本实用新型涉及一种薄膜结构，尤其涉及一种用于手机等数码产品玻璃盖板的高透薄膜结构。
背景技术：
随着科学技术的发展，产品朝向智能化发展是一大发展趋势。产品的智能化往往需要显示屏幕进行交互，现有技术中，产品显示屏幕上的玻璃盖板往往采用保护膜进行保护，以避免其发生刮花等损伤情况，但现有的保护膜存在硬度低、透明度不好造成透光率低、难于大规模量产等问题。如：普通玻璃基材光线透过率在91％～92％，现有AS，AF镀膜技术镀膜后整体透过率会降低到90％～91.5％。
因此，现有技术存在缺陷，需要改进。
技术实现要素：
本实用新型的目的是克服现有技术的不足，提供一种用于手机等数码产品玻璃盖板的高透薄膜结构。
本实用新型的技术方案如下：本实用新型提供一种用于玻璃盖板的高透薄膜结构，包括：基材层、形成于所述基材层上的弹性过渡层、形成于所述弹性过渡层的硬质层、形成于所述硬质层上的高密度层、形成于所述高密度层上的低密度层以及形成于所述低密度层上的疏水性材料层。
所述弹性过渡层为氧化铝层。
所述高密度层为氮化硅层。
所述低密度层为氮化硅层。
所述疏水性材料层的厚度为5-15纳米。
所述基材层为陶瓷材料层或者玻璃材料层。
采用上述方案，本实用新型提供一种用于玻璃盖板的高透薄膜结构，其具有以下优点：
1、材料硬度高，远大于10HB，可以达到莫氏5～7级；
2、透明度好，可达91.8％，光线透过率可以达到91.5％～92.5％；
可以用中频磁控溅射的设备实现规模量产，且质量稳定。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例，对本实用新型进行详细说明。
请参阅图1，本实用新型提供一种用于玻璃盖板的高透类金刚石薄膜结构，包括：基材层2、形成于所述基材层2上的弹性过渡层4、形成于所述弹性过渡层4的硬质层6、形成于所述硬质层6上的高密度层8、形成于所述高密度层8上的低密度层10以及形成于所述低密度层10上的疏水性材料层12。
在本实施例中，所述弹性过渡层4为氧化铝层，所述高密度层8与低密度层10均为氮化硅层。所述疏水性材料层12的厚度为5-15纳米。所述基材层2为陶瓷材料层或者玻璃材料层，优选采用陶瓷材料层，硬度高。
本实用新型提供的高透薄膜结构可以采用中频磁控溅射的设备进行大规模量产，质量稳定。
综上所述，本实用新型提供一种用于玻璃盖板的高透薄膜结构，其具有以下优点：
3、材料硬度高，远大于10HB，可以达到莫氏5～7级；
4、透明度好，可达91.8％，光线透过率可以达到91.5％～92.5％；
5、可以用中频磁控溅射的设备实现规模量产，且质量稳定。
以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。