一种无磁产品真空过滤机的制作方法

文档序号:13091199阅读:522来源:国知局
一种无磁产品真空过滤机的制作方法与工艺

本实用新型涉及金属粉末生产技术领域,尤其涉及一种无磁产品真空过滤机。



背景技术:

金属粉末通常包括有磁粉末和无磁粉末,无磁粉末在生产过程中需要经过干燥,然后才能进行后面的均质过程,但是由于无磁粉末的颗粒较小,而且密度大,处理量也大,一次通常需要处理数吨的产品,因此通常的过滤干燥设备很难对无磁粉末进行过滤干燥处理,而现有的一些设备又由于结构复杂且维修费用高从而提高了生产成本,因此现在需要一种能满足无磁粉末过滤处理量,设备购置和维修成本低的无磁产品过滤设备。



技术实现要素:

本实用新型的目的是针对现有技术的不足,提供一种无磁产品真空过滤机。

一种无磁产品真空过滤机,包括成长方体的机架,所述机架内部水平固定有支撑架,所述支撑架上方为物料层,所述支撑架下方为真空层,所述支撑架上铺设有过滤网,所述过滤网上铺设有过滤布,所述真空层连通有有真空管,所述真空管连接有真空泵,所述机架底部设置有排水口。

在其中一个实施例中,所述支撑架设于所述机架内部1/4-1/3高度。

在其中一个实施例中,所述支撑架包括若干平行设置的横梁,所述横梁上垂直设置有若干支杆。

在其中一个实施例中,所述横梁和所述支杆的截面积均为圆形。

在其中一个实施例中,所述机架侧面设置有密封的隔层,所述隔层与所述真空层连通,所述真空管设置于所述隔层上,所述真空管设置于所述支撑架上方。

综上所述,一种无磁产品真空过滤机,包括成长方体的机架,所述机架内部水平固定有支撑架,所述支撑架上方为物料层,所述支撑架下方为真空层,所述支撑架上铺设有过滤网,所述过滤网上铺设有过滤布,所述支撑架下方设置有真空管,所述真空管连接有真空泵,所述机架底部设置有排水口,主体机架设置为长方体,方便称重无磁粉末,由于无磁粉末每次处理量较多,因此倾倒在物料层时,使物料层底部与空气完全隔绝,使用真空泵进行抽真空,则无磁粉末中的水分在重力和压力的双重作用下,经过过滤布和过滤网落入下方的真空层,从而实现无磁粉末的过滤效果,并且设备操作简单,结构简单,并且维护简单。

附图说明

图1是本实用新型一实施例的结构示意图;

图2是本实用新型一实施例的过滤结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图及实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。

如图1和图2所示,一种无磁产品真空过滤机,包括成长方体的机架1,所述机架1内部水平固定有支撑架2,所述支撑架2上方为物料层,所述支撑架2下方为真空层,所述支撑架2上铺设有过滤网3,所述过滤网3上铺设有过滤布3,所述真空层连通有真空管5,所述真空管5连接有真空泵6,所述机架1底部设置有排水口7。主体机架1设置为长方体,方便称重无磁粉末,由于无磁粉末每次处理量较多,因此倾倒在物料层时,使物料层底部与空气完全隔绝,使用真空泵6进行抽真空,则无磁粉末中的水分在重力和压力的双重作用下,经过过滤布3和过滤网3落入下方的真空层,最后水分从底部的排水口7流出,从而实现无磁粉末的过滤效果,并且设备操作简单,结构简单,并且维护简单。

在其中一个实施例中,所述支撑架2设于所述机架1内部1/4-1/3高度。支撑架2设置在机架1内部1/4-1/3高度,即物料层大于真空层,物料层一次通常处理5吨无磁粉末,因此对空间需求较大,同时,通过真空泵6对真空层抽真空,使物料层的无磁粉末中的水分在重力和压力的双重作用下向下放的真空层渗出,如果真空层的空间过大,则对真空泵6的功率需求大,使过滤效率降低并且成本增加,综合考虑将支撑架2的高度设置在机架1内部1/4-1/3高度。

在其中一个实施例中,所述支撑架2包括若干平行设置的横梁21,所述横梁21上垂直设置有若干支杆22。支撑架2使用横梁21和支架垂直组成,使横梁21和支架将无磁粉末的重力分别承重,利于支撑架2承重。

在其中一个实施例中,所述横梁21和所述支杆22的截面积均为圆形。横梁21和支杆22的主要作用在于承受物料层无磁粉末的重量,将横梁21和支杆22的截面积设置为圆形,使横梁21和支杆22的受力均匀,能够避免由于受力不均匀引起的变形,从而使无磁粉末掉落至真空层中。

在其中一个实施例中,所述机架1侧面设置有密封的隔层8,所述隔层8与所述真空层连通,所述真空管5设置于所述隔层8上,所述真空管5设置于所述支撑架2上方。金属粉末在过滤过程中,水分不断向真空层内积聚,直接在真空层内抽真空容易将部分水蒸气带入真空泵6中,造成气蚀,影响真空泵6的使用性能和使用寿命。在机架1侧面设置的密封的隔层8,且隔层8与真空层相通,不影响真空泵6对真空层抽真空,另外真空管5设置于支撑架2上方,如此真空管5在抽真空过程中不会带入水分,能够延长真空泵6的使用寿命。

以上所述仅为本实用新型的一个具体实施例,但本实用新型的结构特征并不限于此,任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内,所作的变化或修饰均涵盖在本实用新型的专利范围内。

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