一种基板支撑杆及对位装置的制作方法

本实用新型涉及液晶产品制作技术领域，尤其涉及一种基板支撑杆及对位装置。

背景技术：

在TFT(Thin Film Transistor是薄膜晶体管)行业中，玻璃基板一般水平搬运，部分工艺设备有精度要求，需要对玻璃基板进行对位，对位一般是在支撑杆上进行，依靠四个角的定位气缸收紧进行定位。目前，对位支撑杆有两种，一种是固定支撑杆(支撑杆的顶端接触头是固定与支撑杆的杆体上不动的)，支撑杆的接触头的表面是平面结构，当玻璃基板进行对位时、支撑杆接触头与玻璃基板产生摩擦，速度过快，或者滑动距离较长，会造成玻璃面划伤，造成品质问题；第二种是支撑杆的顶端接触头为滚珠设计，称为滑动支撑杆，滑动支撑杆顶端的滚珠可以自由滑动，玻璃基板进行对位时滚珠随着玻璃移动而转动，不会对玻璃造成品质问题，但是滑动对位后由于震动、平面度等原因，玻璃基板位置可能会再次发生偏移，造成对位精度下降。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种基板支撑杆及对位装置，避免在基板对位后被划伤或者对位不精准的问题。

为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种基板支撑杆，包括：

杆体；

可转动的设置于所述杆体一端的滚珠；

用于在基板对位后防止所述滚珠转动的限位结构。

进一步的，所述杆体的顶端设有用于容纳所述滚珠的容纳槽，滚珠外露于所述容纳槽以承载基板，所述容纳槽的开口的内径小于所述滚珠的直径。

进一步的，所述限位结构包括：

设置于所述杆体内的第一气体通道，所述第一气体通道与外界气体输入结构连接；

设置于所述容纳槽底部的第二气体通道，与所述第一气体通道连通；

用于控制所述第一气体通道导通与关闭以使得所述滚珠在第一状态和第二状态变化的阀门；

其中，所述第一状态为所述滚珠在从所述第二气体通道流出的气体的作用下固定不动；所述第二状态为所述滚珠可自由转动的设置于所述容纳槽内。

进一步的，所述滚珠与所述容纳槽开口之间具有可供气体流出的缝隙。

进一步的，所述阀门为电磁阀。

进一步的，所述阀门为压缩空气电磁阀。

进一步的，所述第二气体通道内设有用于缓冲气体流出速度的缓冲结构。

进一步的，所述缓冲结构包括：

相对设置的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板上设有与所述容纳槽内连通的第一通孔，所述第二挡板上设有与所述第一气体通道连通的第二通孔，所述第一通孔与所述第二通孔交错设置；

位于所述第一通孔和所述第二通孔之间的所述第一挡板向靠近所述第二挡板的方向凸设有至少一个第一凸起部，位于所述第一通孔和所述第二通孔之间的所述第二挡板上设有至少一个第二凸起部，所述第一凸起部和所述第二凸起部交错设置以形成一弯折通道。

进一步的，所述第二通孔的截面面积小于所述第一通孔的截面面积。

进一步的，相邻的第一凸起部和所述第二凸起部之间形成子通道，沿着从所述第二通孔到所述第一通孔的方向设置的子通道的内径越来越大。

进一步的，所述第一气体通道内设有气体过滤结构。

进一步的，所述杆体的另一端设有用于将所述杆体固定的螺纹结构。

本实用新型还提供一种对位装置，包括上述的基板支撑杆。

本实用新型的有益效果是：限位结构在基板对位后防止所述滚珠转动，避免在基板对位后由于滚珠转动产生的偏移，保证基板对位的精确性，且基板在对位时、滚珠会随着基板的移动而转动，相对于固定支撑杆减少了支撑杆与基板之间的摩擦，避免对基板的损伤。

附图说明

图1表示本实用新型实施例中基板支撑杆结构示意图；

图2表示本实用新型实施例中缓冲气道结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的结合和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。

如图1所示，本实施例提供一种基板支撑杆，包括：

杆体1；

可转动的设置于所述杆体1一端的滚珠2；

用于在基板对位后防止所述滚珠2转动的限位结构。

当基板进行对位时，滚珠2可随着基板的移动而自由转动，基板与滚珠2之间的摩擦力较小，从而基板在滚珠2上可自由对位，不会对基板造成损伤；基板对位结束后，需要固定基板以免再次产生偏移，限位结构限定滚珠2的位置使得滚珠2不能转动，可避免对位后由于震动等原因导致的基板对位精度不准的问题。

本实施例中，所述杆体1的顶端设有用于容纳所述滚珠2的容纳槽，滚珠2外露于所述容纳槽以承载基板，所述容纳槽的开口的内径小于所述滚珠2的直径。

所述限位结构的具体结构形式可以有多种，只要实现在基板对位后防止所述滚珠2的转动以免基板再次发生偏移即可，本实施例中，所述限位结构包括：

设置于所述杆体1内的第一气体通道，所述第一气体通道与外界气体输入结构连接；

设置于所述容纳槽底部的第二气体通道，与所述第一气体通道连通；

用于控制所述第一气体通道导通与关闭以使得所述滚珠2在第一状态和第二状态变化的阀门5；

其中，所述第一状态为所述滚珠2在从所述第二气体通道流出的气体的作用下固定不动；所述第二状态为所述滚珠2可自由转动的设置于所述容纳槽内。

当基板需要对位时，所述阀门5处于关闭状态，所述滚珠2受到重力作用会掉落到所述容纳槽底部，因为没有其他外力作用于所述滚珠2，所述滚珠2可随着基板的移动而转动，且基板与所述滚珠2之间的摩擦力较小，基板在所述滚珠2上可自由对位；基板对位结束后，需要固定基板以免再次发生位置偏移，所述阀门5打开，外界气体进入所述第一气体通道、并经由所述第二气体通道流出，并作用于所述滚珠2，使得所述滚珠2不能转动，即所述滚珠2相对于所述杆体1固定不动，可避免基板对位后由于震动等原因导致的基板对位精度不准的问题。

进一步的，所述滚珠2与所述容纳槽开口之间具有可供气体流出的缝隙6。

所述缝隙6的设置便于从所述第二气体通道流出的气体从所述缝隙6中流出以在所述滚珠2的四周形成风阻，且由于所述容纳槽的开口的内径小于所述滚珠2的直径，所以所述滚珠2在气体的作用下固定于所述容纳槽内、不能自由转动。

本实施例中，所述阀门5为电磁阀。

优选的，所述阀门5为压缩空气电磁阀。压缩空气进入所述第一气体通道，并经由所述第二气体通道、从所述缝隙6中快速流出、气体流出的速度越快作用于所述滚珠2上的作用力越大，使得所述滚珠2固定不动的效果较好。

为了避免由于气体流出速度过快以至于减少支撑杆的使用寿命，为了解决这一问题，本实施例中，所述第二气体通道内设有用于缓冲气体流出速度的缓冲结构3。

所述缓冲结构3的具体结构形式可以有多种，只要实现缓冲气体的流出速度即可，本实施例中，所述缓冲结构3包括：

相对设置的第一挡板35和第二挡板36，所述第一挡板35上设有与所述容纳槽内连通的第一通孔31，所述第二挡板36上设有与所述第一气体通道连通的第二通孔32，所述第一通孔31与所述第二通孔32交错设置；

位于所述第一通孔31和所述第二通孔32之间的所述第一挡板35向靠近所述第二挡板36的方向凸设有至少一个第一凸起部33，位于所述第一通孔31和所述第二通孔32之间的所述第二挡板36上设有至少一个第二凸起部34，所述第一凸起部33和所述第二凸起部34交错设置以形成一弯折通道。

气体从所述第二通孔32进入所述弯折通道，然后从所述第一通孔31进入所述容纳槽以作用于所述滚珠2，气体传播路线的延长以及多次的改变，缓冲了气体的速度，延长支撑杆使用寿命。

所述第一凸起部33和所述第二凸起部34的数量可根据实际需要设定，即所述弯折通道的长度可根据实际需要设定。

本实施例中，所述第二通孔32的截面面积小于所述第一通孔31的截面面积。

气体通道直径越大气体流速越慢，通过这样的设置达到缓冲气体流速的目的。

优选的，相邻的第一凸起部33和所述第二凸起部34之间形成子通道，沿着从所述第二通孔32到所述第一通孔31的方向设置的子通道的内径越来越大。

由于气体是从外界输入的，其从所述杆体1内流出的气体是具有一定速度的喷射于基板上，气体中若包含杂质则容易造成对基板的损伤，为了解决这一问题，本实施例中，所述第一气体通道内设有气体过滤结构4。

进一步的，所述杆体1的另一端设有用于将所述杆体1固定的螺纹结构7。

本实用新型还提供一种对位装置，包括上述的基板支撑杆。

以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。