1.一种真空高温炉，包括坩埚（2），设置在坩埚（2）下方并环向设置在坩埚（2）外侧的保温层，以及设置在保温层顶部的保温盖（1）；其特征在于，所述坩埚（2）与保温层之间设有隔热屏（3），该隔热屏（3）的内侧面为反射面。
2.根据权利要求1所述的真空高温炉，其特征在于，所述高温炉的炉体（10）内设有位于保温层外侧的感应线圈（6）。
3.根据权利要求1所述的真空高温炉，其特征在于，所述隔热屏（3）有多层，优选为3-12层。
4.根据权利要求3所述的真空高温炉，其特征在于，所述隔热屏层与层之间的间距为5mm-50mm，优选为10mm-20mm。
5.根据权利要求1所述的真空高温炉，其特征在于，所述隔热屏（3）由多个弧面元件彼此绝缘排列而整体呈环形，相邻两个弧面元件之间间距为10mm-100mm。
6.根据权利要求1-5之一所述的真空高温炉，其特征在于，所述隔热屏（3）的顶部通过固定夹（12）安装在固定于保温层顶部上的固定架（11）上，该隔热屏（3）的底部通过固定夹固定在保温层底部。
7.根据权利要求6所述的真空高温炉，其特征在于，所述固定夹为U型或V型。
8.根据权利要求1-5之一所述的真空高温炉，其特征在于，所述坩埚（2）的底部通过支柱（7）设置在保温层底部上方。
9.根据权利要求1-5之一所述的真空高温炉，其特征在于，所述坩埚（2）与保温盖（1）之间、坩埚（2）与保温层底部之间均设有保温材料（8）。
10.根据权利要求1-5之一所述的真空高温炉，其特征在于，所述保温层包括高温保温层（4）和低温保温层（5）；优选高温保温层为氧化锆层，低温保温层为氧化铝层。