技术特征：
1.制造流动池的方法，所述方法包括：形成核心层，所述核心层设置在基底和纳米孔层之间，所述纳米孔层具有纳米孔以接收样品，所述核心层具有比所述基底和所述纳米孔层高的折射率；和使用纳米压印形成光栅以将光耦合到所述核心层。2.根据权利要求1所述的方法，其中在与形成所述光栅共同的过程中形成所述核心层。3.根据权利要求1所述的方法，其中在与形成所述光栅不同的过程中形成所述核心层。4.根据权利要求3所述的方法，其中通过纳米压印将所述光栅形成到所述基底上，将所述核心层形成到所述光栅上，并且将所述纳米孔层形成到所述核心层上。5.根据权利要求3所述的方法，其中将所述光栅形成到所述基底上，将所述核心层形成到所述光栅上，将附加层形成到所述核心层上，并且将所述纳米孔层形成到所述附加层上。6.根据权利要求5所述的方法，其中在形成所述纳米孔之前，所述附加层和所述纳米孔层最初没有所述纳米孔，所述方法还包括在所述附加层保持完整的情况下将所述纳米孔层图案化以形成所述纳米孔，并随后将所述纳米孔层的图案转移到所述附加层，以暴露所述纳米孔中的所述核心层。7.根据权利要求6所述的方法，其中通过蚀刻转移所述图案。8.根据权利要求1所述的方法，其中将所述核心层形成到所述基底上，并且其中将所述光栅和所述纳米孔层形成到所述核心层上。9.根据权利要求3所述的方法，其中将所述核心层形成到所述基底上，将所述光栅形成到所述核心层上，并且将所述纳米孔层形成到所述光栅上。10.根据权利要求3所述的方法，其中将所述核心层形成到所述基底上，将第一层形成到所述核心层上，将第二层形成到所述第一层上，并且其中将所述光栅和所述纳米孔分别形成到所述第一层和第二层中。11.根据权利要求3所述的方法，其中将所述核心层形成到所述基底上，将树脂层形成到所述核心层上，并且将所述光栅和所述纳米孔形成到所述树脂层中。12.根据权利要求1
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3、8或10中的任一项所述的方法，其中在相同的过程中形成所述光栅和所述纳米孔层。13.根据权利要求12所述的方法，其中在所述流动池的同一层中形成所述光栅和所述纳米孔层。14.根据权利要求12所述的方法，其中在流动池的分开的层中形成所述光栅和所述纳米孔层。15.使用前述权利要求中任一项的方法制造的流动池，其包括：基底；具有纳米孔以接收样品的纳米孔层；核心层，其设置在所述基底和所述纳米孔层之间，所述核心层具有比所述基底和所述纳米孔层高的折射率；和将光耦合到所述核心层的光栅。16.根据权利要求15所述的流动池，其中所述光栅被设置在所述基底上方，所述核心层被设置在所述光栅上方，并且所述纳米孔层被设置在所述核心层上方。17.根据权利要求16所述的流动池，其中光栅层覆盖所述基底，所述光栅层包括所述光
栅。18.根据权利要求15所述的流动池，其中包括所述光栅的第一树脂层被设置在所述基底上方，并且包括所述纳米孔的第二树脂层被设置在所述第一树脂层上方。19.根据权利要求15所述的流动池，其中所述光栅被设置在所述基底上方，第一聚合物层被设置在所述光栅上方，并且第二聚合物层被设置在所述第一聚合物层上方，其中所述纳米孔被设置在所述第一和第二聚合物层中。20.根据权利要求15所述的流动池，其中所述核心层被设置在所述基底上方，树脂层被设置在所述核心层上方，并且所述光栅和纳米孔被设置在所述树脂层中。21.根据权利要求15所述的流动池，其中所述核心层被设置在所述基底上方，所述光栅被设置在所述核心层上方，并且所述纳米孔层被设置在所述光栅上方。22.根据权利要求21所述的流动池，其中光栅层覆盖核心层，所述光栅层包括所述光栅。23.根据权利要求15所述的流动池，其中所述核心层被设置在所述基底上方，聚合物层被设置在所述核心层上方，并且树脂层被设置在所述聚合物层上方，其中所述光栅被设置在所述聚合物层中，并且其中所述纳米孔被设置在所述树脂层中。24.根据权利要求15所述的流动池，其中聚合物层被设置在所述基底上方，并且树脂层被设置在所述聚合物层上方，其中所述光栅被设置在所述聚合物层中，并且其中所述纳米孔被设置在所述树脂层中。