新型钌化合物、其制备方法、包含其的膜沉积用前体组合物及利用前体组合物的膜沉积方法与流程

技术特征：

1.一种钌化合物，所述钌化合物由下列化学式1表示：

[化学式1]

在所述化学式1中，

R¹至R⁴分别独立地包括H(氢原子)或者C_1-5烷基，其中，C_1-5烷基为直链或支链的C_1-5烷基，

n为0至3的整数。

2.根据权利要求1所述的钌化合物，其中，所述直链或支链的C_1-5烷基包括选自由甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基、新戊基、3-戊基及其异构体组成的组中的烷基。

3.根据权利要求1所述的钌化合物，其中，n为0，R¹至R⁴分别独立地包括H或者选自由甲基、乙基、异丙基和叔丁基组成的组中的烷基。

4.根据权利要求1所述的钌化合物，其中，所述钌化合物包括选自由(对异丙基甲苯)(1,3-丁二烯)钌、(对异丙基甲苯)(异戊二烯)钌、(对异丙基甲苯)(2,5-二甲基-1,3-己二烯)钌和(对异丙基甲苯)(1,5-己二烯)钌组成的组中的化合物。

5.一种钌化合物的制备方法，所述钌化合物为根据权利要求1至4中任一项所述的钌化合物，所述制备方法包括：

如下列反应式1所示，在含有碳原子数为5以下的伯醇或仲醇的有机溶剂中，使含有由下列化学式2表示的[RuX₂(对异丙基甲苯)]₂化合物、由M₂CO₃表示的碱金属碳酸盐和由下列化学式3表示的二烯烃中性配体的混合物反应，以获得下列化学式1的钌化合物：

[化学式1]

[化学式2]

[化学式3]

[反应式1]

在这些式中，

M包括Li、Na或K，

X包括Cl、Br或I，

R¹至R⁴和n分别与在权利要求1中定义的R¹至R⁴和n相同。

6.根据权利要求5所述的钌化合物的制备方法，其中，所述伯醇或仲醇包括选自由甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、正戊醇、异戊醇及其组合组成的组中的醇。

7.一种用于沉积含钌膜的前体组合物，所述前体组合物包含根据权利要求1至4中任一项所述的钌化合物。

8.一种含钌膜沉积方法，包括利用根据权利要求7所述的用于沉积含钌膜的前体组合物形成含钌膜。

9.根据权利要求8所述的含钌膜沉积方法，其中，通过有机金属化学气相沉积法(MOCVD)或原子层沉积法(ALD)沉积所述膜。