流体处理装置的制作方法

文档序号:4809946阅读:145来源:国知局
专利名称:流体处理装置的制作方法
技术领域
申请者的发明是关于一种用于处理流体的装置及一种用于处理流体的方法。更具体而言,本发明是关于一流体且尤其是水的处理系统,其不使用化学品即可降低流体中的细菌、藻类及菌类。
背景技术
地球上的水经过一自然循环系统不断地循环。水自池塘、小溪、湖泊及江河流入海洋中,蒸发并进入大气中,又自空气中落回到地球上,被地面吸收并聚集于地下含水层中并通过泉从地下重新涌现。
基本上未受人类影响的水可称为“天然水”。人类使用循环的“天然”水,并随后将水返回至该循环系统。令人遗憾的是,通常人类的使用会污染水而导致“非天然水”。“非天然水”吸收且易于生长对健康有害的细菌、藻类及菌类。“非天然水”的pH处于变动状态且表面张力比“天然水”的表面张力高。
水发出一可测量的电磁频率(EMF)。天然水有其自己的EMF特征。然而,水是一种能量吸收物质,其可吸收矿物质、化学品及其他所接触的物质的频率。当此种情况发生时,水的EMF特征被改变以模拟杂质的EMF特征。因而,可以说水具有“记忆”。虽然可通过化学或机械方式对水进行“纯化”以尽可能多地去除水中的有毒物质,其水仍携带所记忆的以特定频带(波长)形式存在的电频率。经任何纯化、化学处理、过滤甚至蒸馏后,污染物的有害信息仍存留在水中。所记忆的EMF特征可用于精确跟踪处理前水中的有害物质。
如美国专利第5,711,950号所述,“当氯化钠溶于水时,水分子包围钠及氯离子并产生离子水合物。所产生的水分子几何形状不同于先前以氢键结合的水分子团。水分子在结构上变得更规则并且更有序。在微聚集水(microclustered water)中添加氯化钠可实现同样的效果。因而,可以说氯化钠起着一改变用“模板”的作用。正是此模板或“模式”将改变保留在水中,锁定在由此发明产生的特别结构中。”分子的形状如其组成一样,对功能具有相同的重要性。由原子团形状决定的电子结合模式可改变物质所有相的行为及性质。当电子以一离域模式被整个原子团共用时,负电荷被均匀分布且该原子团可呈现某些固体金属态,例如,导电性。当电子均被紧紧束缚在原子上时,原子团类似于离散分子。
两个氢原子与一个氧原子的共价键结形成水分子(H2O)。为了填满其外层,氧原子需要两个电子,且通过与每一或两个氢原子共用一个电子来获得这两个电子。该些氢原子与氧原子键结形成一三角形结构。此形状很重要,因为其形成了许多支持生命的溶液及化合物的基础。
因为键结的原子共用电子,但电子被更强地吸引至氧原子核而非氢原子核,所以水分子的共价键是极性的。这在两个氢原子核附近产生一小的正电荷。由于氢原子的正电荷被从其它水分子吸引至氧原子的负电荷,因而形成了水分子团。众所周知,此氢键在许多生物化合物中扮演着重要角色,且对于维持大分子(例如,蛋白质及核酸)的形状是至关重要的。
水的聚集模式因能够透过水所形成的晶体进行拍照而得到证明。晶体是一种具有有序构形原子及分子的固体物质。晶体除了存在于雪及结晶石英中外,还可在天然矿物(例如金刚石)及食盐中看到晶体。当水分子结晶时,纯或“天然”水成为纯晶体,但被污染的、经过化学处理的“死”水不能结晶为天然四面体。经本发明处理的水可以与“天然”水一样结晶。
涡流是自然界普遍的现象。涡流输送能量且是自然界用于聚集或分解其所产生物质的工具。涡流形成物质、赋予其形状并使其聚集。涡流通过向心方式加料及供养生长并随后以离心方式解除生长并使其返回至死亡或不运动状态来引导各种过程。涡流是一种有序、持续、可再生的技术。
涡流存在于水(例如,小溪、河流)中或空气中。在每一溪流中,水在被称为漩涡的小涡流中不断盘旋。在海洋不断翻滚盘旋的波浪中也可看到同样的运动。此运动使水聚集电力。水可储存势能。水的向心向内运动使其自身恢复活力。
内爆使物质发生向内运动。此向内(向心)运动不是沿一直线路径而是一螺旋旋转路径(一涡流)到达中心。涡流的外部运动慢而中心运动很快。当水发生内爆时,比水粘稠的悬浮颗粒被吸入水流的中心,摩擦阻力减小而流动速度加快。已有报道说水的化学性质(包括氧含量)会发生变化,表面张力降低且金属离子发生沉淀及键结。
因而,需要一种方法及装置来擦除被污染的水的记忆,并将水的EMF特征从污染物改变为天然水。
先前技术的装置已证明能够在一定程度上改良水量。多数装置使用一安装于水管外部上的一环形或马蹄形磁铁来影响水分子的极化。其他装置则使用直流电流线圈来获得同样的结果。少数装置则将直流电极嵌入水空穴中来改良水质。其他装置使用高压放电在一封闭室腔内产生臭氧,所产生气体注入水流中对水进行杀菌。
已知某些水磁化处理可对水产生持续效果。人们曾使用X射线结晶学及电子显微术来测定硬水形成的水垢。未经处理的水与经磁化处理的水所形成的水垢是不同的。经处理的水与未经处理的水所形成水垢间存在的差异可持续数天。
例如,比利时的CEPI-CO公司已出售数十万套磁化水处理装置来减少工业冷却回路中的结垢。该些磁化水处理装置安装在持续循环的系统中且仅用于抑制水垢的目的。然而,其有益的结果证明水的磁化处理可具有持续的有益效果且可改变水的结晶行为。该些结果仅可通过动态磁化处理获得,即,流体快速流过一正交磁场以在水中产生半永久性变化。
而且,已知磁场还可降低水的表面张力及粘度。研究显示水的磁化处理可改变某些以细菌为媒介的污染物氧化方式的效果。
本发明同样以一种赋予水有益记忆或半永久性效果的方式对水进行非化学处理。
目前有多种先前用于磁化处理流体的装置。通常通过围绕一流体通过的管道或容器缠绕一电磁线圈来轴向施加磁场。因此,由于所施加的电压在靠近磁铁处增大而在管道中心处减小,故效果较差。其场强不均匀,因而效率低下。
专利第3,873,448号此专利被描述为“一种特别实用的可从粘性流体中分离出尺寸为微米级的铁磁体物质的磁力分离器”。该分离器使用一构成一流体流过的铁磁体颗粒床的铁磁体填料。该建立在过滤器内的磁场沿流体方向横向延伸。位于与电磁铁相关位置上的电磁线圈产生该磁场。当过滤介质充满颗粒时,此发明另外需要冲洗。此外,线圈中的直流电压必须改为交流电压。此改变导致形成填料的颗粒去磁。该填料介质被描述为“组成过滤器的钢丸或其他颗粒”,且在本发明设计中为一层7英寸厚的1/16英寸钢丸。此文未涉及该钢丸圆球的重要性,且该专利似乎仅使用该钢丸作为一种可磁化的过滤材料。尽管此专利未包括作为过滤材料的圆钢丸,但其用途是作为一铁磁材料的分离器。
专利第4,836,932号此发明使用一“水处理电池”产生局部强“超磁场(60,000至250,000高斯)。”此可在产生若干微小的高强度磁场时通过微磁体的稳定化而实现。该些微细颗粒分散于非磁性介质中。然后,该“超磁体”被置于一处理水用容器中。水中的矿物质(例如离子化钙)在容器底部作为钙粉末沉淀出来。此技术主要用于从水中分离废料。此外,还需要一湍流,但该湍流需要进行调整。此发明的拟定用途是在一循环系统中用于除水垢。发明中不使用圆球或磁体,水进入一包含该些超磁体的容器。
专利第3,869,390号此装置是一用于从蒸汽发电厂锅炉给水中去除铁氧化物的电磁过滤器。该装置包括位于一容器内的一金属球过滤床及一围绕该容器的励磁线圈。该线圈具有冷却通路,并且一夹套可以供打开冷却介质之用。该磁场在该些球的外部产生。该装置是一过滤器,其需要直流及交流电且局限于一特殊用途。
专利第4,501,661号-此发明宣称可提供一种用于对水进行纯化及活化的方法及装置,并获得不含真菌的、干净且口感好及富含矿物质的类似天然水。此装置包括三个室1、第一室为一减速区,其使用一种多孔颗粒形式的药剂且能够分解结合的氯、吸收自由氯(例如,自甲壳类动物的壳获得的钙质陶瓷)并在超高温下对其进行处理;2、第二室为一活化区,其中使水的平衡状态无序化并进行电离。在此区内,水将呈中性或弱碱性。此结果可通过使用白色英斑岩(磁性多元素矿物)的带电颗粒及在该些颗粒中径向安放的磁性棒来实现;3、第三室为沉淀区,其用于破坏水的离子平衡并将水定向为软化,该室包含一由丙烯酸树脂制成的磁性球,其自由空间内包含一磁性小球。小球的数量可少至3个。此装置复杂,包含多种处理介质且磁性球不用于流动或导向,而仅用作一磁场源。此发明未宣称该磁场可除去氯,而是宣称第一室内的一介质可实现去氯目的。磁性球的用途不能与本发明相比。
专利第4,904,381号-此装置是一用于对流体进行磁化处理的装置,其具有在一流体通路或蓄水池内旋转并配备一磁场发生器的转子及一耦合至该转子的旋转构件。水处理是通过磁场发生器来实施的,该磁场发生器整体旋转,在其周围产生一旋转磁场。此外,在一包含若干由一永磁形成的小球且镀金或镀银的室内对水施用一过滤元件。每个小球各在水中产生一静磁场并且狭窄的间隙有助于去除水中包含的杂质。发明者申明过滤元件不需仅限于圆球形磁体,也可为包含Ca、Mg及其他对饮用水及农产品有益的元素的陶瓷。该磁场发生器包括多个永磁。装置中设置有一空气吸管以增加水的流速,并产生水泡以增加水的氧含量。该过滤元件(圆形磁球)是用于去除杂质而不是处理水。水由第一室内旋转的磁场产生器进行处理并改变。

发明内容
本发明包括一个可在一流体中引入快速旋转涡流的结构。涡流对流体进行制备,擦除该流体所记忆的有害物质的EMF特征并引入一新的期望特征。本发明进一步包括一用于向该流体添加一期望频率的方法。此目的可通过许多不同的方法来实现,包括本文所揭示的那些实施例。
本发明提供了一可对水及其他流体进行处理以使其返还自然状态的新颖装置。
本发明的其他目的为a、对被污染的水及流体进行处理。
b、降低或消除游泳池、温泉、冷却塔及城市及其他水系统中对化学消毒剂(例如,氯、溴、稳定剂、除藻剂及澄清剂)的需求。
c、对水进行处理以使水在一动物体内具有更高的吸收率并因此能够增加营养从食物、营养补品及药品及医药制品中的释放量。
d、增加化妆品及护肤品的渗透及细胞水合作用。
e、降低或消除农业生产工艺中对杀虫剂、除草剂及肥料的需求。
f、对其他流体进行处理,以提供更有效和有用的水分子团。
g、为降低表面张力,本发明是可测量的。水的表面张力自每厘米72达因降低至62达因。(达因是一用于阐述流体渗透性的测量单位。)h、抑制水中藻类、细菌及真菌的生长。
i、增加导电性。
j、形成氢键。水可经过排列或不经过排列,此取决于氢键是否将水分子团连接在一起。经过氢键排列的水将有一更平衡的pH。
在正常状况下,水分子的自然聚集存活时间短且水分子团的尺寸无法预测。本发明改变了水或其他流体的水分子团模式,使变化持久存在。其他发明通过对水进行磁性处理已经生产出经处理后水分子排列更规则且更稳定的水,但无一发明赋予水以新的水分子团模式,因而其不能“保持”水的改变。该些发明未完成去除消极程序且赋予新程序所需的过程,因而仅半永久性地改变了水。
本发明将能够去除消极的“频率或程序”,对水进行排列以接收一新程序并将该程序赋予水。此过程将使水的改善持续时间更长,而不需在装置中对水不断进行再循环。
预计本发明可用于工业中,例如城市水处理、池塘及温泉、旅馆及饭店、空调、农业、化妆品、食品及饮料。
而且,通过降低生物活性流体(例如,鲜乳、生酒、果汁及其他流体)中的活细菌数量而延长其储存期。例如,对牛奶进行超巴斯德灭菌可使牛奶具有一长储存期。本发明的一特点是同样使用所述结构及方法来减少经处理流体中此种潜在有害细菌的数量。
然而,与未经处理的流体相比,经过所述结构及方法处理后的流体可阻止变质且减缓或防止引入经处理流体中的新细菌的生长。例如,因为超巴斯德灭菌大大减少了牛奶中细菌的数量,超巴斯德灭菌牛奶会长时间阻止变质。然而,一旦超巴斯德灭菌牛奶打开并暴露于新的细菌,其很快就坏掉。然而,经本发明处理的牛奶却不易接受新引入的细菌并因而在暴露于新细菌后比经超巴斯德灭菌的牛奶具有更长的储存期。
该两个好处——第一,降低经处理流体中细菌的数量;第二,长期调节流体以随后阻止重新引入的细菌使流体变质,除对牛奶有效用外,也对可生物降解的流体有效用。
通过此方法生产的经处理流体可依据其施用的量及浓度用来改良或负面影响活性有机体。高度处理的水可用来杀死植物、微生物及不需要的生命。处理量较低的经处理流体可用于改良植物、微生物及其他不需要的生命的健康状态。例如,剪切的花卉放置于经处理的水中会持续更长时间。而且,盆栽花卉用适量经处理水处理后将生长得更快,但如果经处理水的浓度太高,植物的生长将受到阻滞。
除其他效果外,经测量,本发明可使自来水的表面张力自每厘米72达因降低至62达因。
所阐述效果的半永久性质使该处理方法可用于池塘、城市供水及类似地方。
附图简单说明

图1是本发明第一实施例的侧视图。
图2是本发明第一实施例的流体进入管的侧视图。
图3是本发明第一实施例的左旋涡流室的侧视图。
图4是本发明第一实施例的左旋涡流室的俯视图。
图5是本发明第一实施例的具有一铜线圈的右旋涡流室的侧视图。
图6是本发明第一实施例的具有一铜线圈的右旋涡流室的俯视图。
图7是本发明第一实施例的具有一银线圈及频率天线的右旋涡流室的侧视图。
图8是本发明第一实施例的具有一银线圈及频率天线的右旋涡流室的俯视图。
图9是本发明第二实施例的侧视图。
图10是沿图9的X-X轴线截取的微型球体的剖面图。
图11是流体围绕本发明微型球体流动的示意图。
图12是本发明第三实施例的侧视图。
图13是本发明第四实施例的侧视图。
图14是本发明第五实施例的俯视图。
较佳实施例详细说明参照附图,图1展示本发明第一实施例的一侧视图。流体处理装置(2)包含两个或以上其中产生一涡流(6)的涡流室(10、12、14及16)。如图1所示,该流体处理装置(2)的第一实施例使用四个涡流室(10、12、14及16),涡流室大致呈管状,换言之,即一具有一沿圆柱体纵轴延伸的孔的圆柱体。然而,预期第一实施例的流体处理装置(2)的最多变化是包含2至10个涡流室(10、12、14及16)。涡流室(10、12、14及16)与第一涡流室的一流体入口(20)串联连接,以容许流体(未图示)从流体源(未图示)流入涡流室(10、12、14及16)。流体(未图示)(通常为水(未图示))流经流体进入管(18)并在靠近第一涡流室的一第一端(10a)处进入第一涡流室(10)。流体(未图示)从第一涡流室的第一端(10a)向下流至第一涡流室的第二端(10b),并在此处通过流体出口(22)离开第一涡流室(10)。然后,流体(未图示)流过一连接管(24),该连接管(24)在流体连接管的第一端(24a)处连接至流体出口(22)而在流体连接管的第二端(24b)处连接至靠近第二涡流室第一端(12a)的流体入口(20)。流体(未图示)再次向下流通第二涡流室(12),并在此处离开靠近第二涡流室第二端(12b)处的流体出口(22)。流体(未图示)继续流通第三涡流室(14)及第四涡流室(16),或者,若串联的涡流室多于四个,则继续流动直至到达最后的涡流室(未图示)并通过一最终流体出口(22)离开。
为优化流体处理装置(2)中流体(未图示)的注入特性并增加涡流室(10、12、14及16)内产生的涡流(6),流体入口(20)及流体出口(22)的尺寸和位置均经过合理设计。涡流室(10、12、14及16)及入口及出口的直径可改变,但通常按比例改变。已发现,流体入口(20)/流体出口(22)直径与涡流室直径的理想比例介于2/3至1/6之间。因此,假如涡流室(10、12、14及16)的直径为4英寸,则流体入口(20)、流体出口(22)及连接管(24)的直径应约为1至2英寸。可按比例改变直径。
举例而言,可根据上述说明处理池水或城市用水,且可根据拟处理的水(未图示)的体积、两次处理之间的预期时间周期及水(未图示)的污染程度依据需要按比例放大或缩小。流体处理装置(2)将比其他用于杀死生物活性成分的方法更温和地杀死被处理流体(未图示)中的生物活性成分。重度氯化、一足够强的磁场及充足的压力都将能够杀死细菌。然而,本发明可更经济地杀死细菌且具有半永久性效果,换句话说,经本发明处理的水(未图示)可抵抗生物污染物(例如,细菌、藻类及真菌)的再感染。
第四涡流室(16)还具有一附装于第四涡流室(16)内的频率天线(26)。频率天线(26)位于靠近第四涡流室第二端(16b)处并接近流体出口(22)的液位。频率天线(26)通过一频率导线(36)连接至一频率天线发生器(28)。
流体处理装置(2)可与一流体系统(未图示)联合使用,该流体系统可包括多种类型的流体传输系统(未图示),例如,一管道(未图示)或一简单的流体容器(未图示)。如本文中所用,流体系统(未图示)可包括任何将流体供应至流体处理装置(2)的源或方法。
流体处理装置(2)可由任何数量的涡流室(10、12、14及16)组成,但通常由2至10个其内部生成涡流(6)的涡流室(10、12、14及16)组成。涡流室(10、12、14及16)与来自流体源(未图示)的第一涡流室(10)的流体入口(20)串联连接。来自第一涡流室(10)的流体出口(20)连接至第二涡流室(12)的流体入口(20),且所有的涡流室(10、12、14及16)均以类似方式连接。
可定位流体入口(20)使其具有一角度(通常介于8至15度之间),以改良流体(未图示)的流动性并增加涡流(6)的力量。同样流体出口(22)也可具有一定角度。
图2为本发明第一实施例的流体进入管(18)的侧视图。流体进入管(18)与一流体系统(未图示)或流体源(未图示)连通,且附装至第一涡流室(10)的流体入口(20)。流体进入管(18)容许流体(未图示)进入处理装置(2)。流体进入管(18)可具有多个配套的磁性环(30)。磁性环(30)可附装并环绕在流体进入管(18)上。拟定磁性环(30)具有相当强的磁力。例如,每一磁性环(30)的强度较佳等于或大于5000高斯。磁性环(30)均被极化且具有一正极性端(30a)及负极性端(30b)。该多个磁性环(30)沿流体进入管(18)相互邻近定位和定向,以使磁性环(30)的相同极性端紧靠在一起。由此,正极性端(30a)靠近其他正极性端(30a),且负极性端(30b)靠近其他负极性端(30b)。虽然也可采用其他磁性环(30)数量及放置方式,但预期流体处理装置(2)将包含以英寸至5英寸间隔设置的3至10个磁性环(30)。例如,流体进入管(18)可环绕有高斯强度为5000或以上的间隔为1英寸的7个磁性环(30)。磁性环(30)的内径等于流体进入管(18)的外径。
图3是本发明第一实施例的第一涡流室(10)的侧视图。其描述了第一涡流室(10)内水流(4)的方向。如图所示,水(未图示)通过流体入口(20)进入第一涡流室(10)并通过流体出口(22)离开。流体入口(20)及流体出口(22)的位置可使流体(4)及所产生的涡流(6)均为左旋定向或反时针旋转。水(未图示)充满第一涡流室(10),但水(未图示)的离开产生涡流(6)。主涡流(6)沿第一涡流室(10)的内部中心纵向延伸。一涡流(6)的组成为多个小涡流生成该主涡流(6)。在涡流(6)的底部,水(未图示)的能量达到最高。此点是涡流(6)的混沌点(未图示)或顶点(未图示)。在该混沌点(未图示),水流(未图示)具有朝其在涡流(6)中旋转的相反方向转向的趋势。因此,已通过一反时针涡流(6)的水(未图示)在混沌点(未图示)有欲顺时针回转的趋向。
图3描绘的是第二涡流室。
图4是第一涡流室(10)的俯视图。其描述水流(4)通过流体入口(20)从流体进入管(18)进入并产生一如图所示的反时针涡流(6)。然后,水(未图示)通过流体出口(22)离开并进入一连接管第一端(24a)。
图5是第三涡流室(14)的侧视图。第三涡流室(14)以图3及4中描述的第一涡流室(10)的相同方式操纵,不同之处在于流体入口(20)及流体出口(22)被布置为使产生的涡流(6)具有右旋或顺时针旋转。此外,第三涡流室(14)内包含一铜线圈(32)。该铜线圈的缠绕方向与涡流(6)的设计旋转方向相同。在第一涡流室(10)及第二涡流室(12)被设计用于从流体(未图示)中“擦除”记忆的同时,铜线圈(32)的存在可容许来自铜的期望频率共振穿过水(未图示)。其赋予水(未图示)记忆,以在水(未图示)中产生一永久性变化,称作聚集水(clustered water)(未图示)。人已知铜具有除藻及杀真菌的性质。当水(未图示)经过该些金属时,金属赋予水一可对水(未图示)进行排列的频率或“记忆”。
铜离子还通过电化腐蚀过程转移至水(未图示)中,赋予水包含能直接对抗藻类及真菌的离子的额外优点。当不同导电材料连接并暴露于一电解液时,会发生电化腐蚀。电化腐蚀使金属呈现不同的腐蚀电压。正是电压差形成了电化电流的驱动力。在本发明中,铜成为一阳极且银将作为一阴极,而水(未图示)是电解液。
图6是第三涡流室(14)的俯视图。类似图4,其描述水(未图示)的液体流(4)。与图4不同的,第三涡流室(14)的液体流(4)为顺时针或向右。图6也展示有放置在第三涡流室(14)内的铜线圈(32)。
图7是第四涡流室(16)的侧视图。图7所描述的第四涡流室(16)及液体流(4)实质上与图5中所描述的第三涡流室(14)及液体流相同。第四涡流室(16)的流体入口(20)及流体出口(22)的定位方式与第三涡流室(14)相同,以使流体(未图示)产生一右旋或顺时针旋转的涡流(6)。第四涡流室(16)也具有一线圈,但插入了一银线圈(34)代替了铜线圈(32)。同样,银线圈(34)以与涡流(6)拟旋转方向相同的方向缠绕。与铜线圈(32)相同,银线圈(34)赋予水(未图示)记忆,以在水(未图示)中产生永久性变化,称作聚集水(clustered water)(未图示)。银是一种杀菌剂。当水(未图示)经过银线圈(34)时,银线圈赋予水(未图示)一可对水(未图示)进行排列的频率或“记忆”。银离子还通过电化腐蚀过程转移至水(未图示)中,赋予其包含能直接对抗细菌的离子的额外优点。
在第四涡流室第二端(16b)附装有一频率天线(26)。频率天线位于第四涡流室(16)的中心。其所在高度可使频率天线(26)悬置于涡流(6)的混沌点(未图示)附近。频率天线(26)通过一频率导线(36)与频率发生器(28)联络。频率发生器(28)为频率天线(26)提供电力。频率导线(36)可为一连接至频率发生器(28)的不设置接地线的单导线。在此情况下,频率天线(26)与频率发生器(28)间的电路不完整。送往频率天线(26)的电力为频率不超过1000赫兹的变频直流电。因而,频率在涡流(6)底部靠近混沌点(未图示)处释放至水(未图示)中。
图8是第四涡流室(16)的俯视图。除了用银线圈(34)代替铜线圈(32)且第四涡流室(16)的中心设置有一频率天线(26)外,其在所有方面均与图6相同。
图9是本发明第二实施例的透视图。图9描述本发明的另一实施例,其具有与同一实施例相同的特征。与第一实施例相同,第二实施例包含一流体系统(未图示)或配备有一涡流产生装置及一频率发生装置的流体源(未图示)。各个实施例的主要区别是涡流产生装置及频率发生装置所采取的形式。第一实施例的涡流产生装置采取了一系列涡流室(10、12、14及16)的形式,且频率发生装置采取了多个金属线圈(32及34)和一频率天线(26)的形式,而第二实施例使用不同形式的涡流产生装置及频率发生装置。图9所示的第二实施例使用一具有第一端(40a)及第二端(40b)的涡流室构件(40)。涡流室构件(40)的形状大致呈管状。水(未图示)通过第一口(46)进入涡流室构件(40)。流体(未图示)流过涡流室构件(40)并通过第二口(48)离开。附装在涡流室构件第一端(40a)上的是一流体入口件(44)。流体入口件(44)可采取不同形式。图9描述一实施例,其中流体入口件(44)大致呈一三角顶饰,以使流体(未图示)更容易地注入涡流室构件(40)。此构造可容许本发明在“桌面”上使用,使用者可将水(未图示)或其他流体(未图示)倾倒入涡流室构件(40)内。如图12、13及14所示,为使涡流室构件(40)能够嵌入一管道(未图示)或其他流体系统(未图示)中,流体入口件(44)可车有螺纹。在涡流室第二端(40b)处附装在涡流室构件(40)上的还有流体出口件(58)。与流体入口件(44)相同,流体出口件(58)可采取多种形式,包括(但不限于)图12、13及14所示的螺纹形式。
不管其具体形式如何,本发明的涡流产生装置均设计位可在流体(未图示)内产生涡流(6)。在图9所示的第二实施例中,涡流(6)由一系列排列成排的微型球体(38)产生。多个微型球体(38)通过第一滤网(42a)及第二滤网(42b)被保持在涡流室构件(40)内。第一滤网(42a)被附装在涡流室构件(40)内部靠近涡流室第一端(40a)的位置。第二滤网(42b)被附装在涡流室构件(40)内部靠近涡流室第二端(40b)的位置。第一滤网(42a)及第二滤网(42b)均设计为流体(未图示)可通过而微型球体(38)不能通过。虽未图示,但流体入口件(44)及流体出口件(58)也可作为第一滤网(42a)及第二滤网(42b)。
通过涡流室构件(40)的水(未图示)被收集于一流体容器(50)内或继续送至接续的流体系统(未图示)中。流体容器(50)位于一基座构件(52)上。基座构件(52)内有一通过一电源线(56)连接至一电源(62)的变送器(54)。此机构的一实例为使用声频扬声器(其为一种变送器)提供频率。因此,在该第二实施例中,变送器(54)用作频率发生装置。其向上通过容纳于流体容器(50)中的流体传递声波(未图示)并将频率赋予流体(未图示)。
为接受期望的频率,流体(未图示)必须已通过涡流(6)充分擦除了所有不需要的频率。在第二实施例中,微型球体(38)用作涡流产生装置。当水(未图示)在微型球体(38)之间的空隙中流动时,其经受强烈的扰乱及许多涡流。该些涡流可擦除水(未图示)中的记忆且使其准备接收由变送器(54)产生的频率。变送器(54)发出声音的音频通常介于300至1500赫兹之间。
图10是沿图9的X-X平面截取的一俯视剖面图。当流体(未图示)位于微型球体(38)所形成的空隙中间时,如图11所示,其经受强烈的扰乱和涡流。微型球体(38)可具有高高斯磁性,通常至少3500。磁化微型球体(38)的极性产生一复杂的交变磁场,所有微型球体(38)共同充当一所有流体(未图示)流过的大多孔磁铁。
为确保产生涡流(6)及增加其能量,流体(未图示)可通过一使用相对高压力(通常至少20磅)的涡流室构件(40)。该压力可容许与微型球体(38)的较长时间接触及均匀暴露。然而,不是所有情况都需要该压力。
可将微型球体(38)布置成多个有序的排,尽管并不需要如此。该些排可如图10所示组织,6个微型球体(38)环绕涡流室构件(40)的内壁而1个微型球体(38)位于中心,如果此一排列适应涡流室构件(40)的话。此一排列取决于涡流室构件(40)的内部直径及微型球体(38)的直径。可调整每一排中微型球体(38)的数量及其位置以适应涡流室构件(40)。在那些使用磁化微型球体(38)的情况中,微型球体(38)通常根据其极性自我取向。
图9描述使用变送器(54)提供频率的本发明第二实施例。还可使用与第一实施例阐述的线圈类似的金属股线(60)来提供此频率。金属股线(60)由铜或银制成,以赋予流体(未图示)有益的效果。
水(未图示)中任何痕量的矿物盐在离开该系统时一经通过终端即会被极化。这样会使所有物质因极化而悬浮在水(未图示)中并防止像随机极化的矿物盐那样在流体系统(未图示)的内部形成任何沉积(称为结垢)。
pH是水(未图示)中该些电荷之间的平衡度。pH的较大变化会损坏设备且可降低化学品的有效性。通过以磁性方式组织水将使pH更稳定。
图11是一描述围绕本发明微型球体(38)的液体流(4)示意图。其也是沿图9的X-X平面截取的微型球体(38)的侧视图。液体流(4)在一直线路径中前进直至其遇到微型球体(38),此时其环绕微型球体(38)旋转,若干水流(未图示)汇集在一起形成微涡流(未图示)。微型球体(38)在高高斯微型球体(38)之间将被处理流体(未图示)快速旋转形成许多涡流(6)。作用在流体(未图示)上的使其移动通过涡流室构件(40)的相对高的压力使流体经受上述频率发生装置的影响。小球形高高斯磁性微型球体(38)与以足够速度将流体送过流体处理装置(2)以产生涡流(6)的高压力相互结合,可杀死不需要的细菌。一额外优点是可沉淀矿物质(例如,铁、钙及镁),因此有助于防止结垢。
图12是本发明的第三实施例的侧视图。其也是涡流室(40)的一替代实施例,其中使用频率天线(26)而非变送器(54)赋予流体(未图示)频率。图12展示充满微型球体(38)的涡流室构件(40)。如上所述,流体入口件(44)及流体出口件(58)有螺纹,以便将涡流室构件(40)嵌入管道中。流体(未图示)仍沿流体流动管线(4)流过涡流室构件(40)。频率天线(26)由频率发生器(28)赋能并通过频率导线(36)连接。频率以本发明第一实施例所述的相同方式被赋予流体(未图示)。
图13再次展示涡流室(40)具有用于赋予流体(未图示)频率的第二替代方法。虽然第一实施例中使用的是铜线圈(32)及银线圈(34),但图13描述金属股线(60)与微型球体(38)一起嵌入涡流室构件(40)的内部。类似于铜线圈(32)和银线圈(34),金属股线(60)由所需的金属材料(例如,铜或银)制成。因此,沿流体流动管线(4)流动的流体(未图示)经受诸多涡流,该些涡流可擦除流体(未图示)中记忆,并同时将金属股线(60)的有益特征赋予流体(未图示)。
图14是用于本发明第二实施例的频率发生装置的一第三替代实施例。图14描述一具有两组微型球体(38)的涡流室构件(40)。微型球体(38)组由第一滤网(42a)及第二滤网(42b)两组滤网保持在适当位置。在此替代实施例中,可通过磁化一室内的微型球体(38)且使用由频率导线(36)连接的频率天线(26)向另一室内的频率发生器(28)施加电力来产生频率。由此,流体(未图示)被排列且现存的模式被擦除,然后给流体施加期望的频率。伸入涡流室构件(40)的频率天线(26)赋予流体(未图示)有益频率以产生一永久性改变。如果流体(未图示)为水(未图示),则经改良的水(未图示)被称作聚集水(clustered water)(未图示)。由微型球体(38)产生的多个涡流导致水(未图示)向心并向内方向运动。此自然的向心运动将能量模式注入水(未图示)中,引起一持久的变化。
尽管本发明有许多经揭示的及可能的实施例,但其工作原理及使用相同方法均相同。每一实施例均包括一配备有一涡流发生装置及一频率产生装置的流体系统(未图示)或流体源(未图示)。流体(通常为水)通过多个涡流。通常使用一设计在流体内产生涡流的室来完成此过程。此过程旨在自流体中擦除对生物污染物的“记忆”。其也使流体准备“记忆”一新的期望频率,该频率可使用诸如电源线、扬声器、变送器及磁铁等元件通过多种方法(例如,电流、音频及磁性)施加。也可通过使流体与例如铜及银金属股线等材料接触来施加来自期望材料的频率。期望的频率可使流体变为一不适合生物污染物(例如,细菌、藻类及真菌)的环境,减少该些生物污染物在流体中的数量。
虽然本说明书已参照具体实施例对本发明进行了阐述,但其并非意欲以限制意义解释本发明。在参照有关本发明的说明后,所属领域的技术人员可容易地构想出对所揭示实施例的各种修改及本发明的替代实施例。因此,本发明所附的权利要求意欲包括该些属于本发明范畴内的改进。
权利要求
1.一种用于处理流体的装置,其包括一流体系统;一与所述流体系统连通的涡流产生装置,所述流体能够流过所述涡流产生装置;一频率发生装置,其以操作方式与所述涡流产生装置相接合,以在所述流体的一混沌点附近将一频率施加至所述流体。
2.如权利要求1所述的装置,其中所述涡流产生装置进一步包括一大致为管状的第一涡流室,所述第一涡流室在大致靠近所述第一涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第一涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第一涡流室的流体产生一左旋涡流;及一大致为管状的第二涡流室,所述第二涡流室在大致靠近所述第二涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第二涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第二涡流室的流体产生一右旋涡流。
3.如权利要求1所述的装置,其中所述涡流产生装置进一步包括一大致为管状的涡流室构件,所述涡流室构件具有第一端及第二端;所述涡流室构件第一端附装至流体入口管;所述涡流室构件第二端附装至流体出口管;多个微型球体,其位于所述涡流室构件内并由附装在所述涡流室构件内部靠近所述涡流室构件第一端处的第一滤网及附装在所述涡流室构件内部靠近所述涡流室构件第二端处的第二滤网保持在合适的位置。
4.如权利要求3所述的装置,其中所述微型球体被排列成多排,每一排微型球体包含7个微型球体,其中6个微型球体围绕所述涡流室构件的内径而1个微型球体位于其他6个微型球体的中心。
5.如权利要求3所述的装置,其中所述微型球体已被磁化。
6.如权利要求1所述的装置,其中所述频率发生装置进一步包括一频率天线,其附装至所述涡流室构件内并与所述流体相接触;及一频率导线,其将所述频率天线连接至一频率发生器,所述频率发生器为所述频率天线供电且所述频率天线的电未接地以使所述频率发生器与所述频率天线之间的电路不完整。
7.如权利要求1所述的装置,其中所述频率发生装置进一步包括一变送器,其以操作方式与所述流体系统相接合,以使所述变送器发出的声波接触所述流体。
8.如权利要求1所述的装置,其进一步包括一金属离子构件,其位于所述涡流产生装置内且与所述流体相接触。
9.如权利要求8所述的装置,其中所述金属离子构件包含铜或银。
10.如权利要求1所述的装置,其中所述流体为水。
11.一种用于处理流体的装置,其包括一流体系统;一第一涡流室,其大致为管状且与所述流体系统相连通,所述第一涡流室在大致靠近所述第一涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第一涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第一涡流室的流体产生一左旋涡流;一第二涡流室,其大致为管状且与所述流体系统相连通,所述第二涡流室在大致靠近所述第二涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第二涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第二涡流室的流体产生一右旋涡流;及一频率天线,其附装在所述第二涡流室内并与所述流体相接触。
12.如权利要求11所述的装置,其进一步包括一频率导线,其将所述频率天线连接至一频率发生器,所述频率发生器为所述频率天线供电,其中所述频率天线未电接地以使所述频率发生器与所述频率天线之间的电路不完整。
13.如权利要求11所述的装置,其进一步包括一位于所述第二涡流室内并由银或铜制成的金属线圈。
14.一种用于处理水的装置,其包括一水源;一第一涡流室,其大致为管状且与所述水源相连通,所述第一涡流室在大致靠近所述第一涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第一涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第一涡流室的水产生一左旋涡流;一第二涡流室,其大致为管状且与所述水源相连通,所述第二涡流室在大致靠近所述第二涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第二涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第二涡流室的水产生一左旋涡流;一第三涡流室,其大致为管状且与所述水源相连通,所述第三涡流室在大致靠近所述第三涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第三涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第三涡流室的水产生一右旋涡流;一第四涡流室,其大致为管状且与所述水源相连通,所述第四涡流室在大致靠近所述第四涡流室的第一端处具有一流体入口并在大致靠近所述第四涡流室的第二端处具有一流体出口,所述流体入口及流体出口的位置可使流过所述第四涡流室的水产生一右旋涡流;一频率天线,其附装在所述第四涡流室内并与水相接触;一频率导线,其将所述频率天线连接至一频率发生器,所述频率发生器为所述频率天线供电,其中所述频率天线未电接地以使所述频率发生器与所述频率天线之间的电路不完整;一由铜制成的金属线圈,其位于所述第三涡流室内并与水接触;及一由银制成的金属线圈,其位于所述第四涡流室内并与水接触。
15.一种用于处理流体的装置,其包括一大致为管状的涡流室构件,所述涡流室构件具有一第一端及一第二端;所述涡流室构件的第一端附装至流体入口管;所述涡流室构件的第二端附装至流体出口管;多个微型球体,其位于所述涡流室构件内且由附装在所述涡流室构件内部靠近所述涡流构件第一端处的第一滤网及附装在所述涡流室构件内部靠近所述涡流构件第二端处的第二滤网保持在合适的位置;及一变送器,其以操作方式与所述流体系统相接合以使所述变送器发出的声波接触所述流体。
16.如权利要求15所述的装置,其中所述微型球体被排列成多排,每一排微型球体包含7个微型球体,其中6个微型球体围绕所述涡流室构件的内径而1个微型球体位于其他6个微型球体的中心。
17.如权利要求16所述的装置,其中所述微型球体已被磁化。
18.如权利要求15所述的装置,其进一步包括一流体容器,该流体容器以操作方式与所述涡流室构件相接合,以便当流体流过所述涡流室构件室可聚集在所述流体容器内。
19.一种用于减少水中生物污染物的方法,其包括使水形成多个涡流;使水经过一铜股线;使水经过一银股线;及向水施加一频率。
全文摘要
本发明是关于一种可在一流体内引入快速旋转涡流的装置,其具有一涡流产生装置(2)及一频率发生装置(26)。
文档编号C02F1/48GK1535248SQ02814711
公开日2004年10月6日 申请日期2002年5月30日 优先权日2001年5月30日
发明者R·萨德斯, R 萨德斯 申请人:市政供水技术有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1