本实用新型属于反应设备技术领域，具体涉及潜层絮凝沉淀反应器。
背景技术：
絮凝反应在环保领域具有非常广泛的用途，通过流体混合，絮凝剂在反应器内与水中微小的悬浮物、胶体颗粒发生絮凝反应，小颗粒絮凝聚集成大颗粒，进而通过气浮或沉淀等方式加以去除。现有的絮凝反应装置除了具有各自的缺点外，一般还需要配备沉淀池对絮凝后的固体进行去除，造成投资和运行成本的上升。
以工业污水处理为例，工业污水中往往含有危害性大的重金属，以及非金属有害物，通过化学沉淀法可将其从废水中去除。但是该水处理装置往往需要多个装置配合，如反应池、絮凝池、沉淀池等设备，占地面积大，结构复杂，而且多次加药需要分别在不同的反应装置内添加，操作复杂，而且难以将药剂均匀分配到水体中，处理效果不理想。因此，如何研发新型潜层絮凝沉淀反应器，减少占地面积，具有重要的现实意义。
技术实现要素：
针对现有技术中存在的结构复杂、占地面积大的技术问题，本实用新型的目的在于提供潜层絮凝沉淀反应器。
本实用新型采取的技术方案为：
潜层絮凝沉淀反应器，包括壳体，壳体自上而下依次设置有电机、进水口、中和反应区、絮凝反应区和絮凝沉淀区，所述中和反应区内自上而下依次设置有溢流罩和布液管，溢流罩的顶端设置有溢流筒，进水口的末端和溢流筒连通，布液管通过转轴和电机连接；所述絮凝反应区的壳体内壁上相对排布设置有导流板和絮凝缓冲板，导流板自上而下设置有平行排布的上导流板和下导流板，上导流板和下导流板之间的壳体内侧壁上设置有絮凝剂喷头，絮凝缓冲板的底部延伸至上导流板和下导流板之间的空腔内；所述絮凝沉淀区内设置有沉降筒，沉降筒的两侧设置有沉降流道。
进一步的，所述溢流罩设置为中空圆台体结构，其外侧壁上沿纵向排布设置有导流槽。
进一步的，所述溢流筒向内凹陷设置为中空锥形体结构。溢流筒的顶端直径和溢流罩的顶端直径一致，溢流筒的深度小于溢流罩的高度。
进一步的，所述布液管沿着垂直于转轴的方向平行设置为数根，相邻的布液管自上而下呈梯形递增式排布设置。
更进一步的，所述布液管上均匀开设有布液孔。
进一步的，所述导流板和絮凝缓冲板均呈倾斜向下式排布设置。
进一步的，所述絮凝剂喷头设置为一个或多个，相邻的絮凝剂喷头呈倾斜向上式排布设置。
进一步的，所述沉降筒设置为锥形体结构，其上均匀开设有沉降孔。
本实用新型的有益效果为：
本实用新型中的反应装置结构紧凑，设计合理，将中和反应区和絮凝、沉降反应区相互结合，大大节省了反应器的占地面积，同时设置有布液管和絮凝剂喷头两处加药点，使中和剂、絮凝剂能够在污水中充分混合均匀，使中和反应区和絮凝反应区内布水更加均匀，且能够有效降低水的流速，有利于絮凝后的沉淀，在满足高效絮凝沉淀的基础上大幅降低了投资和运行成本，适宜产业化应用。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
其中，1、进水口；2、上导流板；3、絮凝剂喷头；4、下导流板；5、电机；6、溢流筒；7、溢流罩；8、布液管；9、絮凝缓冲板；10、沉降筒；11、沉降流道。
具体实施方式
下面结合附图进一步说明本实用新型。
实施例1
如图1所示，潜层絮凝沉淀反应器，包括壳体，壳体自上而下依次设置有电机5、进水口1、中和反应区、絮凝反应区和絮凝沉淀区，所述中和反应区内自上而下依次设置有溢流罩7和布液管8，溢流罩7的顶端设置有溢流筒6，进水口1的末端和溢流筒6连通，布液管8通过转轴和电机5连接。
溢流罩7设置为中空圆台体结构，其外侧壁上沿纵向排布设置有导流槽，从溢流筒6内溢流出来的液体沿着导流槽均匀向下流动。
溢流筒6向内凹陷设置为中空锥形体结构。溢流筒6的顶端直径和溢流罩7的顶端直径一致，溢流筒6的深度小于溢流罩7的高度。溢流筒6对待絮凝的液体起到一定的暂存功能，其和溢流罩7的协同配合形成了均匀向外溢流的流动方式。
布液管8沿着垂直于转轴的方向平行设置为数根，相邻的布液管8自上而下呈梯形递增式排布设置，所述布液管8上均匀开设有布液孔。其内部的液体在重力和旋转离心力的作用下呈分散式向下流动，均匀分布。
中和反应区具体反应过程为：
待絮凝的液体经过进入口注入至溢流筒6内暂存，当水流没过溢流筒6时，沿着溢流罩7的外壁的导流槽均匀布流，流速均匀可控；接通电源，电机5旋转带动转轴旋转，转轴驱动布液管8顺时针(或逆时针)旋转，中和的酸或碱液注入布流管内，沿着布流管管壁上的布液孔均匀喷射，自溢流罩7上布流的液体下落的过程中与布流管喷出的中和液相互混合，相容性好，使中和液和待絮凝的液体充分接触，在中和反应区内实现了快速的中和反应，对液体进行了初步处理，保证后续的絮凝反应顺利进行。
絮凝反应区的壳体内壁上相对排布设置有导流板和絮凝缓冲板9，导流板和絮凝缓冲板9均呈倾斜向下式排布设置，起到缓冲导流的作用；导流板自上而下设置有平行排布的上导流板2和下导流板4，上导流板2和下导流板4之间的壳体内侧壁上设置有絮凝剂喷头3，絮凝缓冲板9的底部延伸至上导流板2和下导流板4之间的空腔内；絮凝剂喷头3设置为一个或多个，相邻的絮凝剂喷头3呈倾斜向上式排布设置。
所述絮凝沉淀区内设置有沉降筒10，沉降筒10设置为锥形体结构，其上均匀开设有沉降孔，沉降筒10的两侧设置有沉降流道11。沉降筒10对絮凝反应后的液体起到导流作用和沉降的作用。
絮凝反应区及絮凝沉淀区的具体反应过程为：
中和后的液体沿着上导流板2和絮凝缓冲板9缓慢的向下流动至上导流板2和下导流板4之间的空腔内，此时絮凝剂沿着絮凝剂喷头3向上导流板2和下导流板4之间的空腔内喷射絮凝剂，喷头呈倾斜向上式排布，使絮凝剂呈弧形下落轨迹，与中和后的液体汇流，且共同沿着下导流板4缓慢下流，两种液体在同一个腔体内汇流时，接触面积较大，混合充分均匀；下落至沉降筒10处，形成一定的碰撞力，颗粒较大的絮凝物沿着沉降筒10下落至两侧的沉降流道11内，颗粒较小的絮凝物沿着沉降筒10上的沉降孔下流，集中和反应、絮凝反应、絮凝沉淀三过程于一体，它具有混合、反应效率高，截污能力强，操作简单，维护费用低的优点。
以上所述并非是对本实用新型的限制，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型实质范围的前提下，还可以做出若干变化、改型、添加或替换，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。