技术总结
本实用新型公开了一种生长石墨烯的装置，包括反应腔、进气机构和真空抽气机构，所述反应腔内固定设置有用于将反应腔分为生长室和匀气室的匀气筛，所述生长室内固定设置有层层叠加的生长基底，所述进气机构和真空抽气机构均通过电磁阀与匀气室连通。本实用新型能使各层生长基底之间的气流均匀分布，解决了石墨烯生长过程中各层生长基底之间气流均一性差的问题。
技术研发人员：牟舜禹;高华;尹天平;何洪泉
受保护的技术使用者：德阳烯碳科技有限公司
文档号码：201720073313
技术研发日：2017.01.21
技术公布日：2017.08.22