本发明涉及一种清洗剂，特别涉及一种玻璃清洗粉剂和该玻璃清洗粉剂的制备方法和使用方法。
背景技术：
玻璃是一种常用的透明材料，可用于生产各种玻璃制品。玻璃清洗剂是用于清洗玻璃表面油污的产品，玻璃清洗剂在人们的日常生活中有着广泛的应用。
现有技术中的玻璃清洗剂产品主要成分是表面活性剂，略带碱性或具中性，现有技术中的玻璃清洗剂大都为水剂类产品，使用时产品用量较多，相应地增加了使用成本，同时，水剂类产品运输不便，增加运输成本。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明的第一个目的在于提出一种玻璃清洗粉剂，完成了从水剂到粉剂的转变，不仅用量少的同时可以保证效果，而且粉剂储存和运输方便，环保不易泄露。
此外，本发明的第二个目的在于提出了上述玻璃清洗粉剂的制备方法。
本发明的第三个目的在于提出了上述玻璃清洗粉剂的使用方法。
为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案予以实现：
一种玻璃清洗粉剂，包括如下百分含量的组分：
进一步地，所述的玻璃清洗粉剂还包括0-5％的氟化钠。
进一步地，所述的阻垢缓蚀剂为羟基乙叉二膦酸二钠。
进一步地，所述的无机碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾中的至少一种。
本发明的玻璃清洗粉剂的制备方法，包括如下步骤：
s1、首先通过粉碎机对无机碱进行粉碎研磨成10-200目的粉末；
s2、通过搅拌机搅拌条件下，依次加入阻垢缓蚀剂、无机碱、次氮基三乙酸钠、甲酸钠，并搅拌20-40分钟至均匀即得。
进一步地，所述步骤s2中还加入了氟化钠，所述氟化钠加入顺序在甲酸钠之后。
本发明的玻璃清洗粉剂的使用方法，包括如下步骤：
先将玻璃清洗粉剂加入到水中配成0.5-3％的质量浓度，在45-70℃的条件下进行超声清洗。
进一步地，超声清洗时间为60-150秒。
本发明与现有技术相比具有的有益效果为：
1、本发明取消了表面活性剂、阴离子、阳离子的使用；
2、本发明用粉剂取代现有技术中的水剂，便于存储和运输，不仅环保还不易泄露；
3、本发明粉剂产品用量更少，降低使用成本，相比水剂用量可省10％以上；
4、本发明用于玻璃清洗，配合超声清洗，清洗后返工率低，正常情况下水剂的返工率为0.5％，本发明的粉剂返工率是0.1-0.2％。
具体实施方式
为让本领域的技术人员更加清晰直观的了解本发明，下面将对本发明作进一步的说明。
实施例1
一种玻璃清洗粉剂，包括如下百分含量的组分：
本实施例的玻璃清洗粉剂的制备方法，包括如下步骤：
s1、首先通过粉碎机对氢氧化钠进行粉碎研磨成10-200目的粉末；
s2、通过搅拌机搅拌条件下，依次加入羟基乙叉二膦酸二钠、氢氧化钠、次氮基三乙酸钠、甲酸钠，并搅拌20-40分钟至均匀即得玻璃清洗粉剂，将粉剂用外编内塑包装袋按25公斤每包标装。
玻璃清洗粉剂在使用时，先将玻璃清洗粉剂加入到水中配成0.5-3％的质量浓度，在45-70℃的条件下进行超声清洗，超声清洗时间为60-150秒。该玻璃清洗粉剂可用于(手机、平板电脑、导航、游戏机等)玻璃盖板深加工、钢化膜深加工、摄像头深加工、智能面板深加工、车载面板等玻璃件清洗。对玻璃基板、ito膜、af/as/ar均无腐蚀，对油污、扫光分、指纹、灰尘及金属颗粒等污染物质具有很强的浮化和络化性能。
实施例2
一种玻璃清洗粉剂，包括如下百分含量的组分：
本实施例的玻璃清洗粉剂的制备方法，包括如下步骤：
s1、首先通过粉碎机对碳酸钠进行粉碎研磨成10-200目的粉末；
s2、通过搅拌机搅拌条件下，依次加入羟基乙叉二膦酸二钠、碳酸钠、次氮基三乙酸钠、甲酸钠、氟化钠，并搅拌20-40分钟至均匀即得玻璃清洗粉剂，将粉剂用外编内塑包装袋按25公斤每包标装。
该玻璃清洗粉剂的使用方法同实施例1。
实施例3
一种玻璃清洗粉剂，包括如下百分含量的组分：
本实施例的玻璃清洗粉剂的制备方法，包括如下步骤：
s1、首先通过粉碎机对氢氧化钾进行粉碎研磨成10-200目的粉末；
s2、通过搅拌机搅拌条件下，依次加入羟基乙叉二膦酸二钠、氢氧化钾、次氮基三乙酸钠、甲酸钠，并搅拌20-40分钟至均匀即得玻璃清洗粉剂，将粉剂用外编内塑包装袋按25公斤每包标装。
该玻璃清洗粉剂的使用方法同实施例1。
实施例4
一种玻璃清洗粉剂，包括如下百分含量的组分：
本实施例的玻璃清洗粉剂的制备方法，包括如下步骤：
s1、首先通过粉碎机对氢氧化钾进行粉碎研磨成10-200目的粉末；
s2、通过搅拌机搅拌条件下，依次加入羟基乙叉二膦酸二钠、氢氧化钾、次氮基三乙酸钠、甲酸钠，并搅拌20-40分钟至均匀即得玻璃清洗粉剂，将粉剂用外编内塑包装袋按25公斤每包标装。
该玻璃清洗粉剂的使用方法同实施例1。
上述对实施例的描述是为便于该技术领域的普通技术人员能理解和应用本发明。熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对这些实施例做出各种修改，并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此，本发明不限于这里的实施例，本领域技术人员根据本发明的揭示，对于本发明做出的改进和修改都应该在本发明的保护范围之内。