技术总结
本实用新型涉及一种基板清洗装置，其提供一种基板清洗装置，所述基板清洗装置包括：基板支撑部，其对基板进行支撑；清洗刷，其在旋转的同时对基板进行接触清洗，并且使得旋转中心和所述基板表面保持接触状态的间隔距离在清洗工艺中发生变化，通过使清洗刷的旋转中心和基板的距离发生变化从而在加压基板的清洗刷的摩擦力发生变化的同时，不仅可大大提高去除残留在基板的表面的100μm以上的较大异物的效果，还可提高40μm至100nm以下的微小异物的去除效果。
技术研发人员：安俊镐;李荣均;尹赞相;金怜娥
受保护的技术使用者：K.C.科技股份有限公司
文档号码：201621189298
技术研发日：2016.11.04
技术公布日：2017.09.19