水流通道50，因此第一斜行水流通道50便无处理液6供应，而第二止水阀56不阻止供水泵52所供给的处理液6通过第二水路54进入第二斜行水流通道51，因此第二斜行水流通道51便可将处理液6以第二出水方向Y2喷出。此时，由第二斜行水流通道51以第二出水方向Y2喷出的处理液6便可在板体部10的下表面102与液浮载板4间形成沿回复方向X2流动的薄膜层流6'，使基板1能被薄膜层流6'带动而往回复方向X2移动。这样一来，本实用新型湿式制程设备1000便在槽体2内将基板1沿输送方向X1移动，或本实用新型湿式制程设备1000也可在槽体2内将基板1沿输送方向X1与回复方向X2作往复运动，以增加湿式制程的作用时间，端视实际需求而定。

在此实施例中，第一斜行水流通道50是形成在一部分的液浮载板4上，第二斜行水流通道51是形成在另一部分的液浮载板4上，且所述部分的液浮载板4与所述另一部分的液浮载板4彼此交错，即第一斜行水流通道50与第二斜行水流通道51是形成在不同的液浮载板4上，且形成有第一斜行水流通道50的液浮载板4与形成有第二斜行水流通道51的液浮载板4彼此交错设置。而本实用新型第一斜行水流通道50与第二斜行水流通道51的设置可不局限在此实施例附图所绘示。

举例来说，请参阅图4以及图5，图4为本实用新型第二实施例一湿式制程设备1000'处在一第一液浮态样的剖视示意图，图5为本实用新型第二实施例湿式制程设备1000'处在一第二液浮态样的剖视示意图。如图4以及图5所示，湿式制程设备1000'与上述湿式制程设备1000的主要不同处在，湿式制程设备1000'的第一斜行水流通道50与第二斜行水流通道51分别形成在各液浮载板4上，即湿式制程设备1000'的各液浮载板4上分别形成有第一斜行水流通道50与第二斜行水流通道51。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。

请参阅图6以及图7，图6为本实用新型第三实施例一湿式制程设备1000”处在一第一液浮态样的剖视示意图，图7为本实用新型第三实施例湿式制程设备1000”处在一第二液浮态样的剖视示意图。如图6以及图7所示，湿式制程设备1000”的一水路模块5'包含多个第一循环水流通道57、多个第二循环水流通道58、一第一供水泵59、一第一水路5A、一第二供水泵5B以及一第二水路5C，第一循环水流通道57用以选择性地将处理液6喷出或吸入，第二循环水流通道58用以选择性地将处理液6喷出或吸入，第一供水泵59与第二供水泵5B用以供给处理液6或将处理液6吸入，第一水路5A连接第一循环水流通道57与第一供水泵59，使第一供水泵59所供给的处理液6能通过第一水路5A进入第一循环水流通道57，或者是第一供水泵59能将处理液6通过第一水路5A由第一循环水流通道57吸入，第二水路5C连接第二循环水流通道58与第二供水泵5B，使第二供水泵5B所供给的处理液6能通过第二水路5C进入第二循环水流通道58，或者是第二供水泵5B能将处理液6通过第二水路5C由第二循环水流通道58吸入。而此实施例与上述实施例中具有相同标号的组件，其具有相同的结构设计与作用原理，为求简洁，在此不再赘述。

综上所述，当第一循环水流通道57喷出处理液6时，第二循环水流通道58可用以吸入第一循环水流通道57所喷出的处理液6，使处理液6通过第一循环水流通道57与第二循环水流通道58产生沿输送方向X1流动的薄膜层流6'，这样基板1便能被薄膜层流6'带动而往输送方向X1移动。另一方面，当第二循环水流通道58喷出处理液6时，第一循环水流通道57可用以吸入第二循环水流通道58所喷出的处理液6，使处理液6通过第二循环水流通道58与第一循环水流通道57产生沿回复方向X2流动的薄膜层流6'，这样基板1便能被薄膜层流6'带动而往回复方向X2移动。

相较现有技术，本实用新型湿式制程设备的导轮仅对应基板的侧边部，而基板的板体部是利用液浮载板所产生的薄膜层流来液浮支撑，因此本实用新型湿式制程设备的导轮便不会接触基板的板体部，进而减少对基板的板体部的磨耗。除此之外，本实用新型湿式制程设备的液浮载板所喷射的处理液可为一蚀刻液或一清洗液，也即本实用新型湿式制程设备除了可利用一水刀喷头(未绘示在图中)对基板的板体部的上表面进行蚀刻或清洗等的湿式制程外，本实用新型湿式制程设备也可利用液浮载板对基板的板体部的下表面喷射处理液，以对板体部的下表面也进行蚀刻或清洗等的湿式制程，从而使本实用新型湿式制程设备达到对基板进行双面湿式制程的目的。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。