一种新型热可塑性聚氨酯弹性体料缸清理系统的制作方法

本实用新型涉及清理打磨机械技术领域，尤其涉及一种新型热可塑性聚氨酯弹性体料缸清理系统。

背景技术：

热可塑性聚氨酯弹性体(以下简称TPU)一般采用双螺杆反应挤出机连续法生产，由于生产过程中在螺杆挤出机中进行高温反应，长时间如此，料液会反应生成杂质混入到产品中，严重影响产品质量。因此，双螺杆挤出机的螺杆和料缸需要进行定期清理，传统清理机的打磨头只能前后移动不能转动，故打磨清理效果不明显；传统清理机没有刹车固定系统，因此在清扫杆前后移动过程中清理机很容易被反作用力推动，故影响打磨清理效果。因此，需要对设备做出改进。

技术实现要素：

本实用新型旨在解决现有技术的不足，而提供一种新型热可塑性聚氨酯弹性体料缸清理系统。

本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：

所述的一种新型热可塑性聚氨酯弹性体料缸清理系统，其特征在于，包括下台面，下台面下设有万向轮，下台面上还穿有若干停车桩，停车桩的下台面上下侧位置均通过螺纹配合有调节螺母，下台面的上表面边缘处设有若干下固定腿，下台面上还设有气缸，下固定腿、气缸的上方还设有上台面，上台面下表面设有位置、数量与下固定腿对应的若干上移动腿，上移动腿与下固定腿构成移动副，上台面下表面固定有缓冲组件，气缸的顶杆顶在缓冲组件下，上台面上设有沿前后方向布置的滑轨，滑轨上设有马达底座，马达底座底部与滑轨构成移动副，马达底座上设有把手，马达底座上固定有马达，马达的输出轴朝向前，马达的输出轴末端固定连接有清扫杆，清扫杆末端设有打磨头。

优选地，缓冲组件包括缓冲板及缓冲座，缓冲板与上台面下表面固定，缓冲座安装于气缸的顶杆顶部，缓冲板的边缘与缓冲座之间连接有若干缓冲杆，缓冲座上侧面积比缓冲板下侧面积小。

优选地，打磨头与清扫杆可拆卸式固定。

优选地，打磨头包括杆部和设置在杆部一端的打磨件，所述打磨头杆部末端与清扫杆通过法兰固定连接。

优选地，打磨头包括杆部和设置在杆部一端的打磨件，所述打磨头杆部通过螺纹旋入清扫杆中，且打磨头杆部的旋松方向与清扫杆转向相同。

优选地，马达可正反交替运转。

本实用新型的有益效果是：本实用新型打磨头既可旋转，又可前后移动，打磨清理效果显著；本实用新型设有停车桩，在清理系统工作时，不会前后移动不固定。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的缓冲组件的结构示意图。

图中：1-滑轨；2-上台面；3-上移动腿；4-气缸；5-下固定腿；6-停车桩；7-下台面；8-万向轮；9-打磨头；10-缓冲组件；11-清扫杆；12-马达；13-把手；14-马达底座；15-缓冲板；16-缓冲杆；17-缓冲座。

以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

如图1和图2所示，一种新型热可塑性聚氨酯弹性体料缸清理系统，其特征在于，包括下台面7，下台面7下设有万向轮8，下台面7上还穿有若干停车桩6，停车桩6的下台面7上下侧位置均通过螺纹配合有调节螺母，下台面7的上表面边缘处设有若干下固定腿5，下台面7上还设有气缸4，下固定腿5、气缸4的上方还设有上台面2，上台面2下表面设有位置、数量与下固定腿5对应的若干上移动腿3，上移动腿3与下固定腿5构成移动副，上台面2下表面固定有缓冲组件10，缓冲组件10避免了气缸4的顶杆与上台面2直接接触，而压强过大破坏上台面2，气缸4的顶杆顶在缓冲组件10下，上台面2上设有沿前后方向布置的滑轨1，滑轨1上设有马达底座14，马达底座14底部与滑轨1构成移动副，马达底座14上设有把手13，马达底座14上固定有马达12，马达12的输出轴朝向前，马达12的输出轴末端固定连接有清扫杆11，清扫杆11末端设有打磨头9。

优选地，缓冲组件10包括缓冲板15及缓冲座17，缓冲板15与上台面2下表面固定，缓冲座17安装于气缸4的顶杆顶部，缓冲板15的边缘与缓冲座17之间连接有若干缓冲杆16，缓冲座17上侧面积比缓冲板15下侧面积小。

优选地，打磨头9与清扫杆11可拆卸式固定，以便于更换不同功能、型号的打磨头。

优选地，打磨头9包括杆部和设置在杆部一端的打磨件，所述打磨头9杆部末端与清扫杆11通过法兰固定连接。

优选地，打磨头9包括杆部和设置在杆部一端的打磨件，所述打磨头9杆部通过螺纹旋入清扫杆11中，且打磨头9杆部的旋松方向与清扫杆11转向相同。

优选地，马达12可正反交替运转。

在需要进行清理料缸时，只需调节气缸4，使得清扫杆11达到指定高度，并调节停车桩6撑地固定，启动马达12，打磨头9开始进行清扫工作，通过把手13前后移动马达12，打磨头9也前后移动。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。