表面处理荧光体的制造方法、表面处理荧光体、波长转换部件以及发光装置与流程

文档序号:12285097阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种表面处理荧光体的制造方法,其为含有碱土类金属的硅酸盐的碱土类硅酸盐荧光体的表面被表面处理层覆盖的表面处理荧光体的制造方法,

该制造方法包括:通过使所述碱土类硅酸盐荧光体与经熔融或热分解的表面处理物质接触,在所述碱土类硅酸盐荧光体的表面上形成所述表面处理层的表面处理,

所述表面处理物质为选自硫酸盐、磷酸盐、碳酸盐、硼酸盐、硼酸、钛酸盐以及氟化物中至少1种。

2.根据权利要求1所述的表面处理荧光体的制造方法,其中,所述表面处理具有:

所述碱土类硅酸盐荧光体与固体状态的所述表面处理物质的混合;和

将利用所述混合得到的混合物加热、使所述表面处理物质经熔融或热分解的加热。

3.根据权利要求1或2所述的表面处理荧光体的制造方法,其中,所述表面处理层的厚度为5nm以上且1000nm以下。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的表面处理荧光体的制造方法,其中,所述碱土类金属的硅酸盐为选自锶、钡以及钙中的至少1种碱土类金属的硅酸盐。

5.一种表面处理荧光体,其利用权利要求1~4中任一项所述的表面处理荧光体的制造方法来制造。

6.一种波长转换部件,其具有透光性介质和分散在所述透光性介质内的权利要求5所述的表面处理荧光体,

其中,所述透光性介质的折射率小于所述表面处理层的折射率。

7.一种发光装置,其具备:

激发源、和

将从所述激发源放射的光的一部分转换成更长波长的光并放射的权利要求5所述的表面处理荧光体。

8.一种发光装置,其具备:

激发源、和

将从所述激发源放射的光的一部分转换成更长波长的光并放射的权利要求6所述的波长转换部件。

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