1.一种助剂母粒，其特征在于，所述助剂母粒的原料包括树脂基材、高熔点助剂及低熔点助剂；其中，所述高熔点助剂的熔点＞40℃，所述低熔点助剂的熔点≤40℃。
2.根据权利要求1所述的助剂母粒，其特征在于，所述低熔点助剂在室温下为液体或膏体，或者为熔点≤40℃的固体；优选地，所述高熔点助剂的熔点大于80℃，更优选大于100℃，进一步优选大于150℃，进一步优选大于200℃。
3.根据权利要求1或2所述的助剂母粒，其特征在于，所述低熔点助剂为熔点≤40℃的耐候助剂，优选为熔点≤40℃的光稳定剂；
4.根据权利要求3所述的助剂母粒，其特征在于，所述受阻胺类光稳定剂或其组合物选自癸二酸二(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)酯与叔丁基过氧化氢与辛烷的反应产物、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯、双(1,2,2,6,6,-五甲基-4-哌啶基)葵二酸酯与单(1,2,2,6,6,-五甲基-4-哌啶基)葵二酸酯的混合物、双(2,2,6,6-四甲基-1-十一烷氧基-4-基)-碳酸酯2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯与3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸正十六酯的混合物中的一种或多种。
5.根据权利要求3所述的助剂母粒，其特征在于，所述紫外线吸收剂选自苯并三氮唑类紫外线吸收剂、氰基丙烯酸酯类紫外线吸收剂、苯甲脒类紫外线吸收剂、二苯甲酮类紫外线吸收剂、羟苯基三嗪类紫外线吸收剂、草酰苯胺类紫外线吸收剂或水杨酸酯类紫外线吸收剂中的一种或多种；更优选地，所述紫外线吸收剂选自3-(3-(2h-苯并三唑-2-基)-5-叔丁基--4-羟基苯基)丙酸甲酯和peg 300的反应产物、3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸十六烷基酯、2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸-2'-乙基己酯、n-(乙氧基羰基苯基)-n'-甲基-n'-苯基甲脒中的一种或多种。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的助剂母粒，其特征在于，所述高熔点助剂为有机物和/或无机物，优选所述高熔点助剂为高分子材料助剂；更优选地，所述高熔点助剂为相对分子质量大于500的高分子材料有机助剂，进一步优选为相对分子质量大于600的高分子材料有机助剂；进一步优选所述高熔点助剂选自三[2.4-二叔丁基苯基]亚磷酸酯、1,3,5-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1h,3h,5h)-三酮、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、聚乙烯蜡中的一种或多种；
7.根据权利要求1至6中任一项所述的助剂母粒，其特征在于，按照重量份计，所述助剂母粒的原料包括30～70份的所述树脂基材、0.1～30份的所述高熔点助剂及30～70份的所述低熔点助剂；
8.根据权利要求1至7中任一项所述的助剂母粒，其特征在于，所述低熔点助剂为2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯、2,2,6,6-四甲基-4-哌啶硬脂酸酯与3,5-二叔丁基-4-羟基苯甲酸正十六酯的混合物中的一种或多种，所述树脂基材为聚乙烯或聚丙烯，所述高熔点助剂为三[2.4-二叔丁基苯基]亚磷酸酯、1,3,5-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)-1,3,5-三嗪-2,4,6(1h,3h,5h)-三酮、1,3,5-三甲基-2,4,6-三(3,5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、聚乙烯蜡中的一种或多种；
9.根据权利要求1至9中任一项所述的助剂母粒，其特征在于，所述助剂母粒经由所述原料依次通过螺杆挤出、制粒、干燥、冷却形成，优选所述制粒采用水下切粒，其操作温度为190～230℃；优选地，所述高分子材料助剂母粒的粒径为1～5mm。
10.一种权利要求1至9中任一项所述的助剂母粒在高分子材料中的应用。