专利名称：高浓度印染废水处理回用装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种废水处理回用装置，特别是一种用于高浓度 印染废水处理回用装置。
背景技术：
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印染行业是工业排水行业中的大户，所排放的废水数量大、有机 污染物含量高、色度深、碱性大、可生化性较差，属于难处理的工业 废水之一。近年来，随着新型化学纤维、仿真丝、印染整理技术的发 展，聚乙烯醇新型助剂等难生物降解有机物大量进入废水中，给废水 处理增加了难度，使原有生物处理系统的去除效率明显降低。因为印 染废水的上述特点，不仅使废水处理达标难度增大，处理成本增高， 而且影响到废水的回用。近年来人们针对染色废水回用技术做了许多 探索，现有与本实用新型相关的处理技术主要有
1 、印染及染色废水一混凝一气浮一砂滤一活性炭吸附一回用 该方案完全是物化技术的组合，能较有针对性地去除胶体物质，
使出水达到回用要求，但不足之处主要是无法适应染色污水水质变化 大的特点。
2 、废水处理站出水一生物过滤一臭氧脱色一双层滤料过滤一阳 离子交换树脂软化出水一回用
该方案是较为典型的各种处理方法的组合，不足之处在于运行成 本偏高，在水源充足地区难以推广。
3 、印染废水一加酸调节pH值一铁碳过滤一加碱中和一间歇式 活性污泥法(SBR )—回用铁碳过滤系统采用主要成分为铁和碳的废铁屑，经预处理和活化
后可作为填料，该工艺优点是以废治废，运行稳定，不足之处是PH值 必须来回调节测定。
4 、 二沉池出水一一级砂滤一C102氧化一二级过滤一活性炭一
回用
该工艺操作简便，特别在色度去除上效果较好，但是该工艺的成 本高，厂方必须拥有一定规模的印染废水处理工艺，而且该处理工艺 的进水己经能够达标排放，具有一定的局限性。
5、 印染废水一混凝沉淀一内循环厌氧一HCR/生物活性炭一接触 氧化一纤维球过滤
该方案是将HCR法与生物活性炭法相结合，提高了反应器中氧的 利用率，增强抗冲击负荷能力，有效解决了传统好氧生物处理的不足。 该工艺占地面积较小，且纤维球具有过滤速度快、效果好的优点，使 废水能稳定达到回用要求。此工艺是传统的印染水处理工艺，其存在 投资成本以及运行成本偏高的缺点，而且长时间运转后会造成盐分的 积累而影响到产品的质量。
6、 二级处理出水一电化学处理一化学絮凝一离子交换一回用 电化学法结合化学絮凝和离子交换法对印染废水进行深度处理
的优点是出水水质好，可以回用到印染所有工序中。其不足之处在于 对PH值较敏感。试验发现，pH值为3时电化学效果最好，因此在进 行电化学处理前要调节pH值。另外，该方案对离子交换树脂的依赖 性较大(为了降低铁离子浓度和电导率)，因此，离子再生频率升高 不可避免。
发明内容
本实用新型正是为了解决上述现有技术的不足而发明的一种高 浓度印染废水处理回用装置。本实用新型是通过以下技术手段实现的-
一种高浓度印染废水处理回用装置，包括移动平台、混凝池、磁 场沉降池、搅拌器、磁流体添加器、磁电极、出水堰箱，混凝池和磁 场沉降池安置在移动平台上，搅拌器安装在混凝池内，磁流体添加器 安装在混凝池上方，磁电极安装在磁场沉降池内，出水堰箱安装在磁 场沉降池上方。
所述的搅拌器动力部分安装在混凝池顶盖上，搅拌器叶片伸向混 凝池内的下部。
所述的印染废水进水管安装在混凝池下部。
所述的磁电极层，正负极相对安装在磁场沉降池内上顶部和下底部。
所述的出水堰箱是多孔的。
所述的磁场沉降池上方设置有溶解氧测定口和水位控制测定口， 底部设置有排泥口。
本实用新型高浓度印染废水处理回用装置的运行可与车间生产 操作同步进行，将污染废水经格栅去除杂质后从底部送入装置的混凝 池中，同时混凝池上方的磁流体添加器自动添加磁流体溶液，混凝池 中的慢速搅拌器使废水与磁流体混合均匀，然后进入磁场沉降池中， 待沉降完全，由多孔出水堰箱溢流，处理后的回用水用于染色漂洗等 各工序中，沉降物自排泥口排出，可进行压榨后送污泥填埋场。
本实用新型可使复杂的处理过程在10min之内完成，并且高浓度 印染废水经一次处理C0Do去除率在75%_80%, SS去除率在80%以上， 色度一般在95%以上，处理后的回用水用于染色漂洗等各工序中，节 能减排，减少取水量，节约水资源，保护自然资源。
图l为本实用新型结构示意图。图中标示说明移动平台1、混凝池2、磁场沉降池3、搅拌器4、 磁流体添加器5、磁电极层6、溶解氧测定口7、水位控制测定口8、 出水堰箱9、排泥口 10。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行进一步阐述
如图1所示， 一种高浓度印染废水处理回用装置，包括移动平台 1、混凝池2、磁场沉降池3、搅拌器4、磁流体添加器5、磁电极层 6、出水堰箱9,混凝池2和磁场沉降池3安置在移动平台上，搅拌 器4安装在混凝池2内，磁流体添加器5安装在混凝池2上方，磁电 极层6安装在磁场沉降池3内，出水堰箱9安装在磁场沉降池3上方。 所述的搅拌器4动力部分安装在混凝池2顶盖上，搅拌器叶片伸向混 凝池2内的下部。印染废水进水管安装在混凝池2下部。磁电极层6， 正负极相对安装在磁场沉降池3内上顶部和下底部。磁场沉降池3上 方设置有溶解氧测定口和水位控制测定口，底部设置有排泥口 10。
高浓度印染废水处理回用装置运行可与车间生产操作同步进行， 将污染废水经格栅去除杂质后从底部送入装置的混凝池2中，同时混 凝池上方的磁流体添加器5自动添加320mg/L磁流体溶液，混凝池中 的慢速搅拌器4以40-60/min的速度转动，使废水与磁流体混合均匀， 然后进入磁场沉降池3中，2-5分钟沉降完全，经溶解氧(DO)测定 口 7和水位控制(LIC)测定口 8实时测定符合要求后，由多孔出水 堰箱9溢流，处理后的回用水用于染色漂洗等各工序中，沉降物自排 泥口10排出，可进行压榨后送污泥填埋场。
以上是对本实用新型所提供的一种高浓度印染废水处理回用装
置进行了详细的介绍，本文中描述了本实用新型所描述产品的制作过程并应用具体数据对本实用新型所描述产品的性能进行了阐述，以上 实施例只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对 于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为 对本实用新型的限制。
权利要求1、一种高浓度印染废水处理回用装置，包括移动平台、混凝池、磁场沉降池、搅拌器、磁流体添加器、磁电极层、出水堰箱，其特征在于混凝池和磁场沉降池安置在移动平台上，搅拌器安装在混凝池内，磁流体添加器安装在混凝池上方，磁电极层安装在磁场沉降池内，出水堰箱安装在磁场沉降池上方。
2、 根据权利要求1所述的一种高浓度印染废水处理回用装置， 其特征在于所述的搅拌器动力部分安装在混凝池顶盖上，搅拌器叶 片伸向混凝池内的下部。
3、 根据权利要求1所述的一种高浓度印染废水处理回用装置， 其特征在于所述的印染废水进水管安装在混凝池下部。
4、 根据权利要求1所述的一种高浓度印染废水处理回用装置， 其特征在于所述的磁电极层，正负极相对安装在磁场沉降池内上顶 部和下底部。
5、 根据权利要求1所述的一种高浓度印染废水处理回用装置， 其特征在于所述的出水堰箱是多孔的。
6、 根据权利要求1所述的一种高浓度印染废水处理回用装置，其特征在于所述的磁场沉降池上方设置有溶解氧测定口和水位控制 测定口，底部设置有排泥口。
专利摘要本实用新型涉及一种废水处理回用装置，特别是一种用于高浓度印染废水处理回用装置。包括移动平台、混凝池、磁场沉降池、搅拌器、磁流体添加器、磁电极、出水堰箱，混凝池和磁场沉降池安置在移动平台上，搅拌器安装在混凝池内，磁流体添加器安装在混凝池上方，磁电极安装在磁场沉降池内，出水堰箱安装在磁场沉降池上方。本实用新型可使复杂的处理过程在10min之内完成，并且高浓度印染废水经一次处理COD<sub>Cr</sub>去除率在75％-80％，SS去除率在80％以上，色度一般在95％以上，处理后的回用水用于染色漂洗等各工序中，节能减排，减少取水量，节约水资源，保护自然资源。
文档编号B01D21/28GK201433121SQ20092013045
公开日2010年3月31日 申请日期2009年4月1日 优先权日2009年4月1日
发明者丁健生, 文秋红, 王小仙 申请人:宇星科技发展(深圳)有限公司