一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法与流程

本发明涉及等离子体处理设备技术领域，具体地说是一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法。

背景技术：

等离子体是不同于固体、液体和气体，是物质存在的第四态，等离子体又叫做电浆，是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质。

等离子体技术在众多领域都具有十分显著的优点，在对材料表面进行改性处理方面，具有成本低、无废弃物、无污染等优点；在杀菌消毒方面具有安全性高、无药物残留、灭菌时间短、无环境污染等优点；在对各类污染物(废气、废水)处理方面具有能耗低、效率高、处理流程短、适用范围广等优点。

现有生产加工设备多为流水线式的在线加工，如果需要对现有流水线加工的产品进行等离子体处理，则需要对流水线进行改造，一方面，设备改造成本高，另一方面，需要额外的设备放置场地。针对产品加工流水线，企业更需要可以灵活调整工位的等离子体处理设备，避免对现有流水线进行改造，而现有等离子体处理设备多为固定机箱结构，灵活性差，不能适应流水线式的作业生产。

如中国专利cn206225317u公开了一种等离子体处理的装置，包括：第一等离子体源；第一平面电极；气体分配设备；等离子体阻挡筛网；以及工件卡盘。所述第一等离子体源产生第一等离子体产物，所述第一等离子体产物从所述第一等离子体源离开，穿过所述第一平面电极中的第一孔隙。所述第一等离子体产物继续穿过所述气体分配设备中的第二孔隙。所述等离子体阻挡筛网包括具有第四孔隙的第三板，并且面对所述气体分配设备，使得所述第一等离子体产物穿过所述多个第四孔隙。所述工件卡盘面对所述等离子体阻挡筛网的第二侧，从而在所述等离子体阻挡筛网与所述工件卡盘之间限定工艺腔室。中国专利cn206140648u公开了一种等离子体处理设备，包括低温等离子体电极基台、低温等离子体电源和机体，所述机体由型材框架拼装组成，低温等离子体电极基台安装在带式传送平台与辊式传送平台之间，带式传送平台安装在机体前端固定于型材框架上，辊式传送平台安装在机体尾端固定于型材框架上，微量施胶装置安装在型材框架上，位置处于低温等离子体电极基台后端，在辊式传送平台上方，还设有冷却风机位于机体内部，位于低温等离子体基台下方，机体外还设有上集风金属罩和下集风金属罩，还设有动力装置，用于驱动带式传送平台和辊式传送平台上传动带的运动。上述等离子体处理设备不适用于流水线式加工产品等离子体处理的需求，设备安装使用的灵活性有限。

因此，如何提供一种半离线式等离子体处理设备，以实现流水线等离子体处理，同时，满足对产品加工流水线设备改造的需求，提高等离子体处理效率，提高设备适用性和灵活性，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本申请的目的在于提供一种半离线式等离子体处理设备及其使用方法，实现流水线等离子体处理，同时，满足对产品加工流水线设备改造的需求，提高等离子体处理效率，提高设备适用性和灵活性。

为了达到上述目的，本申请提供如下技术方案。

采用的第一种技术方案：一种半离线式等离子体处理设备，包括输送线机架、传输组件、真空腔、运动组件、真空吸盘组件及支撑架；

所述传输组件设置在所述输送线机架上方，所述传输组件用于传输工件托盘；

所述动力组件设置在所述支撑架上方，所述动力组件用于驱动所述真空吸盘组件的上下、左右移动。

优选地，所述真空吸盘组件包括托架、吸盘横支架及真空吸嘴，所述吸盘横支架按一定间隔均匀分布在所述托架下端，所述真空吸嘴固定在所述吸盘横支架上。

优选地，所述真空腔包括腔体和上盖，所述腔体和上盖通过连杆固定连接；

所述腔体的底部设置有绝缘平板，所述绝缘平板上方设置有正极板；所述腔体的四周设置有绝缘条。

优选地，所述正极板上设置有均匀分布的托盘隔条，所述托盘隔条用于放置工件托盘。

优选地，所述传输组件包括传输架、传输皮带、主动轴、从动轴、传输电机，所述传输架上设置有凹槽，所述主动轴、从动轴分别设置在所述凹槽的两端，所述传输皮带设置在所述凹槽内，所述传输电机驱动所述主动轴转动。

优选地，所述输送线机架包括第一输送线机架和第二输送线机架，所述第一输送线机架和第二输送线机架分别设置在所述真空腔的两侧；

所述传输组件包括第一传输组件和第二传输组件，所述第一传输组件和第二传输组件分别与所述第一输送线机架和第二输送线机架相对应。

优选地，所述运动组件包括x轴动力组件和z轴动力组件，所述x轴动力组件用于实现所述真空吸盘组件的左右移动；所述z轴动力组件用于实现所述真空吸盘组件的上下移动。

优选地，所述x轴动力组件包括第一驱动电机、x轴导轨架、x轴丝杆、x轴丝杆螺母，所述x轴丝杆设置在所述x轴导轨架内，所述x轴丝杆与x轴丝杆螺母相配合。

优选地，所述z轴动力组件包括第二驱动电机、z轴导轨架、z轴丝杆、z轴丝杆螺母；

所述z轴导轨架的一侧设置有与所述x轴导轨架相对应的第一定位块，另一侧设置有移动架，所述移动架下方固定所述真空吸盘组件，所述移动架的一侧设置有与所述z轴导轨架相对应的第二定位块。

上述半离线式等离子体处理设备的使用方法：包括以下步骤：

s1、传输电机开启，工件托盘经第一传输组件传输，在传输皮带上传送；

s2、真空腔打开，动力组件带动真空吸盘组件上下、左右移动，同时，真空吸盘组件吸住工件托盘，并将其放置在腔体内，真空吸盘组件归位，上盖关闭，抽真空进行等离子体处理；

s3、处理完成后，真空腔打开，动力组件带动真空吸盘组件移动，真空吸盘组件吸住腔体内的工件托盘，并将其放置到第二传输组件上传输，进入下一个工序；

s4、重复步骤s2-s3。

本发明所获得的有益技术效果：

1)本发明解决现有等离子体处理设备多为固定机箱结构，灵活性差，不能适应产品流水线式作业生产的缺陷，实现了流水线等离子体处理，同时，满足对产品加工流水线设备改造的需求，提高了等离子体处理效率，提高了设备适用性和灵活性；

2)本发明通过第一传输组件和第二传输组件，实现真空腔处理工件托盘的前后传输，满足流水线式对产品进行等离子体处理的需求，有利于提高产品处理效率；

3)本发明通过真空吸盘组件实现了对工件托盘的自动化作业，一方面能够降低人力成本，另一方面大大提高处理效率；

4)本发明通过输送线机架和真空腔机架的简易结构设置，适用于对现有流水线设备进行改造，无需较大的占地面积，改造成本低，设备安装和使用灵活性高。

上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上述及其他目的、优点和特征。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1是本公开一种实施例中半离线式等离子体处理设备的结构示意图；

图2是本公开一种实施例中真空腔的结构示意图；

图3是本公开一种实施例中传输组件的结构示意图；

图4是本公开一种实施例中运动组件的结构示意图；

图5是本公开一种实施例中真空吸盘组件的结构示意图。

在以上附图中：1、输送线机架；101、第一输送线机架；102、第二输送线机架；2、传输组件；201、传输架；202、传输皮带；203、传输电机；204、阻挡条；3、真空腔；301、腔体；311、正极板；312、绝缘条；313、托盘隔条；302、上盖；303、长连杆；304、短连杆；4、运动组件；401、x轴动力组件；411、第一驱动电机；412、x轴导轨架；413、第一定位块；402、z轴动力组件；421、第二驱动电机；422、z轴导轨架；423、移动架；424、第二定位块；5、真空吸盘组件；501、托架；502、吸盘横支架；503、真空吸嘴；6、支撑架；7、支脚；8、工件托盘。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。在下面的描述中，提供诸如具体的配置和组件的特定细节仅仅是为了帮助全面理解本申请的实施例。因此，本领域技术人员应该清楚，可以对这里描述的实施例进行各种改变和修改而不脱离本申请的范围和精神。另外，为了清楚和简洁，实施例中省略了对已知功能和构造的描述。

此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身并不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。

本文中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，单独存在b，同时存在a和b三种情况，本文中术语“/和”是描述另一种关联对象关系，表示可以存在两种关系，例如，a/和b，可以表示：单独存在a，单独存在a和b两种情况，另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”关系。

本文中术语“至少一种”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和b的至少一种，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含。

实施例1

如附图1所示，一种半离线式等离子体处理设备，包括输送线机架1、传输组件2、真空腔3、运动组件4、真空吸盘组件5及支撑架6。

所述传输组件2设置在所述输送线机架1上方，所述传输组件2用于传输工件托盘8。

所述动力组件设置在所述支撑架6上方，所述动力组件用于驱动所述真空吸盘组件5的上下、左右移动。

如附图2所示，所述真空腔3包括腔体301和上盖302，所述腔体301和上盖302通过连杆固定连接。

进一步的，所述连杆包括长连杆303和短连杆304，所述长连杆303、短连杆304的两端分别固定在所述腔体301、上盖302的一侧。

所述腔体301的底部设置有绝缘平板，所述绝缘平板上方设置有正极板311；所述腔体301的四周设置有绝缘条312。

所述上盖302相当于负极，即腔体301底部对上盖302放电。

所述上盖302上设置有观察窗，方便观察腔体301内处理产品。

所述正极板311上设置有均匀分布的托盘隔条313，所述托盘隔条313用于放置工件托盘8。

所述真空腔3下端设置有真空腔机架，所述真空腔机架的底部设置有支脚7。

如附图3所示，所述传输组件2包括传输架201、传输皮带202、主动轴、从动轴、传输电机203，所述传输架201上设置有凹槽，所述主动轴、从动轴分别设置在所述凹槽的两端，所述传输皮带202设置在所述凹槽内。

所述主动轴和从动轴带动所述传输皮带202传动，所述传输电机203驱动所述主动轴转动。

所述传输电机203驱动固定在所述输送线机架1上，且位于所述传输架201下方，所述传输电机203的电机轴上设置有第一传动齿轮，所述主动轴的一端连接有第二传动齿轮，所述第一传动齿轮和第二传动齿轮通过皮带传动连接，以使得所述传输电机203带动所述主动轴转动，进而实现所述传输皮带202的传动。

进一步的，所述传输皮带202的一端设置有阻挡条204，所述阻挡条204靠近所述凹槽的边缘，所述阻挡条204用于限定所述工件托盘8传输的位置。

进一步的，所述输送线机架1包括第一输送线机架101和第二输送线机架102，所述第一输送线机架101和第二输送线机架102分别设置在所述真空腔3的两侧，所述第一输送线机架101和第二输送线机架102的底部设置有支脚7。

进一步的，所述传输组件2包括第一传输组件和第二传输组件，所述第一传输组件和第二传输组件分别与所述第一输送线机架101和第二输送线机架102相对应，所述第一传输组件为工件托盘8的进料端，所述第二传输组件为工件托盘8的出料端。

如附图4所示，所述运动组件4包括x轴动力组件401和z轴动力组件402，所述x轴动力组件401用于实现所述真空吸盘组件5的左右移动；所述z轴动力组件402用于实现所述真空吸盘组件5的上下移动。

所述x轴动力组件401包括第一驱动电机411、x轴导轨架412、x轴丝杆、x轴丝杆螺母，所述x轴丝杆设置在所述x轴导轨架412内，所述第一驱动电机411与x轴丝杆传动连接，所述x轴丝杆与x轴丝杆螺母相配合，实现x轴丝杆旋转带动x轴丝杆螺母沿x轴丝杆左右移动。

所述z轴动力组件402包括第二驱动电机421、z轴导轨架422、z轴丝杆、z轴丝杆螺母，所述z轴丝杆设置在所述z轴导轨架422内，所述第二驱动电机421与z轴丝杆传动连接，所述z轴丝杆与z轴丝杆螺母相配合，实现z轴丝杆旋转带动z轴丝杆螺母沿z轴丝杆上下移动。

所述z轴导轨架422的一侧设置有与所述x轴导轨架412相对应的第一定位块413，所述第一定位块413与所述x轴丝杆螺母固定连接，以使得所述第一定位块413能够随着所述x轴丝杆螺母沿x轴丝杆左右移动。

所述z轴导轨架422的另一侧设置有移动架423，所述移动架423下方固定所述真空吸盘组件5，所述移动架423的一侧设置有与所述z轴导轨架422相对应的第二定位块424。

所述第二定位块424与所述z轴丝杆螺母固定连接，以使得所述第二定位块424能够随着所述z轴丝杆螺母沿z轴丝杆上下移动。

如附图5所示，所述真空吸盘组件5包括托架501、吸盘横支架502及真空吸嘴503，所述吸盘横支架502按一定间隔均匀分布在所述托架501下端，所述真空吸嘴503固定在所述吸盘横支架502上，实现吸盘抓料。

进一步的，所述吸盘横支架502的两端均设置有真空吸嘴503，每个工件托盘8对应四个真空吸嘴503，有利于提高吸盘抓料的稳定性。

实施例2

基于上述实施例1，一种半离线式等离子体处理设备的使用方法，包括以下步骤：

s1、传输电机203开启，工件托盘8经第一传输组件传输，即进料端，在传输皮带202上传送；

s2、真空腔3打开，动力组件带动真空吸盘组件5上下、左右移动，同时，真空吸盘组件5吸住工件托盘8，并将其放置在腔体301内，真空吸盘组件5归位，上盖302关闭，抽真空进行等离子体处理；

具体的，所述x轴动力组件401通过驱动移动架423的左右移动，带动真空吸盘组件5的左右移动；所述z轴动力组件402通过驱动移动架423的上下移动，带动真空吸盘组件5的上下移动。

真空吸盘组件5中的真空吸嘴503完成对工件托盘8的抓料、放料。

s3、处理完成后，真空腔3打开，动力组件带动真空吸盘组件5移动，真空吸盘组件5吸住腔体301内的工件托盘8，并将其放置到第二传输组件上传输，即出料端，进入下一个工序；

s4、重复步骤s2-s3。

需要说明的是，上述工件托盘8为用于装运待处理等离子体的产品。

上述半离线式等离子体处理设备通过第一传输组件和第二传输组件，实现真空腔3处理工件托盘8的前后传输，满足流水线式对产品进行等离子体处理的需求，有利于提高产品处理效率；通过真空吸盘组件5实现对工件托盘8的自动化作业，一方面能够降低人力成本，另一方面大大提高处理效率；通过输送线机架1和真空腔机架的简易结构设置，适用于对现有流水线设备进行改造，无需较大的占地面积，改造成本低，设备安装和使用灵活性高。

上述半离线式等离子体处理设备解决现有等离子体处理设备多为固定机箱结构，灵活性差，不能适应产品流水线式作业生产的缺陷，本发明实现流水线等离子体处理，同时，满足对产品加工流水线设备改造的需求，提高等离子体处理效率，提高设备适用性和灵活性。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，其并非因此限制本发明的保护范围，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，通过常规的替代或者能够实现相同的功能在不脱离本发明的原理和精神的情况下对这些实施例进行变化、修改、替换、整合和参数变更均落入本发明的保护范围内。