掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法及显示装置的制造方法

文档序号:4196676阅读:146来源:国知局
专利名称:掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法及显示装置的制造方法
技术领域
本发明涉及一种用于光掩膜(下面也称为掩膜)的掩膜壳体、掩膜盒、 图案转录方法和显示装置的制造方法,特别是涉及一种在液晶显示面板(LCDP)或等离子体显示面板(PDP)等的制造工序中使用的,运送大 型光掩膜并且在使用光掩膜时,便于对曝光装置拆装,并可抑制拆装时的 粒子污染或破损等的掩膜壳体、掩膜盒、图案转录方法和显示装置的制造方法。
背景技术
近年来,在LCDP或PDP等显示装置的制造工序中,面板面数的增 加作为制造成本降低的方法,被一般化,面板用母基板的尺寸越来越大。 与此同时,在LCDP或PDP等显示装置的制造工序中,图案转录中使用 的光掩膜也越来越大。另外,上述大型化的光掩膜,当从掩膜制造商运输 到掩膜用户那里时,为了保护运输时不受冲击,以收置固定在掩膜壳体 (maskcase)内部的状态运输。作为用于运送、保管光掩膜等掩膜的掩膜壳体,开发出有各种构造的 掩膜壳体。例如,在特开2005-173556号公报中,公开了一种大型精密薄片状(半〉 制品用密封容器的技术,这种密封容器,由具有彼此抵接的周缘凸缘部的 主体部与盖体部构成,用于在内部收置大型精密薄片状(半)制品,其特 征在于主体部与盖体部分别由设置了热可塑性树脂薄片的加固用肋的真 空或压空成型体构成。该较轻量的大型精密薄片状(半)制品用密封容器,以不会对大型精 密薄片状(半)制品施加不适当的应力、安全且保持气密的状态,进行收 置*支持,运送。另外,制造光掩膜等掩膜的掩膜制造商,在将制造的掩膜等收置在上 述掩膜壳体中的状态下,交货给掩膜用户。另一方面,掩膜用户使用从掩膜制造商交纳的光掩膜,将期望的图案 转录到被转录体上,制造显示装置等。在该制造工序中,掩膜用户以将光掩膜收置在专用掩膜盒(mask cassette)中的状态运送到曝光机(例如掩 膜直线对准仪),或将使用后的光掩膜从曝光机运送到其它设备。另外, 大型曝光装置以将光掩膜设置在专用掩膜盒中的状态,在装置内部运送。 上述专用掩膜盒,对应于曝光装置等,使用各种构造的掩膜盒。 例如,特开2000-19720号公报中,公开了一种基板交换装置的技术, 该基板交换装置的技术在液晶显示元件或半导体元件的制造工序中使用, 自动交换给曝光装置或检查装置等的掩膜、网线或玻璃基板等(统称为掩 膜)。另外,该文献中记载了一种防尘用掩膜盒,其在往曝光装置等的掩 膜交换过程中使用,装配可读取的管理代码。该掩膜盒由掩膜盒盖、和以定位的状态载置掩膜的、大致矩形平板状 的掩膜盒盘构成。另外,上述基板交换装置具备掩膜运送机构,该掩膜运送机构保持住 从掩膜盒取出的掩膜状态,移动到曝光装置,在曝光装置的大致平板状的 搭载台上,搭载掩膜。但是,如上所述,掩膜制造商以将光掩膜等掩膜收置在掩膜壳体中的 状态,将掩膜交货给掩膜用户。因此,掩膜用户为了使用交纳的掩膜,首 先要从掩膜壳体中取出掩膜,换入专用的掩膜盒中之后,使用。但是,随着液晶显示器(LCD)、平板显示器(FPD)、等离子体面 板显示器(PDP)、薄膜晶体管基板(TFT)、滤色镜(CF)等的大型化, 在其制造中越来越多地使用例如约500mmx750mm或以上的这种大型光 掩膜,大型化的倾向更加显著。而且,若用人手执行大型且重量大的光掩 膜的操作,则作业者的负载大。尤其是,掩膜用户如上所述,必需执行如下作业,即从掩膜制造商处 收货形成期望图案的光掩膜,从运输用掩膜壳体中将其取出,换入曝光装 置用的掩膜盒中。这在考虑到上述大型光掩膜是非常精致的制品,必需对 型则越难以处理等情况时,存在作业者承受 的负担过大的问题。发明内容鉴于上述问题,本发明的目的在于提供一种掩膜壳体、掩膜盒、图案 转录方法和显示装置的制造方法,可容易地执行将掩膜从掩膜壳体换入掩 膜盒中的作业。为了实现上述目的,本发明的掩膜壳体,可运送地收置光掩膜、和掩 膜盒,该掩膜盒在搭载所述光掩膜来使用的装置(例如制造装置和/或检查 装置等)中使用,并载置所述光掩膜来使用,其中当从所述掩膜壳体中 取出所述光掩膜时,以所述光掩膜被载置于所述掩膜盒的状态取出。据此,掩膜用户的作业者,无需例如将从掩膜制造商处以收置在掩膜 壳体中的状态交货的掩膜换入曝光装置等的作业,所以在大幅度减轻作业 者的负荷的同时,作业性提高。另外,可大幅度降低换入作业中误损伤掩膜的危险性,可安全地执行 作业。并且,若掩膜大型化,则还设想导入专用的处理装置等,来安全地执 行上述换入作业,而即使不导入这种处理装置等,也可安全地执行换入作 业。另外,在本发明中,作为掩膜,包含光掩膜(photo mask)、网线(reticle)、 光掩膜半成品(photo mask blank)、玻璃基板等。另外,作为制造装置,包含电子器件制造用的曝光装置、掩膜提供装 置、基板交换装置、掩膜运送装置等。再有,所谓"载置"除仅载置外,还包含以定位的状态支持,或以定 位的状态收置,保持,或以保持的状态收置等。因此,设置在具有各种各 样的构造的掩膜盒中,也包含于"载置"。另外,例如掩膜制造商也可以 将掩膜保持在掩膜盒中的状态下收置,以将该掩膜盒保持在掩膜壳体中的 状态收置,将该掩膜壳体交货给掩膜用户,掩膜用户对各掩膜盒从掩膜壳 体中取出掩膜,直接提供给曝光装置等。另外,所谓掩膜盒,是指制造装置和/或检查装置中使用、至少载置光 掩膜的盒,例如有为了以载置上述掩膜盒的状态搭载于装置、或取出而使 用的掩膜盒盘、或可拆装的掩膜搭载台等。包含指定给曝光装置等、或构 成附属品的部件。另外,本发明的掩膜壳体,优选具备保持所述光掩膜的掩膜保持部 件;保持所述掩膜盒的盒保持部件;设置了所述掩膜保持部件和盒保持部 件的壳体主体;以及,可自由拆装地装配于该壳体主体上并覆盖所述光掩 膜的壳体盖。据此,可不在掩膜中产生损伤或粒子污染地,以密闭的状态,稳定固 定收置掩膜和掩膜盒。由此,即便在空中或陆地等运输掩膜的情况下,也 可抑制掩膜在掩膜盒内部振动、破损、或因摩擦而产生粒子,进而对精致 形成的图案造成损伤等问题。另外,本发明的掩膜壳体,优选以与所述掩膜盒非接触的状态支持所 述光掩膜,当取出所述光掩膜时,使所述掩膜盒沿规定方向移动,则所述 光掩膜被载置于所述掩膜盒。据此,由于掩膜保持部件可保持与掩膜盒非接触状态的掩膜,所以可 更可靠地防止掩膜盒与掩膜摩擦产生粒子等问题。优选具有掩膜支持销,当收置所述光掩膜时用于支持该光掩膜,在使 所述掩膜盒沿规定方向移动时,该掩膜支持销引导该移动。再有,该掩膜 支持销优选贯通掩膜盒的一部分,来支持掩膜。据此,可简化构造,实现制造原价的成本下降,同时,当从掩膜壳体 取出掩膜盒时,可容易地使掩膜载置于掩膜盒中。另外,所述掩膜保持部件,还可保持载置于所述掩膜盒的状态的所述 光掩膜。据此,通过解除由掩膜保持部件实现的保持状态,掩膜被设置在掩膜 盒中,所以可容易地进行作业。另外,为了实现上述目的,本发明的掩膜盒在搭载光掩膜来使用的装 置、例如制造装置及/或检查装置等中,载置光掩膜来使用,其中,具备贯 通孔或开口部,用于在将所述光掩膜和掩膜盒收置于掩膜壳体中时,让为 了保持或支持光掩膜而设置在掩膜壳体中的保持或支持部件到达所述光 掩膜。 盒,即便在该掩膜盒收置在掩膜壳体中的状 态下,也可可靠地保持或支持掩膜。为了实现上述目的,本发明的掩膜盒,以与光掩膜非接触的状态收置 于收置所述光掩膜的掩膜壳体,并且,当从所述掩膜壳体中取出所述光掩 膜时,被以所述光掩膜载置于所述掩膜盒的状态取出,优选具备被引导面, 当取出所述光掩膜时,被使所述掩膜盒沿规定方向移动用的引导部件引 导。这样,本发明作为掩膜盒也有效,由于无需执行将掩膜换入掩膜盒中 的作业,所以可在大幅度减轻作业者的负荷的同时,作业性提高。另外, 可更可靠地防止掩膜盒与掩膜摩擦产生粒子等问题。另外,优选所述引导部件,是以与所述掩膜盒非接触的状态支持所述 光掩膜的掩膜支持销,并且,所述被引导面,是形成于所述掩膜盒中、所 述掩膜支持销贯通的贯通孔的孔表面。据此,可简化构造,可实现制造原价的成本下降。为了实现上述目的,本发明的图案转录方法,具有从用于运送光掩膜的掩膜壳体中取出该光掩膜的工序;和使用载置在所述掩膜盒中而搭载的 所述光掩膜、利用曝光装置进行图案转录的曝光工序,该方法中当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时,以所述光掩膜被载置于所述掩膜盒的状 态取出。这样,本发明作为图案转录方法也有效,无需执行将掩膜换入掩膜盒 中的作业,所以可在大幅度减轻作业者的负荷的同时,作业性提高。 为了实现上述目的,本发明的显示装置的制造方法,具有从用于运送光掩膜的掩膜壳体中取出该光掩膜的工序;和使用载置在所述掩膜盒中而 搭载的所述光掩膜、利用曝光装置对显示装置中使用的被转录体进行图案 转录的曝光工序,该方法中当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时,以所述光掩膜被载置于所述掩膜盒的状态取出。这样,本发明还包含显示装置的制造方法,无需执行将掩膜换入掩膜 盒中的作业,所以可在大幅度减轻作业者的负荷的同时,作业性提高。
为了实现上述目的,本发明的收置光掩膜的掩膜壳体,其特征在于-具备保持部件,其维持光掩膜与载置所述光掩膜的掩膜盒的水平方向的位 置关系,同时,相对掩膜壳体固定所述光掩膜和掩膜盒,所述保持部件, 维持所述水平方向的位置关系不变,可拆装所述光掩膜和所述掩膜盒。为了实现上述目的,本发明的光掩膜设置方法,利用对光掩膜实施制 造或检查用的处理的装置,在实施所述处理的规定位置设置光掩膜,包括 如下阶段将光掩膜载置在掩膜盒上,固定光掩膜和掩膜盒相对于掩膜盒 的底面方向的位置关系;维持所述位置关系,并在掩膜壳体内的规定位置 固定光掩膜和掩膜盒;将收置掩膜盒的掩膜壳体运送到所述装置的附近; 维持所述水平方向的位置关系、并以将光掩膜载置在掩膜盒上的状态,从 掩膜壳体中取出光掩膜和掩膜盒;和在实施所述处理的规定位置,将光掩 膜载置在掩膜盒上来进行设置。如上所述,根据本发明,掩膜用户,被从将从掩膜制造者处收货的掩 膜,从掩膜壳体换入掩膜盒中的巨大负荷中解放出来。尤其是在一边超过 约300mm的大型掩膜中,本发明可实现减轻负荷、安全性大的优点。另 外,能得到往掩膜盒换入时的掩膜的粒子附着、或不当心的破损能大幅度 减少这一出色的效果。


图1是说明本发明第一实施方式的掩膜壳体的掩膜装配状态的示意 图,(a)表示截面图,(b)表示A-A截面图。图2是说明本发明第一实施方式的掩膜壳体的掩膜保持部件和盒保持 部件的示意放大图,(a)表示侧面图,(b)表示平面图。图3表示说明本发明第一实施方式的掩膜壳体的取下掩膜状态的示意 截面图。图4是说明本发明第二实施方式的掩膜壳体的掩膜装配状态的示意 图,(a)表示截面图,(b)表示B-B截面图。图5是说明本发明第二实施方式的掩膜壳体的掩膜保持部件和盒保持 部件的示意放大图,(a)表示侧面图,(b)表示平面图。图6表示说明本发明第二实施方式的掩膜壳体的取下掩膜状态的示意 截面图。
具体实施方式
图1是说明本发明第一实施方式的掩膜壳体的掩膜装配状态的示意图,(a)表示截面图,(b)表示A-A截面图。另外,图2是说明本发明第一实施方式的掩膜壳体的掩膜保持部件和 盒保持部件的示意放大图,(a)表示侧面图,(b)表示平面图。图l、 2中,掩膜壳体1由壳体主体2、壳体盖3、掩膜保持部件4和 盒保持部件5构成,可运送(也包含运输)地收置光掩膜10与掩膜盒100。另外,虽然在本实施方式中,作为掩膜使用的是显示装置制造用的大 型光掩膜IO,但不限于光掩膜IO。<壳体主体>壳体主体2为大致矩形状的平板,在周缘部形成凸部21。凸部21与 壳体盖3嵌合,执行壳体盖3的定位。另外,壳体主体2在8处设置有载置掩膜盒100的周缘部的装配台22。 在本实施方式中,在矩形光掩膜'10各边的两处分别配置有装配台22,但 不限于该配置,例如,也可以对应于光掩膜10的形状或尺寸采用不同的 配置。装配台22如图2所示,形成自由滑动嵌入掩膜保持部件4的引导部 45和盒保持部件5的引导部55的引导沟221,并且,在引导沟221的下 方,形成有沟宽度比引导沟221宽的小车轮(棋子;二法)收置沟222。另外,装配台22在光掩膜10侧的端部突设掩膜支持销23。该掩膜支持销23是顶端部变细的形状的销,贯通掩膜盒100的贯通 孔102,将光掩膜10支持为从掩膜盒100浮起的状态(非接触状态)。另 外,掩膜支持销23嵌入贯通孔102中,当沿取出方向(参照图3)抬起掩 膜盒100时,方向不错位地引导掩膜盒100。通过使用掩膜支持销23作为 支持部件,能够让构造简化,可实现制造原价的成本下降。另外,装配台22和掩膜支持销23的材料通常使用金属,但例如也可 在掩膜盒100与光掩膜10接触的部分,安装由树脂等材料构成的缓冲部 件(未图示)。 虽然未图示,但壳体主体2由周缘部被铝框架加固的树脂板构成,以 收置的掩膜的主平面变为铅直的姿态,在下部两侧设置一对小脚轮,并且, 在两侧的上部及下部装配把手。另外,壳体主体2,利用螺钉或棘轮、带 扣锁等连结部件,装配壳体盖3。再有,壳体主体2与壳体盖3利用0型 圈等密封部件,以密闭的状态连结。<壳体盖>壳体盖3,是自由拆装地装配在壳体主体2上的盖。该壳体盖3为覆 盖壳体主体2的矩形箱状,由矩形状的上板、和突设在上板周缘部上的侧 板构成。另外,尽管未图示,但壳体盖3由周缘部被铝框架加固的树脂板构成, 在下部两侧设置一对小脚轮,并且,在两侧的上部及下部装配把手。 <掩膜保持部件>掩膜保持部件4是保持光掩膜10的部件,可自由调整位置地固定在 壳体主体2上。该掩膜保持部件4具备载置于装配台22上的拧接部44、 以钩状从拧接部44突设的顶端部上形成的载置面41和定位突出部42、和 突设在拧接部44的下面、并与引导沟221嵌合的引导部45。载置面41,与光掩膜10的端面抵接,当掩膜盒1竖立成掩膜主平面 铅直时,位于下侧的载置面41承受光掩膜10的荷重。另外,定位突出部 42具有朝着光掩膜10的方向变宽的斜面。该斜面夹持光掩膜10形成,执 行光掩膜10的定位(与光掩膜10的表面成直角方向的定位)。拧接部44,穿设螺钉43贯通的?L,插入该孔中的螺钉43拧入自由移 动地收置于小车轮收置沟222中的小车轮46中。由此,掩膜保持部件4 在被拧接于装配台22上的同时,松开螺钉43,由此可沿滑动方向移动。 另外,载置面41和定位突出部42的高度位置,对应于支持在掩膜支持销 23上的光掩膜10的高度位置,所以通过使掩膜保持部件4沿光掩膜10的方向移动,拧接,可容易地保持光掩膜io。<盒保持部件>盒保持部件5是保持掩膜盒100的部件,可自由调整位置地固定在壳 体主体2上。该盒保持部件5具备载置于装配台22上的拧接部54、以钩 状从拧接部54突设的顶端部上形成的保持面51 、和突设在拧接部54的下
面、与引导沟221嵌合的引导部55。保持面51,是朝着掩膜盒100,向斜上方倾斜的斜面。该保持面51 与载置于装配台22上的掩膜盒100的上侧角部线接触,将掩膜盒100压 接于装配台22上,来保持掩膜盒100。拧接部54穿设有螺钉53贯通的孔,插入该孔中的螺钉53拧入小车 轮56中,该小车轮56可自由移动地收置于小车轮收置沟222中。由此, 盒保持部件5在被拧接于装配台22上的同时,松开螺钉53,由此可沿滑 动方向移动。另外,由于载置面51的高度位置对应于载置在装配台22上 的掩膜盒100的高度位置,所以通过使盒保持部件5沿掩膜盒100的方向 移动,拧接,可容易地保持掩膜盒100。<掩膜盒>掩膜盒100在制造装置和/或检查装置(未图示)中搭载掩膜时使用, 这里示为矩形状的平板,在对应于掩膜支持销23的位置上,穿设有贯通 孔102。另外,掩膜盒100对应于各贯通孔102,突设定位销IOI,该定位 销101对载置于掩膜盒100上面的光掩膜10进行定位。另外,在本实施方式的掩膜盒100中,通过载置光掩膜IO,进而,利 用定位销101定位,从而设置光掩膜IO,但设置的方式不限于该构成。另外,掩膜盒100、掩膜保持部件4和盒保持部件5的材料通常使用 金属,但例如也可在与掩膜盒100或光掩膜10接触的部分装配由树脂等 材料构成的缓冲部件(未图示)。说明上述构成的掩膜壳体1的动作。首先,掩膜壳体1在图1 (a)所示的状态下,收置光掩膜10与掩膜 盒IOO。另外,掩膜壳体l在被运输时,通常以竖立的状态运输。 接着,参照附图来说明从掩膜壳体1中取出光掩膜10的动作。 图3表示说明本发明第一实施方式的掩膜壳体的、取下掩膜状态的示 意截面图。图3中,交货给掩膜用户的掩膜壳体l,首先被放置成掩膜主平面水 平,从图l (a)的状态,取下壳体盖3。接着,松开各螺钉43和螺钉53, 沿滑动方向移动掩膜保持部件4和盒保持部件5,直到不干扰与向上方取 出的掩膜盒IOO的位置。
接着,掩膜盒ioo被作业者向取出方向(正上方向)抬高。此时,由于掩膜支持销23引导掩膜盒100,直到掩膜盒100与光掩膜10抵接并被 定位销101定位,所以不会对光掩膜10产生异常冲击,可使掩膜盒100 顺利地与光掩膜IO抵接。g卩,作业者按照定位销101的引导,仅通过缓 慢抬高掩膜盒100,光掩膜10就可在通过定位销101定位的状态下载置于 掩膜盒100上。由此,当光掩膜10从掩膜壳体1中取出时,以光掩膜IO 被设置在掩膜盒100中的状态,光掩膜10被取出。另外,设置在掩膜盒100中的光掩膜10在曝光装置等中使用,例如,当要保管到下一制造日时,通过返回上述步骤,可容易且安全地将光掩膜10收置在掩膜壳体1中。S卩,作业者若使设置了光掩膜10的掩膜盒100 下降,使得掩膜支持销23贯通于贯通孔102,则由于掩膜支持销23沿正 下方向引导掩膜盒100,所以不对光掩膜10产生异常冲击,可从掩膜盒 100浮起,使掩膜盒100顺利地载置于装配台22上。即,作业者只需按照 定位销101的引导,通过使掩膜盒100缓慢下降,就可用掩膜支持销23 支持光掩膜IO,并且,使掩膜盒100载置于装配台22上。如上所述,根据本实施方式的掩膜壳体1,掩膜用户的作业者,由于 无需执行例如将从掩膜制造商处以收置于掩膜壳体1的状态收货的光掩膜 10,换入曝光装置等的掩膜盒100中的作业(由于可极容易且安全地执行换入作业),所以大幅度减轻作业者的负荷,同时,作业性也得到提高。 另外,可大幅度降低换入作业中误损伤掩膜10的危险性,安全地执 行作业。另外,通过设置掩膜保持部件4和盒保持部件5,能可靠地保持光掩 膜10和掩膜盒100,所以即便在空中或陆地等运输光掩膜10的情况下, 也可避免光掩膜10破损、或因摩擦而产生大量粒子,进而对精致形成的 图案造成损伤等问题。再有,由于掩膜壳体1设置掩膜支持销23,以从掩膜盒100浮起的状 态、换言之、与掩膜盒非接触的状态支持光掩膜10,并且,沿规定方向引 导掩膜盒IOO,所以运送中光掩膜10不与掩膜盒100接触。由此,可进一 步可靠地防止掩膜盒100与光掩膜10磨擦产生粒子等问题。如上所述, 可在运送中利用掩膜壳体直接保持固定光掩膜,并且以最小限度的接触面 积保持,同时,当取出光掩膜时,利用从掩膜壳体中取出掩膜盒的动作, 可实现自动将光掩膜设置在掩膜盒中的形态。由此,作业者通过从掩膜壳 体中取出光掩膜,可使在掩膜盒中进行设置之类的作业大幅度降低。并且, 由于从掩膜壳体中取出光掩膜、往掩膜壳体收置光掩膜时,光掩膜始终受 掩膜盒保护,所以可大幅度抑制伤痕或破损的发生。上述方案,尤其是在一边超过1000mm的大型掩膜中具有显著效果。 [掩膜壳体的第二实施方式]图4是说明本发明第二实施方式的掩膜壳体的掩膜装配状态的示意 图,(a)表示截面图,(b)表示B-B截面图。另外,图5是说明本发明第二实施方式的掩膜壳体的掩膜保持部件和 盒保持部件的示意放大图,(a)表示侧面图,(b)表示平面图。图4、 5中,第二实施方式的掩膜壳体la与第一实施方式的掩膜壳体 1相比,掩膜盒100a具有以定位的状态收置光掩膜10的构造,与此同时, 掩膜保持部件4a、盒保持部件5a及构造不同。其它构成要素基本与第一 实施方式一样。因此,图4、图5中,对与图l、 2—样的构成部分附加相同符号,省 略其详细说明。 <掩膜盒>掩膜盒100a,在制造装置和/或检查装置(未图示)中,搭载掩膜时 使用,这里示为矩形状的平板,在周缘部突设在定位的同时收置光掩膜IO 的壁部113。该壁部113,为大致矩形环状的形状,从下向上,依次具备 载置光掩膜10的周缘部的载置面111、与光掩膜10的侧面抵接进行定位 的定位面112、和为了容易地收置光掩膜IO而倾斜的引导面114。另外,掩膜盒100a,在对应于掩膜保持部件4a的位置上,形成开口 部115。由此,掩膜盒100a中,为了保持载置于载置面111上的光掩膜 10,掩膜保持部件4a能够移动。<掩膜保持部件>掩膜保持部件4a是保持光掩膜10的部件,可自由调整位置地固定在 壳体主体2上。由于该掩膜保持部件4a,使载置面41和定位突出部42的 高度位置对应于收置在掩膜盒100a中的光掩膜10的高度位置,所以通过 利用开口部115,使掩膜保持部件4a沿光掩膜10的方向移动,拧接,从 而可容易地保持光掩膜10。 <盒保持部件>盒保持部件5a是保持掩膜盒100a的部件,可自由调整位置地固定在 壳体主体2上。由于该盒保持部件5a,使保持面51的高度位置对应于掩 膜盒100a的壁部113的高度位置,所以通过使盒保持部件5a沿掩膜盒100a 的方向移动,拧接,可容易地保持掩膜盒100a。另外,保持面51与掩膜 盒100a的壁部113的上侧角部线接触,将掩膜盒100a压接于装配台22 上,来保持掩膜盒100a。说明上述构成的掩膜壳体la的动作。首先,掩膜壳体la在图4 (a)所示的状态下,收置光掩膜10与掩膜 盒画a。接着,参照附图来说明从掩膜壳体la中取出光掩膜10的动作。 图6表示说明本发明第二实施方式的掩膜壳体的、取下掩膜状态的示 意截面图。图6中,交货给掩膜用户的掩膜壳体la首先被水平放置,从图4(a) 的状态,取下壳体盖3。接着,松开各螺钉43,沿滑动方向移动掩膜保持 部件4a,直到不与向上方取出的掩膜盒100a干扰的位置。通过该动作, 解除掩膜保持部件4a的保持状态,所以可以在由定位面112定位光掩膜 10的状态下将其载置于掩膜盒100a。之后,松开各螺钉53,沿滑动方向移动盒保持部件5a,直到不与向 上方取出的掩膜盒100a干扰的位置。利用该动作,解除盒保持部件5a的 保持状态,所以可从掩膜壳体la中容易并且安全地取出以定位状态收置 于掩膜盒100a中的光掩膜10。另外,设置在掩膜盒100a中的光掩膜IO在曝光装置等中使用,例如, 当保管到下一制造日时,通过返回上述步骤,可容易且安全地将光掩膜10 收置在掩膜壳体la中。即,作业者将载置了光掩膜10的掩膜盒100a载 置于装配台22上(为了确定该载置位置,也可设置定位部件(未图示)。 接着,由盒保持部件5a保持掩膜盒100a,之后,由掩膜保持部件4a保持 光掩膜10,从而可安全且容易地将光掩膜10收置在掩膜壳体la中。
如上所述,根据本实施方式的掩膜壳体la,可得到与掩膜壳体1大致 一样的效果,再有,由于通过解除由掩膜保持部件4a实现的保持状态, 光掩膜10被设置在掩膜盒100a中,所以可容易地进行作业。 [掩膜盒的一实施方式]另外,本发明作为掩膜盒也有效。本发明的掩膜盒为与上述掩膜盒100 大致一样的构造,是具有被引导面(图2 (a)所示的贯通孔102的孔表面) 的结构,其当取出光掩膜10时,被用于使掩膜盒100沿规定方向移动用 的掩膜支持销23引导。这样,本发明作为掩膜盒100也有效,由于无需将光掩膜10换入掩 膜盒100中的作业,所以大幅度减轻作业者的负荷,同时,作业性提高。 另外,可更可靠地防止掩膜盒100与光掩膜10摩擦产生粒子等问题。 [图案转录方法的一实施方式]另外,本发明作为图案转录方法也有效。本发明的图案转录方法,具 有从用于运送光掩膜10的掩膜壳体1中取出光掩膜10的工序;和使用载 置在所述掩膜盒100中而搭载的所述掩膜10、利用曝光装置进行图案转录 的曝光工序,该方法中,当从掩膜壳体1中取出光掩膜10时,以光掩膜 10被设置于掩膜盒100的状态取出。这样,本发明作为图案转录方法也有效,由于无需将光掩膜10换入 掩膜盒100中的作业,所以大幅度减轻作业者的负荷,同时,作业性提高。 [显示装置的制造方法的一实施方式]另外,本发明作为显示装置的制造方法也有效。本发明的显示装置的 制造方法,具有从用于运送光掩膜10的掩膜壳体1中取出光掩膜10的工 序;和使用载置在所述掩膜盒100中而搭载的所述掩膜10、利用曝光装置 图案转录到显示装置中使用的被转录体上的曝光工序,该方法中,当从掩 膜壳体1中取出掩膜10时,以光掩膜10被设置于掩膜盒100中的状态取 出。这样,本发明作为显示装置的制造方法也有效,无需将光掩膜10换 入掩膜盒100中的作业,所以大幅度减轻作业者的负荷,同时,作业性提 高。以上示出最佳实施方式,来对本发明的掩膜壳体、掩膜盒、图案转录 方法和显示装置的制造方法进行了说明,但本发明的掩膜壳体、掩膜盒、 图案转录方法和显示装置的制造方法不限于上述实施方式,当然可在本发 明的范围内进行各种变更实施。例如,也可构造成掩膜保持部件与盒保持部件一体连结。本发明也可适用于用于保管掩膜的掩膜壳体,尤其适用于LCDP或 PDP等制造工序中使用的大型掩膜。
权利要求
1、一种掩膜壳体,可运送地收置光掩膜、和掩膜盒,该掩膜盒在搭载所述光掩膜来使用的装置中使用,并载置所述光掩膜来使用,其中当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时,以所述光掩膜被载置于所述掩膜盒的状态取出。
2、 根据权利要求1所述的掩膜壳体,其特征在于 具备保持所述光掩膜的掩膜保持部件; 保持所述掩膜盒的盒保持部件;设置了所述掩膜保持部件和盒保持部件的壳体主体;以及, 可自由拆装地装配于该壳体主体上并覆盖所述光掩膜的壳体盖
3、 根据权利要求1或2所述的掩膜壳体,其特征在于-以与所述掩膜盒非接触的状态支持所述光掩膜,当取出所述光掩膜时,使所述掩膜盒沿规定方向移动,则所述光掩膜被载置于所述掩膜盒
4、 根据权利要求3所述的掩膜壳体,其特征在于 具有掩膜支持销,当收置所迷光掩膜时用于支持该光掩膜,在使所述掩膜盒沿规定方向移动时,该掩膜支持销引导该移动
5、 根据权利要求2所述的掩膜壳体,其特征在于-所述掩膜保持部禅,葆释载置于所述掩膜盒的状态的所述光掩膜
6、 一种掩膜盒,在搭载光掩膜来使用的装置中载置光掩膜来使用, 其特征在于具备贯通孔或开口部,用于在将所述光掩膜和掩膜盒收置于掩膜壳体 中时,让为了保持或支持光掩膜而设置在掩膜壳体中的保持或支持部件到 达所述光掩膜
7、 一种掩膜盒,以与光掩膜非接触的状态收置于收置所述光掩膜的 掩膜壳体,并且,当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时,被以所述光掩 膜载置于所述掩膜盒的状态取出,其特征在于-具备被引导面,当取出所述光掩膜时,被使所述掩膜盒沿规定方向移 动用的引导部件引导
8、 根据权利要求7所述的掩膜盒,其特征在于 所述引导部件,是以与所述掩膜盒非接触的状态支持所述光掩膜的掩 膜支持销,并且,所述被引导面,是形成于所述掩膜盒中、所述掩膜支持 销贯通的贯通孔的孔表面。
9、 一种图案转录方法,具有从用于运送光掩膜的掩膜壳体中取出该 光掩膜的工序;和使用载置在所述掩膜盒中而搭载的所述光掩膜、利用曝光装置进行图 案转录的曝光工序,该方法中当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时,以所述光掩膜被载置于所述 掩膜盒的状态取出。
10、 一种显示装置的制造方法,具有从用于运送光掩膜的掩膜壳体中 取出该光掩膜的工序;和使用载置在所述掩膜盒中而搭载的所述光掩膜、利用曝光装置对显示 装置中使用的被转录体进行图案转录的曝光工序,该方法中当从所述掩膜壳体中取出所述光掩膜时,以所述光掩膜被载置于所述 掩膜盒的状态取出。
11、 一种收置光掩膜的掩膜壳体,其特征在于-具备保持部件,其维持光掩膜与载置所述光掩膜的掩膜盒的水平方向 的位置关系,同时,相对掩膜壳体固定所述光掩膜和掩膜盒,所述保持部件,维持所述水平方向的位置关系不变,可拆装所述光掩 膜和所述掩膜盒。
12、 一种光掩膜设置方法,利用对光掩膜实施制造或检査用的处理的 装置,在实施所述处理的规定位置设置光掩膜,包括如下阶段-将光掩膜载置在掩膜盒上,固定光掩膜和掩膜盒相对于掩膜盒的底面 方向的位置关系;维持所述位置关系,并在掩膜壳体内的规定位置固定光掩膜和掩膜盒;将收置掩膜盒的掩膜壳体运送到所述装置的附近; 维持所述水平方向的位置关系、并以将光掩膜载置在掩膜盒上的状 态,从掩膜壳体中取出光掩膜和掩膜盒;和在实施所述处理的规定位置,将光掩膜载置在掩膜盒上来进行设置。
全文摘要
本发明涉及一种掩膜壳体,该掩膜壳体(1)是一种可运送地收置光掩膜(10)和掩膜盒(100)的掩膜壳体,具备掩膜保持部件(4)和盒保持部件(5),当从掩膜盒(100)中取出光掩膜(10)时,以光掩膜(10)被设置于掩膜盒(100)的状态取出。
文档编号B65D85/86GK101152919SQ20071016300
公开日2008年4月2日 申请日期2007年9月28日 优先权日2006年9月29日
发明者井村和久 申请人:Hoya株式会社
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