一个，确 定并存储用于设置相对于参考设置的至少一个变化中的每一个的校准数据，该校准数据表 示用于确定与所考虑的设置的变化有关的实际混合比值相对于与所述参考设置有关的所 述混合比值的值的变化的相应值， 其中，确定所述校准数据包括产生所述设置的至少一个变化，其特征在于： 确定所述校准数据进一步包括获取位于所述混合位置（5 ;35 ;97)下游的所述至少一 个传感器（19 ;42 ;90)中的至少一个变化之前和之后的参数值。
2. 根据权利要求1所述的方法，包括如下至少之一： 确定和存储针对多个参考设置的每一个的所述校准数据，以及 对于至少一个参考设置，确定和存储针对设置相对于所述参考设置的多个变化中的每 一个的校准数据。
3. 根据权利要求1或2所述的方法，还包括： 获取所述混合位置（5 ;35 ;97)下游的流体的参数的目标值， 确定实现所述目标值所需的所述混合比值的新值；以及 使用所存储的校准数据确定对应于所述混合比值到所述新值的调节的所述至少一个 设备的设置的变化。
4. 根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中： 所述流体处理装置是液体处理装置，并且至少部分依赖于相对于穿过所述第一流体路 径的液体，至少在一定的较高的程度上保留在穿过所述第二流体路径的液体中的至少一种 组分的浓度的所述液体的参数为如下之一： 电导率以及 针对从参考温度的偏移而调整的电导率。
5. 根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中： 所述流体处理装置是液体处理装置，且所述流体处理部件（4 ;34 ;96)是被配置为去除 水中的对暂时硬度和永久硬度中至少之一有贡献的组分的液体处理部件。
6. 根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中： 所述流体处理装置是液体处理装置，且所述流体处理部件（4 ;34 ;96)是包含至少初始 为氢的形式的离子交换材料的液体处理部件。
7. 根据前述权利要求中任一项所述的方法，包括： 将所述至少一个设备（3,6 ;30,31 ;93)的设置调节至一范围的端点； 确定与所述范围的端点有关的所述测量信号的相应值； 确定与所述范围的端点有关的所述测量信号的值之间的差； 计算用于确定与设置的变化有关的实际混合比值的变化的值，使得其依赖于混合比值 的预定变化与所确定的所述测量信号的值之间的差的比值。
8. 根据权利要求7所述的方法，包括将表示所确定的差和所述比值中至少之一的数据 存储在存储器中。
9. 根据权利要求7或8所述的方法，包括如下至少之一： 针对所述端点之间的至少一个参考设置确定和存储所述校准数据；以及 对于至少一个参考设置，针对设置相对于参考设置的至少一个变化确定和存储产生端 点之间的设置的校准数据。
10. 根据权利要求7-9中任一项所述的方法，其中： 用于调节所述混合比值的所述至少一个设备（3,6 ;30,31 ;93)包括至少一个阀以及具 有耦合至至少一个阀元件（12)的部件（8 ;32)的驱动器（6 ;31)，其中，所述至少一个端点 对应于驱动部件（8 ;32)的活动范围的界限和通过阀元件（12)的几何结构确定的界限中至 少之一。
11. 根据权利要求9或10所述的方法，包括产生所述端点之间的设置的至少一个设置 变化而获取所述校准数据。
12. 通过流体处理装置的流体处理部件（4 ;34 ;96)从流体中可去除的组分的浓度的量 度的确定方法，包括实施权利要求1-11中任一项所述的方法，其中： 确定从所述流体中可去除的组分的浓度的量度的值包括确定针对通过所述第一流体 路径的流体与通过所述第二流体路径的流体的第一比值的所述参数值与针对通过所述第 一流体路径的流体与通过所述第二流体路径的流体的不同比值的所述参数值之间的差，以 及 其中，使用根据所存储的校准数据获取的所述混合比值的至少一个值和用于调节所述 混合比值的所述至少一个设备（3,6 ;30, 31 ;93)的设置计算组分的浓度的量度值。
13. 用于控制流体处理装置的操作的系统，所述流体处理装置包括： 至少一个第一流体路径和至少一个第二流体路径， 每个第一流体路径通过一流体处理部件（4 ;34 ;96)，所述流体处理部件（4 ;34 ;96)用 于处理流体以至少在一定程度上去除通过所述流体处理部件（4 ;34;96)的流体中的至少 某些类型的组分， 每个第二流体路径旁路至少一个所述流体处理部件（4 ;34 ;96)，使得相比于穿过所述 第一流体路径的液体，通过所述流体处理部件（4 ;34 ;96)可去除的组分至少在一定的较高 的程度上保留在穿过所述第二流体路径的流体中； 混合位置（5 ;35 ;97)，所述第一和第二流体路径在所述混合位置（5 ;35 ;97)将穿过所 述第一和第二流体路径的流体混合；以及 用于调节混合比值的至少一个设备（3,6 ;30,31 ;93)，所述混合比值对应于在所述混 合位置（5 ;35 ;97)的下游的流体中穿过所述第二流体路径的流体的比例， 其中，所述系统包括： 与至少一个传感器（19 ;42 ;90)的接口（18 ;45)，用于获取至少部分依赖于通过所述 旁路的流体处理部件可去除的组分的浓度的所述流体参数的值； 用于提供信号以使所述至少一个设备（3,6 ;30,31 ;93)调节所述混合比值的接口； 数据处理单元（16 ;38)和存储器（17 ;39)， 其中，所述系统被配置为：针对用于调节所述混合比值的所述至少一个设备（3,6 ;30， 31 ;93)的至少一个参考设置中的每一个，确定或存储用于设置相对于参考设置的至少一 个变化中的每一个的数据，该数据表示用于确定与所考虑的设置的变化有关的实际混合比 值相对于与所述参考设置有关的所述混合比值的值的变化的相应值，以及 其中，所述系统被配置为产生所述设置的至少一个变化以确定该数据，其特征在于： 所述系统被配置为为了确定所述数据，在位于所述混合位置（5 ;35 ;97)下游的所述至 少一个传感器（19 ;42 ;90)中的至少一个变化之前和之后获取所述参数值。
14. 根据权利要求13所述的系统，被配置为实施根据权利要求1-12中任一项所述的方 法。
15. -种计算机程序，包括一组当其包含在机器可读介质中时能够使具有信息处理能 力的系统实施根据权利要求1-12中任一项所述方法的指令。
【专利摘要】一种流体处理装置包括：至少一个第一流体路径和至少一个第二流体路径，每个第一流体路径通过一流体处理部件(4；34；96)，所述流体处理部件用于处理流体以至少在一定程度上去除通过所述流体处理部件(4；34；96)的流体中的至少一种组分，每个第二流体路径旁路至少一个所述流体处理部件(4；34；96)，使得相比于穿过第一流体路径的流体，通过所述流体处理部件(4；34；96)可去除的至少一种组分至少在一定的较高的程度上保留在穿过所述第二流体路径的流体中。第一和第二流体路径在混合位置(5；35；97)将穿过所述第一和第二流体路径的流体混合。提供了用于调节混合比值的至少一个设备(3，6；30，31；93)，所述混合比值对应于在所述混合位置(5；35；97)的下游的流体中穿过所述第二流体路径的流体的比例。提供了用于获取测量信号的至少一个传感器(19；42；90)，所述测量信号的值表示所述流体的一个参数，所述参数部分依赖于至少在一定的较高的程度上保留在穿过所述第二流体路径的流体中的至少一种组分的浓度。一种适用于控制流体处理装置的操作的系统(7；26；95)的方法包括：针对用于调节所述混合比值的所述至少一个设备的至少一个参考设置中的每一个，确定并存储用于设置相对于参考设置的至少一个变化中的每一个的校准数据，该校准数据表示用于确定与所考虑的设置的变化有关的实际混合比值相对于与所述参考设置有关的所述混合比值的值的变化的相应值，确定所述校准数据包括产生所述设置的至少一个变化并且获取位于所述混合位置(5；35；97)下游的所述至少一个传感器(19；42；90)中的至少一个变化之前和之后的参数值。
【IPC分类】C02F5-00, C02F1-42, C02F1-00
【公开号】CN104603062
【申请号】CN201380045447
【发明人】T·内格尔, P·维德纳, B·康拉德特
【申请人】布丽塔有限责任公司
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2013年8月28日
【公告号】EP2890643A1, WO2014033147A1