1.一种硅片清洗池用的自动加药装置，包括储药罐(1)，其特征在于：所述的装置还包括浓度检测仪(2)、计量泵(3)、控制模块、上喷头(4)和下喷头(5)，浓度检测仪(2)的检测端位于清洗池(6)内液面的下方，浓度检测仪(2)的控制端与控制模块的信号输入端连接，控制模块的控制端与计量泵(3)的受控端连接，上喷头(4)位于清洗池(6)内的液面上方且出口端朝向下方，下喷头(5)位于清洗池(6)内的底部且出口端朝向上方，计量泵(3)的进药口与储药罐(1)连通，计量泵(3)的出药口同时与上喷头(4)和下喷头(5)连通。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗池用的自动加药装置，其特征在于：所述的上喷头(4)和下喷头(5)的数量都是至少为三个，上喷头(4)的出液方向竖直向下且下喷头(5)的出液方向竖直向上，所有的上喷头(4)沿清洗池(6)内壁均匀排布，下喷头(5)与上喷头(4)一一对应且交错设置。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗池用的自动加药装置，其特征在于：所述的上喷头(4)和下喷头(5)外表面都设置有防腐层，上喷头(4)上防腐层的厚度为0.3～0.5mm，下喷头(5)上防腐层的厚度为0.8～1mm。
4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗池用的自动加药装置，其特征在于：所述的储药罐(1)内设置有液位计，增设报警器，液位计的控制端与控制模块的信号输入端连接，控制模块的控制端与报警器的受控端连接。
5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗池用的自动加药装置，其特征在于：所述的计量泵(3)位于储药罐(1)上方并与储药罐(1)固定连接。
6.根据权利要求1所述的一种硅片清洗池用的自动加药装置，其特征在于：所述的上喷头(4)和下喷头(5)都借助管路与计量泵(3)连通，所有的管路都位于清洗池(6)外侧。