本发明涉及硬盘微晶玻璃领域，具体为一种计算机硬盘基板用微晶玻璃及制备方法。
背景技术
随着计算机硬盘向大容量、高转速、小体积等方向发展，对硬盘基板的要求越来越高，如弹性模量>110gpa，表面粗糙度<05nm。
目前，制造硬盘基板的材料主要有nip/al合金、强化玻璃与微晶玻璃。nip/al合金因其延展性的影响，存在翘曲、变形的问题，所以难以加工出高光滑的表面，将逐渐为微晶玻璃所替代；微晶玻璃是将特定组成的玻璃经过热处理工艺晶化后形成的一种多晶固体，它具有耐冲击、不变形、表面光滑、平直度和机械强度高等优点。但该材料微观组成中的结晶相与玻璃相的结构、化学成分都不相同，显微硬度非常高，一般认为较难加工出亚纳米级光滑表面。
硬盘微晶玻璃基板是一种新型盘基材料，采用微晶玻璃基板可以提高硬盘的记录密度和存取速度。与目前通用的铝基板相比，微晶玻璃基板在硬度、强度等机械性能和力学指标上具有明显优势，是硬盘基板的发展方向。
但是，现有的硬盘基板用的微晶玻璃存在以下缺陷：
(1)结构较为简单，且微晶玻璃因本身强度不高，因此在硬盘遭受外力冲击的时候容易破碎，且微晶玻璃在硬盘里面处于密封状态时，不利于微晶玻璃的散热，从而影响硬盘的读取和存储速度；
(2)微晶玻璃制作成型后，表面凹凸不平，通常需要打磨，化学抛光的抛光剂比较昂贵，成本较高，普通的打磨抛光盘对微晶玻璃进行抛光的质量也不好，影响硬盘整体质量和性能。
技术实现要素：
为了克服现有技术方案的不足，本发明提供一种计算机硬盘基板用微晶玻璃及制备方法，微晶玻璃外侧安装的空气过滤条、防潮密封条能分别避免外界的气体、潮气、水分进入微晶玻璃，散热硅胶层、缓冲硅胶层能对微晶玻璃进行散热保护、缓冲保护，延长了使用寿命，抛光处理步骤中，纳米金刚石的辅助抛光作用提高了抛光效率，增加了微晶玻璃的表面平整度，能有效的解决背景技术提出的问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种计算机硬盘基板用微晶玻璃，包括微晶玻璃块，所述微晶玻璃块侧面粘贴有空气过滤条，所述空气过滤条外侧通过缓冲硅胶层粘接有防潮密封条。
进一步地，所述空气过滤条通过散热硅胶层粘在微晶玻璃块的侧面，所述空气过滤条包括过滤棉条，所述过滤棉条内嵌有若干活性炭颗粒。
进一步地，所述防潮密封条的端剖面呈“匚”字形，且防潮密封条的一侧通过粘胶层与微型玻璃块相连接。
进一步地，所述防潮密封条上设有矩形通槽。
一种计算机硬盘基板用微晶玻璃的制备方法，利用铁尾矿为主要原料制作微晶玻璃，微晶玻璃的原料按重量百分比分为：尾矿63.3％，氧化铝2.6％，菱镁矿10.2％，方解石16.1％，硼酸2.6％，碳酸钡1.4％，纯碱3.8％，且由铁尾矿制作的微晶玻璃原料的化学成分百分比为：sio257.1％，al2o37.9％，b2o21.8％，fe2o36.5％，cao12.8％，mgo7.0％，bao1.4％，n＝na204.5％，k2o1.0％。
进一步地，微晶玻璃的生产过程包括如下步骤：
s100、配置原料，将原料的各种配合料均匀混合在一起；
s200、将混合的原料送入融化坩埚内熔化；
s300、将熔化的原料送入水淬装置进行水淬操作，水淬后的原料再放入研磨机中研磨；
s400、对原料进行烧结和晶化处理，得到成型的微晶玻璃；
s500、对微晶玻璃进行抛光处理，最后对微晶玻璃进行切割，使微晶玻璃的形状和尺寸符合硬盘基板上微晶玻璃的要求。
进一步地，所述熔化原料操作步骤如下：
s201、将氧化铝坩埚放入硅钼棒电炉中；
s202、将硅钼棒电炉的温度升至1300℃；
s203、先将混合原料等量分为若干份，然后将第一份原料放入坩埚，以后每20分钟向坩埚内加一份原料，直至所有原料均放入坩埚内；
s204、将硅钼棒电炉的温度升至1500℃，恒温保持40-70min，使玻璃液澄清。
进一步地，所述水淬操作包括如下步骤：
s301、将熔化的玻璃液导引入水淬装置中，水淬装置中流动的水将玻璃液淬冷呈2-6mm大小的颗粒；
s302、将颗粒放入烘干机和筛分机中进行烘干和筛分，然后将玻璃颗粒以一定质量和厚度铺在耐火材料制作的模框内，送入高炉进行烧结。
进一步地，所述烧结和晶化处理包括如下步骤：
s401、玻璃颗粒随模框进入高温炉后，使高炉以300℃/h的升温速度从室温升至800-960℃，保持温度2h，使玻璃颗粒烧结和核化；
s402、再将高炉的温度升至1100-1150℃保温一定时间，使玻璃表面摊平并晶化；
s403、使高炉熄火，并使成型玻璃随高炉自然冷却，冷却至室温后，使微型玻璃脱模。
进一步地，所述抛光处理包括如下步骤：
s501、在微晶玻璃的抛光面涂上一层含有纳米金刚石颗粒的抛光剂；
s502、将微晶玻璃固定在打磨盘的正下方，使微晶玻璃的抛光面与打磨盘上下对应；
s503、打磨盘旋转并对微晶玻璃的抛光磨面进行打磨；
s504、打磨完一个面对微晶玻璃进行清洗干燥，然后再对微晶玻璃的其他抛光面进行打磨。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
(1)本发明的微晶玻璃外侧安装的空气过滤条、防潮密封条能分别避免外界的气体、潮气、水分进入微晶玻璃，从而保证了微晶玻璃的安全的工作环境，且散热硅胶层、缓冲硅胶层能对微晶玻璃进行散热保护、缓冲保护，微晶玻璃在硬盘内更加安全，使用寿命更长；
(2)本发明的对微晶玻璃的抛光处理步骤中，先在抛光剂内均匀添加适量的纳米金刚石颗粒，然后使抛光剂将纳米金刚石粘在微晶玻璃的抛光面上，金刚石能起到辅助打磨的作用，不仅可以提高打磨抛光效率，且由于纳米金刚石的超细、超硬的特性使抛光精细度更高，微晶玻璃表面更平整。
附图说明
图1为本发明的微晶玻璃的剖视结构示意图；
图2为本发明的微晶玻璃的制备方法流程图。
图中标号：
1-微晶玻璃块；2-空气过滤条；3-缓冲硅胶层；4-防潮密封条；5-散热硅胶层；6-粘胶层；7-矩形通槽；
21-过滤棉条；22-活性炭颗粒。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1和图2所示，本发明提供了一种计算机硬盘基板用微晶玻璃，一种计算机硬盘基板用微晶玻璃，包括微晶玻璃块1，微晶玻璃块1侧面粘贴有空气过滤条2，空气过滤条2通过散热硅胶层5粘在微晶玻璃块1的侧面，散热硅胶层5便于微晶玻璃因硬盘工作而产生的热量散发出去，防潮密封条4上设有矩形通槽7，便于散热。
空气过滤条2包括过滤棉条21，过滤棉条21内嵌有若干活性炭颗粒22。过滤棉条21和活性炭颗粒22既能吸附空气中的腐蚀气体，也能吸收空气中的潮气、灰尘，从而避免了微晶玻璃被污染、腐蚀或潮湿，从而保证了微晶玻璃的良好性能，且过滤棉条21也方便了散热。
空气过滤条2外侧通过缓冲硅胶层3粘接有防潮密封条4，缓冲硅胶层3能给微晶玻璃提供一定的缓冲防护，在硬盘遭受冲击力或振动力的时候，微晶玻璃不会碎裂，延长了玻璃的使用寿命。
防潮密封条4防止水分从硬盘外侵袭到微晶玻璃板上而使玻璃凝水，从而避免了微晶玻璃工作不正常的情况。防潮密封条4的端剖面呈“匚”字形，且防潮密封条4的一侧通过粘胶层6与微型玻璃块1相连接，保证了防潮密封条4的连接稳定性，增大了防水防护面积。
另外本发明还提供了一种计算机硬盘基板用微晶玻璃的制备方法，微晶玻璃的生产过程包括如下步骤：
s100、配置原料，将原料的各种配合料均匀混合在一起，利用铁尾矿为主要原料制作微晶玻璃，微晶玻璃的原料按重量百分比分为：尾矿63.3％，氧化铝2.6％，菱镁矿10.2％，方解石16.1％，硼酸2.6％，碳酸钡1.4％，纯碱3.8％，且由铁尾矿制作的微晶玻璃原料的化学成分百分比为：sio257.1％，al2o37.9％，b2o21.8％，fe2o36.5％，cao12.8％，mgo7.0％，bao1.4％，n＝na204.5％，k2o1.0％。
s200、将混合的原料送入融化坩埚内熔化，熔化原料操作步骤如下：
s201、将氧化铝坩埚放入硅钼棒电炉中；
s202、将硅钼棒电炉的温度升至1300℃；
s203、先将混合原料等量分为若干份，然后将第一份原料放入坩埚，以后每20分钟向坩埚内加一份原料，直至所有原料均放入坩埚内；
s204、将硅钼棒电炉的温度升至1500℃，恒温保持40-70min，使玻璃液澄清。
s300、将熔化的原料送入水淬装置进行水淬操作，水淬后的原料再放入研磨机中研磨，水淬操作包括如下步骤：
s301、将熔化的玻璃液导引入水淬装置中，水淬装置中流动的水将玻璃液淬冷呈2-6mm大小的颗粒，然后在研磨机中将玻璃颗粒研磨光滑，使玻璃颗粒更易被烧结；
s302、将颗粒放入烘干机和筛分机中进行烘干和筛分，然后将玻璃颗粒以一定质量和厚度铺在耐火材料制作的模框内，送入高炉进行烧结。
s400、对原料进行烧结和晶化处理，得到成型的微晶玻璃，烧结和晶化处理包括如下步骤：
s401、玻璃颗粒随模框进入高温炉后，使高炉以300℃/h的升温速度从室温升至800-960℃，保持温度2h，使玻璃颗粒烧结和核化；
s402、再将高炉的温度升至1100-1150℃保温一定时间，使玻璃表面摊平并晶化；
s403、使高炉熄火，并使成型玻璃随高炉自然冷却，冷却至室温后，使微型玻璃脱模。
s500、对微晶玻璃进行抛光处理，最后对微晶玻璃进行切割，使微晶玻璃的形状和尺寸符合硬盘基板上微晶玻璃的要求，抛光处理包括如下步骤：
s501、在微晶玻璃的抛光面涂上一层含有纳米金刚石颗粒的抛光剂；
s502、将微晶玻璃固定在打磨盘的正下方，使微晶玻璃的抛光面与打磨盘上下对应；
s503、打磨盘旋转并对微晶玻璃的抛光磨面进行打磨；
s504、打磨完一个面对微晶玻璃进行清洗干燥，然后再对微晶玻璃的其他抛光面进行打磨。
本发明提供的微晶玻璃的生产步骤大致可以总结为：原料的筛选与配备、混合、熔化原料、水淬、研磨、烧结、晶化、抛光和切割。本发明对微晶玻璃生产方法最大的改动之处即对微晶玻璃的抛光处理步骤，先在抛光剂内均匀添加适量的纳米金刚石颗粒，然后使抛光剂将纳米金刚石粘在微晶玻璃的抛光面上，在微晶玻璃接受打磨盘打磨抛光的时候，金刚石也能起到辅助打磨的作用，不仅可以提高打磨抛光效率，且由于纳米金刚石的超细、超硬的特性使微晶玻璃的抛光表面粗糙度达到1nm，从而使抛光精细度更高，微晶玻璃表面更平整。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。