适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组及制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及半导体器件制备技术领域，尤其设及一种适于多次套刻的多时序光刻 图案的掩膜板组及制作方法。
【背景技术】
[0002] 光刻技术是在一片平整的娃片上构建半导体M0S管和电路的技术，是一种精密的 微细加工技术。
[0003] 现有的光刻工艺进行多次套刻时，一般会按照固定的加工顺序进行加工。次 套刻的十字图形为例，如图1所示了参与Ξ次套刻过程中四种十字图形（1)、（2)、（3)、（4)。 如图2示出了四种十字图形套刻后的光刻图案。如图3所示，掩膜板分为a、b、c、d。在工艺过 程中，一般掩膜板的使用顺序为a-b-c-d，则套刻顺序为(1)-(2)-(3)-(4)。
[0004] 但新兴的MEMS微机械加工要求和原来的MEMS加工要求不同，其要求机械机构的加 工灵活多变，故加工顺序可W根据实验员的要求随意变换。继续W上述图3的掩膜板为例， 若掩膜板的使用顺序为c-a-b-d，则套刻顺序为(4)-(2)-(3)-(1)。此时，第(4)种十字图形 曝光后，第(2)块十字图形不能精确对准预设位置，会使得第(3)块十字图形在曝光时与已 曝光的第(4)种或第(2)种十字图形发生重叠现象，如图4所示。由此，现有存在的加工方式 不能随意更换掩膜板的使用顺序，即定好的掩膜板的图形不易改变，导致加工顺序不易改 变，进而影响了微机械加工的灵活性。
【发明内容】
[0005] 本发明提供一种适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组及制作方法，用于解 决现有技术中定好的掩膜板的图形不易改变，导致加工顺序不易改变，进而影响了微机械 加工的灵活性的问题。
[0006] 第一方面，本发明提供一种适用于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组，包括 多块掩膜板，掩膜板的个数为m+1，m为套刻次数，其中，
[0007] 每块所述掩膜板上均匀划分多个图案区，所述图案区的总面积等于掩膜板的表面 积，图案区的个数至少为m+1;
[000引每个图案区上设置有遮光层，遮光层上开设有透光图形，透光图形的种数为m+1， 各种类的透光图形套设在一起形成所述光刻图案；
[0009] 每块所述掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同，并设 掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的套刻序 组不同。
[0010] 优选地，每块所述掩膜板上均匀划分4说个图案区，m为套刻次数。
[0011] 优选地，所述掩膜板至少包括四块。
[0012] 优选地，所述透光图形包括十字形、圆形或方形。
[0013] 优选地，所述光刻图案中相邻透光图形的间距为5-10皿。
[0014] 第二方面，本发明提供一种掩膜板组的制作方法，包括：
[0015] S1、准备多块掩膜板，掩膜板的个数为m+1，m为套刻次数；
[0016] S2、在每块所述掩膜板上均匀划分出多个图案区，所述图案区的总面积等于掩膜 板的表面积，图案区的个数至少为m+1;
[0017] S3、在每个图案区上涂有遮光层，在遮光层上开设有透光图形，透光图形的种数为 m+1，各种类的透光图形套设在一起形成光刻图案；
[0018] S4、在每块所述掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相 同，并设掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的 套刻序组不同。
[0019] 优选地，在每块所述掩膜板上均匀划分出瓜个图案区，m为套刻次数。
[0020] 由上述技术方案可知，本发明提供一种适于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板 组及制作方法，所述掩膜板组在进行多次套刻工艺时，无需考虑图形结构的加工顺序，便可 得到不同时序的顺序排列方式，方便了不同时序加工流程，同时节约了掩膜板的数量，降低 了成本。
【附图说明】
[0021] 图1为Ξ次套刻加工过程所使用的四种透光图形的结构示意图；
[0022] 图2为图1中透光图形套刻后的光刻图案示意图；
[0023] 图3为现有技术中W图1所述透光图形的掩膜板设计图；
[0024] 图4为现有技术中掩膜板曝光折叠现象示意图；
[0025] 图5为本发明实施例1中W图1所述透光图形的掩膜板设计图；
[0026] 图6为本发明实施例2所述掩膜板组的制作方法流程示意图。
【具体实施方式】
[0027] 下面结合附图和实施例，对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。W下实施 例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
[0028] 本发明实施例1提供一种适用于多次套刻的多时序光刻图案的掩膜板组，包括多 块掩膜板，掩膜板的个数为m+1，m为套刻次数，其中，
[0029] 每块所述掩膜板上均匀划分多个图案区，所述图案区的总面积等于掩膜板的表面 积，图案区的个数至少为m+1。若为了突出掩膜板加工顺序的多样化，每块所述掩膜板上均 匀划分4：：!个图案区，m为套刻次数。
[0030] 每个图案区上设置有遮光层，遮光层上开设有透光图形，透光图形的种数为m+1， 各种类的透光图形套设在一起形成所述光刻图案；
[0031] 每块所述掩膜板上且处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同，并设 掩膜板上处于同一位置上的m+1个透光图形为一套刻序组;任意两个对应位置上的套刻序 组不同。
[0032] 下面W所述透光图形为十字图形，所述套刻次数为3次，掩膜板为4个，图案区为.餐 个为例，对上述本发明提供的掩膜板组进行详细介绍。在此，需要说明的是，所述套刻次数 是根据对最里面的透光图形(如图1中阴影部分的第（1)种十字图形）依次套刻几次成为最 终的光刻图案所决定的，即根据最里面的透光图形外围存在几个透光图形所决定。
[0033] 如图1所示了参与Ξ次套刻过程中四种十字图形（1)、（2)、（3)、（4)。如图2示出了 四种十字图形套刻后的光刻图案。如图5所示，掩膜板分为4、8、(：、0。在每块所述掩膜板上且 处于相同位置上的图案区所开设的透光图形互不相同。例如，在掩膜板A、B、C