抗蚀剂树脂及其制造方法与流程

文档序号:12480843阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种聚酰胺酸,其以下述通式(1)表示:

[化1]

式中,

R1和R2分别独立地表示单键、碳原子数为1~5的亚烷基、碳原子数为2~5的亚烯基或碳原子数为6~10的亚芳基;

R3和R4分别独立地表示氢原子、碳原子数为1~5的烷基、碳原子数为2~5的烯基、碳原子数为6~10的芳基或卤原子;

n表示0~20的整数;

Y表示除了二羧酸的羧基或二羧酸酐的酸酐基以外的残基;以及

Z表示除了四羧酸的羧基或四羧酸二酐的酸酐基以外的残基。

2.如权利要求1所述的聚酰胺酸,其中,

Y为除了选自由马来酸、琥珀酸、衣康酸、邻苯二甲酸、四氢邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸、甲基内亚甲基四氢邻苯二甲酸、氯菌酸、甲基四氢邻苯二甲酸、偏苯三酸和戊二酸组成的组中的二羧酸的羧基或它们的酸酐的酸酐基以外的残基。

3.如权利要求1或2所述的聚酰胺酸,其中,

Z为除了选自由均苯四酸、二苯甲酮四羧酸、联苯四羧酸、氧双邻苯二甲酸、二苯砜四羧酸、乙二醇双偏苯三酸酯和丁烷四羧酸组成的组中的四羧酸的羧基或它们的二酸酐的酸酐基以外的残基。

4.一种聚酰亚胺,其以下述通式(2)表示,并且通过将权利要求1所述的聚酰胺酸闭环而得到,

[化2]

式中,

R1和R2分别独立地表示单键、碳原子数为1~5的亚烷基、碳原子数为2~5的亚烯基或碳原子数为6~10的亚芳基;

R3和R4分别独立地表示氢原子、碳原子数为1~5的烷基、碳原子数为2~5的烯基、碳原子数为6~10的芳基或卤原子;

n表示0~20的整数;

Y表示除了二羧酸的羧基或二羧酸酐的酸酐基以外的残基;以及

Z表示除了四羧酸的羧基或四羧酸二酐的酸酐基以外的残基。

5.如权利要求4所述的聚酰亚胺,其中,

Y为除了选自由马来酸、琥珀酸、衣康酸、邻苯二甲酸、四氢邻苯二甲酸、六氢邻苯二甲酸、甲基内亚甲基四氢邻苯二甲酸、氯菌酸、甲基四氢邻苯二甲酸、偏苯三酸和戊二酸组成的组中的二羧酸的羧基或它们的酸酐的酸酐基以外的残基。

6.如权利要求4或5所述的聚酰亚胺,其中,

Z为除了选自由均苯四酸、二苯甲酮四羧酸、联苯四羧酸、氧双邻苯二甲酸、二苯砜四羧酸、乙二醇双偏苯三酸酯和丁烷四羧酸组成的组中的四羧酸的羧基或它们的二酸酐的酸酐基以外的残基。

7.一种聚酰胺酸的制造方法,其为权利要求1~3中任一项所述的聚酰胺酸的制造方法,该制造方法包括使含有芴骨架的二胺与二羧酸或其酸酐以及四羧酸或其二酸酐反应的工序。

8.如权利要求7所述的制造方法,其中,

二羧酸或其酸酐与四羧酸或其二酸酐为1:99~90:10的摩尔比。

9.一种聚酰亚胺的制造方法,其包括通过权利要求7或8所述的制造方法得到聚酰胺酸后进一步进行闭环的工序。

10.一种抗蚀剂树脂组合物,其含有权利要求1~3中任一项所述的聚酰胺酸和/或权利要求4~6中任一项所述的聚酰亚胺。

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