具有改善的耐溶剂性的聚合物涂层的制作方法

专利名称：具有改善的耐溶剂性的聚合物涂层的制作方法
技术领域：
本发明涉及包括导电聚合物和三聚氰胺衍生物的涂层、它们的制备和应用，以及用于制备这样的涂层的分散体。
背景技术：
根据文献(参见，例如，EP-A 440 957)，用于制备导电或抗静电涂层的聚(3，4-亚烷基二氧基噻吩)分散体是已知的。这样的分散体用于制备导电或抗静电涂层。然而，在实践中已发现来自这样的分散体的涂层对于实际应用并不总是足够地稳定。尤其是，所述涂层对于溶剂和/或机械应力常常不够稳定。
因此试图通过添加交联剂例如基于环氧硅烷的交联剂来改善涂层对溶剂和/或机械应力的抗性(参见EP-A 564911)。然而，在很多情况下该措施单独不足以充分地改善尤其是对溶剂的抗性。
因此仍旧需要与已知的涂层相比具有改善的耐溶剂性的导电或抗静电涂层，以及适用于制备这样的涂层的分散体。
因此本发明的目的是提供这样的具有改善的耐溶剂性的涂层，以及适用于其制备的分散体。

发明内容
现在已意外地发现，包括至少一种导电聚合物和至少一种三聚氰胺缩合物的分散体适合于制备具有这样改善的耐溶剂性的涂层。这更为不可思议，因为公知的是向聚(3，4-亚烷基二氧基噻吩)分散体中添加多胺通常导致导电聚合物的凝胶化和沉淀。然而，在本发明的情况下没有观察到这样的凝胶化。
因此本发明提供一种包括至少一种导电聚合物、至少一种抗衡离子和至少一种分散剂的分散体，特征在于它包括三聚氰胺与至少一种羰基化合物的至少一种缩合物。
三聚氰胺与至少一种羰基化合物的缩合物优选是三聚氰胺与醛或酮的那些。适合的醛或酮是，例如，甲醛、乙醛、丁醛、丙酮或甲基乙基酮。特别优选的醛是甲醛；三聚氰胺与至少一种羰基化合物的特别优选的缩合物是三聚氰胺-甲醛缩合物。这样的特别优选的三聚氰胺-甲醛缩合物可以是，例如，通式(II)的那些， 式中R1至R6彼此独立地表示H或CH2-OR7，基团R1至R6中的至少一个不是H，且R7表示H或直链或支链C1-C8烷基，优选H或直链或支链C1-C4烷基。
非常特别地优选，在通式(II)的这样的缩合物中的基团R1至R6都表示CH2-OR7。
而且这样特别优选的三聚氰胺-甲醛缩合物可以是通式(II)的缩合物彼此间或与另外的三聚氰胺的缩合产物。
此外所述特别优选的三聚氰胺-甲醛缩合物可以部分或全部地醚化。此外或者可选择地，所述特别优选的三聚氰胺-甲醛缩合物可通过与胺类、氨基羧酸类或亚硫酸盐反应来改性以，例如，提高在水中的溶解度，或通过与其它可与醛反应的化合物例如酚类(三聚氰胺-酚-甲醛树脂类)或脲类(三聚氰胺-脲-甲醛树脂类)共缩合来改性。
适合的三聚氰胺与至少一种羰基化合物的缩合物，尤其是任选改性和/或任选部分或完全醚化的三聚氰胺-甲醛缩合物，可通过商购获得。
三聚氰胺与至少一种羰基化合物的缩合物在所述分散体中的含量基于分散体的总重量为1～30重量％。优选，三聚氰胺与至少一种羰基化合物的缩合物在所述分散体中的含量基于分散体的总重量为2～15重量％。
这里的导电聚合物的含义应被理解为尤其是在氧化或还原之后具有导电性的π-共轭聚合物类化合物。优选，导电聚合物的含义应被理解为那些在干燥状态、在氧化后具有至少0.01S cm-1数量级的比电导率的π-共轭聚合物。
在本发明中优选那些其中至少一种导电聚合物为聚噻吩、聚苯胺或聚吡咯的分散体。
特别优选，所述导电聚合物是选自含有通式(I)的重复单元的聚亚烷基二氧基噻吩类， 式中A表示任选取代的C1-C5亚烷基，R表示直链或支链的任选取代的C1-C18烷基、任选取代的C5-C12环烷基、任选取代的C6-C14芳基、任选取代的C7-C18芳烷基、任选取代的C1-C4羟基烷基或羟基，x表示0至8的整数，且在当有数个基团R键合到A上的情况下，这些基团可以相同或不同。
通式(I)的含义应被理解为x个取代基R可以键合到亚烷基A上。
具有其中A表示任选取代的C2-C3亚烷基且x表示0或1的通式(I)的重复单元的聚噻吩类是特别优选的。
非常特别优选，至少一种导电聚合物是任选取代的聚(3，4-亚乙基二氧基噻吩)。
在本发明中，前缀“聚”的含义应被理解为在聚合物或聚噻吩中含有一个以上相同或不同的重复单元。所述聚噻吩类含有总共n个通式(I)的重复单元，其中n是2～2000、优选2～100的整数。聚噻吩中的通式(I)的重复单元可在各种情况下相同或不同。优选在各种情况下具有相同的通式(I)重复单元的聚噻吩类。
优选在每种情况下所述聚噻吩类都在端基上带有H。
在本发明的优选实施方案中，所述分散体包括至少一种含有通式(I)的重复单元、在干燥状态具有至少0.05 S cm-1优选至少0.5S cm-1数量级的比电导率的聚亚烷基二氧基噻吩。
在本发明中，C1-C5亚烷基A优选为亚甲基、亚乙基、正亚丙基、正亚丁基或正亚戊基。
C1-C4烷基优选表示直链或支链C1-C4烷基，如甲基，乙基，正或异丙基，正、异、仲或叔丁基；C1-C8烷基除此以外还表示，例如，正戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、新戊基、1-乙基丙基、环己基、环戊基、正己基、1，1-二甲基丙基、1，2-二甲基丙基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、3-甲基戊基、4-甲基戊基、1，1-二甲基丁基、1，2-二甲基丁基、1，3-二甲基丁基、2，2-二甲基丁基、2，3-二甲基丁基、3，3-二甲基丁基、1-乙基丁基、2-乙基丁基、1，1，2-三甲基丙基、1，2，2-三甲基丙基、1-乙基-1-甲基丙基或1-乙基-2-甲基丙基；及C1-C18烷基除此以外还表示，例如，正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十六烷基或正十八烷基。
在本发明中，C1-C4羟基烷基优选表示被一个或多个但优选被一个羟基取代的直链、环状、支化或非支化的C1-C4烷基。
C5-C12环烷基R表示，例如，环戊基、环己基、环庚基、环辛基、环壬基或环癸基。
C5-C14芳基R表示，例如，苯基或萘基；而C7-C18芳烷基R表示，例如，苄基，邻-、间-、对-甲苯基，2，3-、2，4-、2，5-、2，6-、3，4-或3，5-二甲苯基，或2，4，6-三甲苯基。以上所列用于举例说明本发明，而不应看作是穷举性的。
在本发明中，基团A和/或基团R的可能的任选的进一步的取代基是为数众多的有机基团，例如烷基、环烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、卤素、醚、硫醚、二硫化物、亚砜、砜、磺酸酯、氨基、醛、酮、羧酸酯(carboxylic acid ester)、羧酸、碳酸酯、羧酯(carboxylate)、氰基、烷基硅烷和烷氧基硅烷基团以及羧酰胺(carboxamide)基团。
聚苯胺或聚吡咯的可能的取代基是，例如，以下所列出的基团A和R和/或基团A和R的进一步的取代基。优选未取代的聚苯胺类和聚吡咯类。
本发明的范围包括以上给出的和在下面列出的、一般性的或在彼此间优选的范围内也就是说也在特定范围和优选范围之间的任何希望的组合中提及的所有基团定义、参数和解释。
在所述分散体中用作导电聚合物的聚噻吩类可以是中性的或阳离子的。在优选的实施方案中它们是阳离子的，“阳离子的”只是与位于聚噻吩主链上的电荷有关。取决于基团R上的取代基，聚噻吩类可以在结构单元中带有正和负电荷，正电荷在聚噻吩主链上而负电荷任选在被磺酸酯或羧酸酯基团取代的基团R上。在本文中，聚噻吩主链的正电荷可部分或完全地被任选存在于基团R上的阴离子所抵消。总的来看，在这些情况下所述聚噻吩类可以是阳离子的、中性的或者甚至是阴离子的。尽管如此，在本发明中它们都被看作是阳离子聚噻吩类，因为在聚噻吩主链上的正电荷是决定性的。在式中未示出正电荷，因为不能明确地测定它们的确切数目和位置。然而，正电荷的数目至少为1且不大于n，其中n是聚噻吩内的所有重复单元(相同或不同)的总数。
为了抵消所述正电荷，如果所述正电荷并未被任选被磺酸酯或羧酸酯取代从而带负电荷的基团R抵消，所述阳离子聚噻吩类需要阴离子作为抗衡阴离子。
抗衡离子可以是单体或聚合物阴离子，在下面也将后者称为聚阴离子。
聚合物阴离子优选单体阴离子，因为它们有助于膜形成并且由于它们的大小导致对热更稳定的导电膜。
但是，除聚合物阴离子外，所述分散体还可以包括单体阴离子。
这里的聚合物阴离子可以是，例如，聚羧酸如聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸或聚顺丁烯二酸的阴离子，或者聚磺酸如聚苯乙烯磺酸和聚乙烯磺酸的阴离子。这些聚羧酸和聚磺酸也可以是乙烯基羧酸和乙烯基磺酸与其它可聚合单体如丙烯酸酯和苯乙烯的共聚物。
优选，在本发明的分散体中含有至少一种聚羧酸或聚磺酸的阴离子作为抗衡离子。
特别优选聚苯乙烯磺酸(PPS)的阴离子作为聚合物阴离子。
提供聚阴离子的聚酸的分子量优选为1,000～2,000,000，特别优选2,000～500,000。所述聚酸和它们的碱金属盐可商购获得，如聚苯乙烯磺酸和聚丙烯酸，或者可以通过已知方法来制备(参见，例如，HoubenWeyl，Methoden der organischen Chemie，vol.E 20 MakromolekulareStoffe，part 2，(1987)，p.1141 et seq.)。
所述分散体也可包括聚合物阴离子和导电聚合物，重量比尤其为0.5∶1～50∶1，优选为1∶1～30∶1，特别优选为2∶1～20∶1。导电聚合物的重量在这里相当于所用的单体的重量，即假定在聚合过程中发生完全转化。
用作单体阴离子的阴离子是，例如，C1-C20链烷磺酸如甲磺酸、乙磺酸、丙磺酸、丁磺酸或更高级磺酸如十二烷磺酸的那些阴离子，脂族全氟磺酸如三氟甲磺酸、全氟丁磺酸或全氟辛磺酸的那些阴离子，脂族C1-C20羧酸如2-乙基己基羧酸的那些阴离子，脂族全氟羧酸如三氟乙酸或全氟辛酸的那些阴离子，和任选被C1-C20烷基取代的芳族磺酸如苯磺酸、邻甲苯磺酸、对甲苯磺酸或十二烷基苯磺酸的那些阴离子，以及环烷磺酸如樟脑磺酸的那些阴离子，或者四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、高氯酸盐、六氟锑酸盐、六氟砷酸盐或六氯锑酸盐。
优选对甲苯磺酸、甲磺酸或樟脑磺酸的阴离子作为单体阴离子。
含有阴离子作为用于电荷补偿的抗衡离子的阳离子聚噻吩类也常常被本领域的技术人员称为聚噻吩/(聚)阴离子复合物(complex)。
基于分散体的总重量，导电聚合物和抗衡离子，例如以这样的聚合物/抗衡离子复合物的形式，在发明的分散体中的总含量为，例如，0.05～10重量％，优选为0.1～2重量％。
根据本发明的分散体可以包括一种或多种分散剂。可以例举出下列溶剂作为分散剂脂族醇，如甲醇、乙醇、异丙醇和丁醇；脂族酮，如丙酮和甲基乙基酮；脂族羧酸酯，如乙酸乙酯和乙酸丁酯；芳族烃，如甲苯和二甲苯；脂族烃，如己烷、庚烷和环己烷；氯代烃，如二氯甲烷和二氯乙烷；脂族腈，如乙腈；脂族亚砜和砜，如二甲亚砜和环丁砜；脂族羧酸酰胺，如甲基乙酰胺、二甲基乙酰胺和二甲基甲酰胺；和脂族和芳脂族醚，如二乙醚和苯甲醚。此外，水或水与上述有机溶剂的混合物也可用作分散剂。
优选的分散剂为水或其它质子溶剂，例如醇，如甲醇、乙醇、异丙醇和丁醇，以及水与这些醇的混合物，水为特别优选的溶剂。
所述分散体此外还可包括另外的组分，例如，表面活性物质如离子和非离子表面活性剂，或粘合增进剂如有机功能硅烷或它们的水解产物，如3-环氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或辛基三乙氧基硅烷。
本发明的分散体可包括提高电导率的另外的添加剂，例如，含有醚基团的化合物如四氢呋喃，含有内酯基团的化合物如γ-丁内酯和γ-戊内酯，含有酰胺或内酰胺基团的化合物如己内酰胺、N-甲基己内酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-辛基吡咯烷酮和吡咯烷酮，砜和亚砜如环丁砜(四亚甲基砜)和二甲亚砜(DMSO)，糖或糖衍生物如蔗糖、葡萄糖、果糖和乳糖，糖醇如山梨糖醇和甘露糖醇，呋喃衍生物如2-呋喃羧酸和3-呋喃羧酸，和/或二醇或多元醇如乙二醇、甘油以及二甘醇和三甘醇。尤其优选使用四氢呋喃、N-甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、乙二醇、二甲亚砜或山梨糖醇作为提高电导率的添加剂。
本发明的分散剂还可以包括一种或多种可溶于有机溶剂或水溶的有机粘合剂，如聚乙酸乙烯酯，聚碳酸酯，聚乙烯醇缩丁醛，聚丙烯酸酯，聚丙烯酰胺，聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酰胺、聚苯乙烯、聚丙烯腈、聚氯乙烯，聚乙烯吡咯烷酮，聚丁二烯，聚异戊二烯，聚醚，聚酯，聚脲，聚酰胺，聚酰亚胺，聚砜，硅氧烷，环氧树脂，苯乙烯/丙烯酸酯、醋酸乙烯酯/丙烯酸酯和乙烯/醋酸乙烯酯共聚物，聚乙烯醇或纤维素。
基于分散体的总重量，本发明的分散体中的聚合物粘合剂的含量为0.1～90重量％，优选0.5～30重量％，并且非常特别优选0.5～10重量％。
在分散体中任选含有的这样的有机粘合剂也可任选作为分散剂，如果在规定的温度下该有机粘合剂是液体的话。
本发明的分散体可以具有1～14的pH，并优选1～8的pH。
例如，可将碱或酸添加到分散体中以调节pH。优选那些不损害分散体的膜形成且在较高的温度如焊接温度不挥发的添加剂，例如碱2-(二甲基氨基)-乙醇、2，2’-亚氨基二乙醇或2，2’，2”-次氮基三乙醇以及酸聚苯乙烯磺酸。
取决于施加方法，本发明的分散体的粘度可以为0.1～100,000mPa·s(在20℃和100s-1的剪切速率下测定)。优选，粘度为1～10,000mPa·s，特别优选为10～1,000mPa·s。
本发明的分散体的制备是通过在抗衡离子的存在下从用于制备导电聚合物的相应前体在例如类似于EP-A 440 957中所述的条件下首先制备导电聚合物的分散体进行的。用于制备所述分散体的改进方案是使用用于去除无机盐或一部分无机盐的离子交换剂。例如在DE-A 19627 071中描述了这样的方案。例如可将离子交换剂与产物一起搅拌，或者将产物输送经过用离子交换剂装填的柱。通过使用离子交换剂，例如，可获得低的金属含量。
在脱盐之后可通过例如高压均质器来降低分散体中的颗粒的粒度。也可以重复该操作以改善效果。在本文中，已证实100～2,000bar的特别高的压力对大大降低粒度有利。
也可制备聚苯胺/聚阴离子、聚吡咯/聚阴离子或聚噻吩/聚阴离子复合物并随后分散或再分散在一种或多种分散剂中。
基于分散体的总重量，导电聚合物/抗衡离子复合物的颗粒在这些分散体中的固体含量是，例如，0.1～90重量％，优选为0.5～30重量％，并非常特别优选为0.5～10重量％。
为制备本发明的分散体，然后将另外的组分例如三聚氰胺与至少一种羰基化合物的缩合物、任选另外的分散剂及任选另外的添加剂、有机粘合剂等添加到这些分散体中，并例如通过搅拌混合。
对应的单体例如被理解为用于制备导电聚合物的前体，以下也称为前体。也可以使用各种前体的混合物。适合的单体前体是，例如，任选取代的噻吩类、吡咯类或苯胺类，优选任选取代的噻吩类，特别优选任选取代的3，4-亚烷基二氧基噻吩类。
可以列举出来作为取代的3，4-亚烷基二氧基噻吩类的例子是通式(III)的化合物，
其中，A表示任选取代的C1-C5亚烷基，优选任选取代的C2-C3亚烷基，R表示直链或支链的任选取代的C1-C18烷基、任选取代的C5-C12环烷基、任选取代的C6-C14芳基、任选取代的C7-C18芳烷基、任选取代的C1-C4羟基烷基或羟基，x表示0至8的整数，优选表示0或1，且在数个基团R键合到A上的情况下，这些R基团可以相同或不同。
非常特别优选的单体前体为任选取代的3，4-亚乙基二氧基噻吩类，并且在优选实施方案中为3，4-亚乙基二氧基噻吩。
上述前体、特别是噻吩类、优选3，4-亚乙基二氧基噻吩类的可能的取代基是所述的用于通式(III)的R的基团。
吡咯类和苯胺类的可能的取代基是，例如，上述的基团A和R和/或基团A和R的进一步的取代基。
基团A和/或基团R的可能的任选的进一步的取代基是为通式(I)所述的有机基团。
制备用于制备导电聚合物的单体前体的方法对于本领域的技术人员而言是已知的并且描述在例如L.Groenendaal，F.Jonas，D.Freitag，H.Pielartzik & J.R.Reynolds，Adv.Mater.12(2000)481-494和其中所引用的文献中。
本发明的分散体是非常适合于制备导电或抗静电涂层。
本发明因此也提供可从本发明的分散体获得的导电或抗静电涂层。
为制备本发明的涂层，例如，通过已知的方法例如通过旋涂、浸渍、浇注、滴涂、喷涂、雾涂(misting on)、刀涂、刷涂或印刷如喷墨印刷、丝网印刷、凹版印刷、胶印或压印等将本发明的分散体以0.5μm～250μm的湿膜厚度、优选以2μm～50μm的湿膜厚度施加到合适的基体上，然后至少在20℃～200℃的温度下干燥。
与现有技术已知的涂层相比，本发明的涂层令人惊奇地更耐尤其是有机溶剂。
具体实施例方式
下列实施例用以举例说明本发明而不应理解为是对本发明的限制。
实施例1)本发明分散体的制备实施例1将52.6g BaytronP(H.C.Starck GmbH，Leverkusen)0.3g 2-(二甲基氨基)-乙醇31.4g NeoRez R 9603(聚氨酯分散体；DSM Neo Resins，Waalwijk，Netherlands)10.5g AcrafixML(部分醚化的、改性的三聚氰胺-甲醛缩合物，Lanxess Deutschland GmbH)2.0g异丙醇3.1g N-甲基吡咯烷酮0.1g DynolTM604(润湿剂，Air Products)通过按规定的顺序搅拌混合来制备分散体。
实施例2将52.6g BaytronP(H.C.Starck GmbH，Leverkusen)0.3g 2-(二甲基氨基)-乙醇31.4g NeoRez R 9603(聚氨酯分散体；DSM Neo Resins，Waalwijk，Netherlands)6.2g MaprenalMF 921 W(部分醚化的、改性的三聚氰胺-甲醛缩合物，Solutia)2.0g异丙醇3.1g N-甲基吡咯烷酮
0.1g DynolTM604(润湿剂，Air Products)通过按规定的顺序搅拌混合来制备分散体。
实施例3将52.6g BaytronP(H.C.Starck GmbH，Leverkusen)0.3g 2-(二甲基氨基)-乙醇31.4g NeoRez R 9603(聚氨酯分散体；DSM Neo Resins，Waalwijk，Netherlands)7.5g SetamineMS-152(改性的三聚氰胺-甲醛缩合物，NuplexResins)2.0g异丙醇3.1g N-甲基吡咯烷酮0.1g DynolTM604(润湿剂，Air Products)通过按规定的顺序搅拌混合来制备分散体。
对比例1(根据EP-A 564 914)将42.9g BaytronP(H.C.Starck GmbH，Leverkusen)4.0g二甲基亚砜0.9g SilquestA 187＝环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷52.2g异丙醇通过按规定的顺序搅拌混合来制备分散体。
对比例2从52.6g BaytronP(H.C.Starck GmbH，Leverkusen)0.3g 2-(二甲基氨基)-乙醇31.4g Ne0Rez R 9603(聚氨酯分散体；DSM Neo Resins，Waalwijk，Netherlands)5.25g三聚氰胺2.0g异丙醇3.1g N-甲基吡咯烷酮0.1g Dynol604(润湿剂，Air Products)通过按规定的顺序搅拌混合来制备分散体。
2)本发明的涂层的制备实施例4使用手持涂覆器(handcoater)将对比例1和2以及本发明的实施例1～3的分散体以18μm的湿膜厚度刀涂在175μm厚的聚酯膜上，然后在130℃干燥5分钟。
然后按照ASTM测量涂层的表面电阻，并通过用含溶剂的布摩擦来测定涂层对溶剂的耐性。
结果汇总于下面的表中+＝耐溶剂，涂层未被破坏-＝不耐溶剂，涂层己被破坏表1实施例1～3以及对比例1和2的涂层的表面电阻

表2实施例1～3以及对比例1和2的涂层的对溶剂的耐性

结果清楚地表明，与用对比例的分散体制备的涂层相比，用本发明的分散体制备的本发明的涂层对溶剂的耐性较高。
权利要求
1.一种分散体，其包括至少一种导电聚合物、至少一种抗衡离子和至少一种分散剂，特征在于它包括三聚氰胺与至少一种羰基化合物的至少一种缩合物。
2.根据权利要求1的分散体，特征在于至少一种导电聚合物选自聚噻吩类、聚苯胺类或聚吡咯类。
3.根据权利要求l的分散体，特征在于所述导电聚合物选自含有通式(I)的重复单元的聚亚烷基二氧基噻吩类， 式中A表示任选取代的C1-C5亚烷基，R表示直链或支链的任选取代的C1-C18烷基、任选取代的C5-C12环烷基、任选取代的C6-C14芳基、任选取代的C7-C18芳烷基、任选取代的C1-C4羟基烷基或羟基，x表示0至8的整数，且在数个基团R键合到A上的情况下，这些R基团可以相同或不同。
4.根据权利要求1的分散体，特征在于至少一种导电聚合物是聚(3，4-亚乙基二氧基噻吩)。
5.根据权利要求1的分散体，特征在于所述抗衡离子是选自聚合羧酸或磺酸或者单体C1-C20链烷磺酸、脂族C1-C20全氟磺酸、脂族C1-C20羧酸、脂族C1-C20全氟羧酸、任选被C1-C20烷基取代的芳族C1-C20磺酸、任选取代的C1-C20环烷磺酸或者四氟硼酸盐、六氟磷酸盐、高氯酸盐、六氟锑酸盐、六氟砷酸盐或六氯锑酸盐的阴离子。
6.根据权利要求1的分散体，特征在于至少一种抗衡离子是聚苯乙烯磺酸的阴离子。
7.根据权利要求1的分散体，特征在于三聚氰胺与至少一种羰基化合物的缩合物是选自任选改性和/或任选部分或完全醚化的三聚氰胺-甲醛缩合物。
8.根据权利要求1的分散体，特征在于它包括基于所述分散体的总重量为1～30重量％的三聚氰胺衍生物。
9.根据权利要求1的分散体，特征在于所述分散体包括至少一种聚合物有机粘合剂。
10.根据权利要求1的分散体，特征在于它包括水、脂族醇、脂族酮、脂族羧酸酯、芳族烃、脂族烃、氯代烃、脂族腈、脂族亚砜和砜、脂族羧酸酰胺、脂族和芳脂族醚或至少两种前述物质的混合物作为分散剂。
11.一种用于制备导电或抗静电涂层的方法，其包括使用权利要求1～10中的至少一项所述的分散体。
12.一种导电或抗静电涂层，其可从权利要求1～10中的至少一项所述的分散体获得。
全文摘要
本发明涉及包括导电聚合物和三聚氰胺衍生物的涂层、它们的制备和应用，以及用于制备这样的涂层的分散体。
文档编号B05D5/12GK1962780SQ20061014631
公开日2007年5月16日 申请日期2006年11月10日 优先权日2005年11月10日
发明者F·约纳斯, U·古恩特曼 申请人:H.C.施塔克公司