微生物培养设备的制作方法

文档序号:12430476阅读:452来源:国知局
微生物培养设备的制作方法与工艺

本实用新型涉及微生物培养领域,特别是涉及一种微生物培养设备。



背景技术:

一般需光藻菌微生物的培养基是赋予有机碳源(有机质污水)或无机盐做为养料或培养基,并照射自然光或以人工光照来作培养,但因接近培养设备光源处,能获得充足光线照射的培养菌体浓度过高产生与设备结壁现象,造成对远离光源,光线照射不足的培养菌体的浓度又偏低等情形。接触光源不均匀,对所培养收集的培养液中所含的需光藻菌菌数,以及有效成分的含量显着降低。传统的需光藻菌培养方式,以人工方式避免或刮除结壁,人工作业劳动强度大。



技术实现要素:

本实用新型的目的是提供一种结构简单、成本低、劳动强度低、生产效率高、所需光源条件低,且适用于批量化生产需光藻菌群的微生物培养设备。

为解决上述技术问题,作为本实用新型的一个方面,提供了一种微生物培养设备,包括:透光培养容器;传动框架,可枢转地安装在透光培养容器内;用于清理透光培养容器内壁的刮除部,安装在传动框架上;驱动单元,与刮除部连接,驱动单元驱动传动框架在透光培养容器内转动。

优选地,微生物培养设备还包括:反光容器,透光培养容器置于反光容器内;光源,安装在反光容器与透光培养容器之间的间隙内。

优选地,反光容器与透光培养容器均为圆筒状结构。

优选地,光源包括多个发光组件,每个发光组件包括多个发光单元,发光单元的发光方向朝向反光容器的内壁。

优选地,多个发光组件沿反光容器的周向均匀分布。

优选地,传动框架包括四个依次首尾连接的梁,其中,四个梁中的两个水平地设置,四个梁中的另外两个竖直地设置,竖直地设置的两个梁上分别设置有一个刮除部。

优选地,刮除部为刮除刷。

优选地,发光单元为日光灯。

优选地,反光容器的内壁采用不锈钢抛光而成。

优选地,驱动单元包括电机和减速器,电机通过减速器驱动传动框架转动。

由于采用了上述技术方案,本实用新型通过刮除部的刮除作用,使得接近透光培养容器的内壁处不会产生结壁现象,因而,大大减少了劳动强度、提高了生产效率、减少了占地面积,且易于管理。

附图说明

图1示意性示出了本实用新型的结构示意图。

图2示意性示出了本实用新型的立体结构示意图。

图中附图标记:1、透光培养容器;2、传动框架;3、刮除部;4、反光容器;5、光源;6、发光单元;7、电机;8、减速器。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明,但是本实用新型可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。

请参考图1和图2,本实用新型提供了一种微生物培养设备,其且适用于批量化生产需光藻菌群的培养设备。

该微生物培养设备包括:透光培养容器1;传动框架2,可枢转地安装在透光培养容器1内;用于清理透光培养容器1内壁的刮除部3,安装在传动框架2上;驱动单元,与刮除部3连接,驱动单元驱动传动框架2在透光培养容器1内转动。优选地,刮除部3为刮除刷。优选地,刮除部3为4~6cm长的毛刷,同时兼具混合液体的搅拌效果。

由于采用了上述技术方案,本实用新型通过刮除部3的刮除作用,使得接近透光培养容器1的内壁处不会产生结壁现象,因而,大大减少了劳动强度、提高了生产效率、减少了占地面积,且易于管理。

优选地,微生物培养设备还包括:反光容器4,透光培养容器1置于反光容器4内;光源5,安装在反光容器4与透光培养容器1之间的间隙内。采用外部容器反射光源5发出的光,可避免光源过度集中于发光元件附近的问题,并可减少光源数量,确保扩大增殖的效果。进一步地,也消除了光源条件对生产的影响,确保扩大培养的效果。

优选地,反光容器4与透光培养容器1均为圆筒状结构。经过多次试验发现,采用圆筒状结构使得刮除后透光效果最好。

优选地,光源5包括多个发光组件,每个发光组件包括多个发光单元6,发光单元6的发光方向朝向反光容器的内壁。优选地,发光单元6为日光灯。优选地,多个发光组件沿反光容器4的周向均匀分布。优选地,每个日光灯的功率为40W。反光容器4反射光源的光,以避免光源过度集中于发光单元6附近。

优选地,传动框架2包括四个依次首尾连接的梁,其中,四个梁中的两个水平地设置,四个梁中的另外两个竖直地设置,竖直地设置的两个梁上分别设置有一个刮除部3。这样,两根刮除部3与透光培养容器1的内壁接触,确保在均匀刮除时因摩擦阻力对称可以平衡转动。

优选地,反光容器4的内壁采用不锈钢抛光而成。

优选地,驱动单元包括电机7和减速器8,电机7通过减速器8驱动传动框架2转动。采用减速器8使搅拌组件运行更加平稳,减少刮除部3与透光培养容器1之间的设备磨损。例如,驱动单元可以固定地安装在透光培养容器1的顶部。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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