一种污水处理装置的制作方法

文档序号:12854691阅读:333来源:国知局

本实用新型涉及污水处理领域,具体而言,涉及一种污水处理装置。



背景技术:

日用化学品厂在生产各种化妆品的过程中产生大量的废水、污水和废液等浓水,这些浓水中含有表面活性剂、助剂和色素等。其主要组份有:烷基聚氧乙烯硫酸盐R-CH20等各类表面活性剂、保湿剂、增洁剂、色素AES等,如果直接将这些浓水排放出去,则会污染环境,故有必要净化回收、循环利用。生产各种化妆品需要用纯水作为原料之一,因此可以设计一种将浓水净化成纯水的装置,将日用化学品厂内的浓水自己回收处理、循环利用,可以大大改善环境质量。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种污水处理装置,以解决上述问题。

为实现本实用新型目的,采用的技术方案为:一种污水处理装置,包括内罐和开设在内罐底部的排污口,从下至上依次设置在罐体内的第一过滤层和第二过滤层;所述内罐的底部设置有曝气管和进水管;所述进水管的出水口端向上弯曲,且进水管的出水口还设置有缓冲帽;所述内罐密封套设有外罐,内罐的上端开设有溢流口,且溢流口处固定设置有溢流板;所述外罐的上端还开设有排水口,外罐的底部设置有排污管,且排污管的出口端与进水管连接。

进一步的,所述缓冲帽为伞形结构。

进一步的,所述内罐与外罐之间还设置有隔层,且隔层的上端固定在外罐上,隔层的下端与外罐底部之间间隙设置。

进一步的,所述内罐内还设置有空心圆台状的阻隔板,且阻隔板位于第一过滤层下方。

进一步的,所述进水管和排污管上均设置有开关阀。

进一步的,所述第一过滤层为活性炭吸附层,所述活性炭吸附层与内罐内壁无缝连接。

进一步的,所述第二过滤层包括陶瓷过滤网和海绵吸附层,所述海绵吸附层设置于两层陶瓷过滤网之间。

本实用新型的有益效果是,先通过第一过滤层和第二过滤层进行过滤,且内罐的污水在过滤的同时能进行沉淀,将过滤后得到的清水从内罐溢流进入到外罐再次进行沉淀,使最终得到的水质量更好;同时通过外罐沉淀后产生的污水能通过排污管进入到进水管后再次进入到内罐进行沉淀,使外罐中的沉淀物能再次进行沉淀,提高污水沉淀的效果。本实用新型占地面积少,成本少,投资低。

附图说明

图1是本实用新型提供的污水处理装置的结构图;

附图中标记及相应的零部件名称:

1、内罐,2、排污口, 3、第一过滤层,4、第二过滤层,5、曝气管,6、进水管, 7、缓冲帽,8、外罐,9、溢流口,10、溢流板,11、排水口,12、排污管,13、隔层,14、阻隔板。

具体实施方式

下面通过具体的实施例子并结合附图对本实用新型做进一步的详细描述。

图1所示出了本实用新型提供的一种污水处理装置,包括内罐1和开设在内罐1底部的排污口2,从下至上依次设置在罐体内的第一过滤层3和第二过滤层4,且第一过滤层3与第二过滤层4之间间隙设置;所述内罐1的底部设置有曝气管5和进水管6,且曝气管5和进水管6均位于第一过滤层3的下方;所述进水管6的出水口端向上弯曲,且进水管6的出水口还设置有缓冲帽7,缓冲帽7能降低污水进入到内罐1的冲击力,防止因污水进入内罐1的速度过快而使内罐1内沉淀的沉淀物向上移动;所述内罐1密封套设有外罐8,内罐1的上端开设有溢流口9,通过溢流口9使外罐8与内罐1连通,且溢流口9处固定设置有溢流板10,溢流板10为L状,使通过内罐1过滤沉淀后的清水能通过溢流板10溢流进入到外罐8内;所述外罐8的上端还开设有排水口11,排水口11位于外罐8的上端,且排水口11与溢流口9位置相对,外罐8的底部设置有排污管12,排污管12的出口端与进水管6连接,使排污管12和进水管6形成三通结构。

所述缓冲帽7为伞形结构,使通过进水管6进入到内罐1的污水先通过缓冲帽7进行缓冲后再进入到内罐1,降低污水的冲击力。所述内罐1与外罐8之间还设置有隔层13,且隔层13的上端固定在外罐8上,隔层13的下端与外罐8底部之间间隙设置,使外罐8内形成迂回的水流通道,使进入到外罐8内的水能进行充分的沉淀,提高沉淀效果,使最后得到的清水质量更好。所述内罐1内还设置有空心圆台状的阻隔板14,且阻隔板14位于第一过滤层3下方,阻隔板14的小径端向上,阻隔板14的大径端与内罐1内壁缝合,且阻隔板14的小径端与第一过滤层3之间存在一定间隙,阻隔板14能有效隔绝内罐1底部悬浮的沉淀物。

所述进水管6和排污管12上均设置有开关阀,方便控制污水的进入,同时方便排出外罐8的污水。所述第一过滤层3为活性炭吸附层,所述活性炭吸附层与内罐1内壁无缝连接,有效防止污水通过第一过滤层3与内罐1内壁之间的间隙通过。所述第二过滤层4包括陶瓷过滤网和海绵吸附层,所述海绵吸附层设置于两层陶瓷过滤网之间。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

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