一种新型硅片清洗装置的制作方法

本实用新型涉及一种清洗装置，尤其是涉及一种新型硅片清洗装置。

背景技术：

半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。

化学清洗时，一般将硅片垂直放置，保证硅片的清洗质量。现有技术中，对于硅片清洗大多数企业使用的是将硅片放入清洗液中进行侵泡，静止侵泡清洗效率低并且质量差，同时，在放置硅片时，清洗液容易溅出，伤害人体。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种新型硅片清洗装置，从而解决上述问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体和清洗池，所述清洗装置主体内部底端设有液压机，所述液压机上端设有液压升缩杆，所述液压升缩杆上端设有安装板，所述安装板上端设有滑轨，所述滑轨表面设有若干个滑块，所述滑块上端设有密封箱，所述密封箱内部底端设有旋转电机，所述旋转电机上端设有旋转轴，所述旋转轴上端表面设有转盘，所述转盘上端设有硅片存放装置，所述清洗装置主体内部中间设有分隔板，所述分隔板上端设有清洗池，所述清洗池一侧设有抵杆，所述抵杆一端设有滑轮，所述清洗池另一侧设有弹簧件，所述弹簧件内部设有弹簧，所述弹簧一侧设有连接杆。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述抵杆一端与清洗池壁固定连接，另一端与滑轮轴动连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述转盘表面设有若干个半圆形凸块，且凸块与滑轮左右对应设置。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述硅片存放装置通过旋转轴与旋转电机传动连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述滑块与滑轨滑动连接。

作为本实用新型的一种优选技术方案，所述连接杆一端与弹簧件镶嵌连接，另一端与密封箱贴合连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该种新型硅片清洗装置，通过设置了液压机，能够通过液压机带动液压升缩杆升高，从而使硅片存放装置浮出液体表面，可避免放置时液体飞溅出接触到人体，提高了安全性，通过设置了旋转电机，能够通过旋转电机带动硅片存放装置内的硅片进行旋转清洁，同时通过旋转轴带动转盘旋转，使转盘挤压一侧的抵杆一端的滑轮，从而带动密封箱整体间接式震动，既能够提供震动对硅片进行冲击清洁，同时可防止旋转导致产生惯性，使清洁液与硅片存放装置相对静止，从而降低了旋转清洁的效率，大大提升了清洁效率，结构简单，操作方便起到了很大的帮助。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型所述一种新型硅片清洗装置结构示意图；

图2为本实用新型所述一种弹簧件内部结构示意图；

图中：1、硅片存放装置；2、密封箱；3、旋转电机；4、滑轨；5、弹簧件；6、安装板；7、分隔板；8、清洗装置主体；9、液压机；10、连接杆；11、液压升缩杆；12、清洗池；13、滑块；14、抵杆；15、滑轮；16、转盘；17、旋转轴；18、弹簧。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种新型硅片清洗装置，包括清洗装置主体8和清洗池12，清洗装置主体8内部底端设有液压机9，液压机9上端设有液压升缩杆11，液压升缩杆11上端设有安装板6，安装板6上端设有滑轨4，滑轨4表面设有若干个滑块13，滑块13上端设有密封箱2，密封箱2内部底端设有旋转电机3，旋转电机3上端设有旋转轴17，旋转轴17上端表面设有转盘16，转盘16上端设有硅片存放装置1，清洗装置主体8内部中间设有分隔板7，分隔板7上端设有清洗池12，清洗池12一侧设有抵杆14，抵杆14一端设有滑轮15，清洗池12另一侧设有弹簧件5，弹簧件5内部设有弹簧18，弹簧18一侧设有连接杆10。

抵杆14一端与清洗池12壁固定连接，另一端与滑轮15轴动连接。

转盘16表面设有若干个半圆形凸块，且凸块与滑轮15左右对应设置。

硅片存放装置1通过旋转轴17与旋转电机3传动连接。

滑块13与滑轨4滑动连接。

连接杆10一端与弹簧件5镶嵌连接，另一端与密封箱2贴合连接。

具体原理：使用时，通过液压机9带动液压升缩杆11升高，从而使硅片存放装置1浮出液体表面，将硅片放入硅片存放装置1，后液压机9带动液压升缩杆11复位，没入清洗池12中，此时旋转电机3通过旋转轴17带动硅片存放装置1内的硅片进行旋转清洁，同时通过旋转轴17带动转盘16旋转，使转盘16表面的凸块挤压一侧的抵杆14一端的滑轮15，当一次挤压完成，弹簧件5内的弹簧18通过连接杆10挤压密封箱2复位，从而带动密封箱2整体通过滑块13在滑轨4表面来回间接式震动。

该种新型硅片清洗装置，通过设置了液压机9，能够通过液压机9带动液压升缩杆11升高，从而使硅片存放装置1浮出液体表面，可避免放置时液体飞溅出接触到人体，提高了安全性，通过设置了旋转电机3，能够通过旋转电机3带动硅片存放装置1内的硅片进行旋转清洁，同时通过旋转轴17带动转盘16旋转，使转盘16挤压一侧的抵杆14一端的滑轮15，从而带动密封箱2整体间接式震动，既能够提供震动对硅片进行冲击清洁，同时可防止旋转导致产生惯性，使清洁液与硅片存放装置1相对静止，从而降低了旋转清洁的效率，大大提升了清洁效率，结构简单，操作方便起到了很大的帮助。

最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。