一种硅锭中杂质的剔除装置的制作方法

本实用新型涉及硅晶制作设备领域，特别是一种硅锭中杂质的剔除装置。

背景技术：

多晶硅主要采用定向凝固的方式制造，即将硅料装在石英坩埚内，在装料的过程中，不可避免会有其他物质进入硅料，造成使硅料不纯的杂质，在真空炉内用电阻加热的方式将硅料融化，然后从底部冷却，硅液从坩埚底部开始向上逐渐凝固，最后得到多晶硅锭。在逐渐凝固的过程中，将硅料中存在的杂质逐渐向上排除，最后将杂质留在硅锭的顶部。

硅料杂质会造成硅料不纯，降低硅锭品质，影响切片后的电池效率。现有工艺对于顶部杂质即使能够肉眼观察到也无法去除，只能将顶皮截取后进行回炉提纯，二次提纯的硅料由于顶部杂质过多只能做报废处理，造成了硅料的浪费，并且。

利用高压水刀或高压水枪原理为由高压气管的气体吹动水管中的水，由枪头控制方向，形成高压水流。现在市场上的高压水枪为5-6MPa，不足以将硅锭中的杂质去除，而高压水刀压力在25-100MPa，此压力会对硅锭本身造成伤害。

技术实现要素：

实用新型目的，本实用新型针对上述现有的硅锭中杂质的剔除装置容易损坏硅料并且功能较少的问题，而提供了一种硅锭中杂质的剔除装置，其可以进行水液混合，成喷雾状喷出，喷雾具有稀释液体的作用并且附带一定压强，还可控制气管压强以随时变化喷雾压力。

本实用新型所要解决的问题是由以下技术方案实现的：

提供了一种硅锭中杂质的剔除装置，包括支撑臂，其还包括高压气筒和高压水桶，在支撑臂上固定有喷头，所述的高压气管通过输气管与喷头相接通，所述的高压水桶与通过输液管与输气管相接通，输气管与输液管之间的夹角为锐角。

进一步的，所述的喷头包括进液管、软管、摆动球和喷嘴，所述的进液管的出液端连接有软管，喷嘴连接在软管的出液端，软管具有球形腔，摆动球位于球形腔内，摆动球上开有进液孔。

进一步的，所述的摆动球为中空球体，在摆动球上开有多个倾斜的进液孔。

进一步的，所述的摆动球上还开有倾斜的第一开口和第二开口，第一开口与第二开口口径相同，第一开口的口径大于进液孔的内径。

进一步的，还包括支撑底座，所述的支撑臂配装在支撑底座上。

进一步的，所述的支撑臂由主支撑臂和副支撑臂组成，主支撑臂枢接在底座上，副支撑臂枢接在主支撑臂上。

本实用新型相对于现有而言具有的有益效果：

通过将气路作为主通道，液路作为副通道，将液体汇入气路，进而流经喷头，在摆动球不同倾角的作用下，驱动摆动球，使得喷嘴自动上下滑移，以自动喷涂坩埚，具有良好的剔除杂质效果。

摆动球自动滑移，无需借助外力，节约资源，喷涂效果好。

当需要单独剔除时可以借助固定件锁紧喷嘴，以剔除杂质。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型喷头示意图。

其中，底座1、主支撑臂3、喷头4、输气管5、副支撑臂6、气筒7、高压水桶8。

进液管4a、软管4b、摆动球4c、喷嘴4d。

具体实施方式

参照图1、图2所示，提供了一种硅锭中杂质的剔除装置，包括支撑臂、支撑底座、高压气筒7、高压水桶8，所述的支撑臂配装在支撑底座上，在支撑臂上固定有喷头4，所述的支撑臂由主支撑臂3和副支撑臂6组成，在主支撑臂与副支撑臂的枢接点配装有用于驱动副支撑臂的驱动电机，在主支撑臂与支撑底座的枢接点配装有用于驱动主支撑臂的驱动电机，主支撑臂枢接在底座1上，副支撑臂枢接在主支撑臂上，所述的高压气管通过输气管5与喷头相接通，所述的高压水桶通过输液管与输气管相接通，输气管与输液管之间的夹角为锐角。

所述的喷头包括进液管4a、软管4b、摆动球4c和喷嘴4d，所述的进液管的出液端连接有软管，喷嘴连接在软管的出液端，软管具有球形腔，摆动球位于球形腔内，摆动球上开有进液孔，所述的摆动球为中空球体，在摆动球上开有多个倾斜的进液孔，所述的摆动球上还开有倾斜的第一开口和第二开口，第一开口与第二开口口径相同，第一开口的口径大于进液孔的内径。

以下根据附图对本实用新型做进一步说明：

在使用过程中优先通入高压气体，待高压气管贯通后，压入液体，液体进入气路在高压气体的冲击下逐渐分离，并喷发至喷头处，经过摆动球时，在摆动球斜向的进液孔尤其是第一开口和第二开口的驱动下，上下摆动，因此支撑臂可以周向旋转，即可清洗坩埚内壁。当需要指向性喷气时，由支撑臂上的驱动电机驱动主支撑臂和副支撑臂至适当位置，并用固定件锁紧喷头。

以上实施案例的说明只是用于帮助理解本实用新型，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。