一种陶瓷球原料混合装置的制作方法

本实用新型涉及一种混合装置，具体为一种陶瓷球原料混合装置。

背景技术：

陶瓷球是以优质高岭土，氧化铝粉材料等为主加工生产的一种陶瓷堆积料。陶瓷球由于其具有高强度、高硬度、高耐磨性，比重大、体积小、耐高温、耐腐蚀、无污染等优异特性而被广泛的运用于不同类型的陶瓷、瓷釉、玻璃、化工、铸造砂等等工厂的加工，是球磨机、罐形磨机、振动磨机等细粉碎设备的研磨体，其粉碎研磨效率和耐磨损大大优于普通球石或天然鹅卵石。

现有的用于陶瓷球原料的混合普遍存在混合效率低、混合效果差等问题，因此需要开发一种新的混合设备。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对以上问题，提供一种陶瓷球原料混合装置，能够提高搅拌效率和搅拌效果，实现陶瓷球原料的均匀混合，从而提高了产品的质量。

为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：它包括混料机主体3和支架12，所述混料机主体3为长方形结构，其顶部设置有进料斗4；所述混料机主体3的内部设置有第一混料辊5；所述第一混料辊5的下方设置有第二混料辊7；所述第一混料辊5与第二混料辊7上分别设置有多个第一搅拌棒13；所述第一搅拌棒13上均匀分布有多个第二搅拌棒14；所述第一混料辊5与第二混料辊7的之间通过第一驱动皮带6连接；所述第二混料辊7的末端与电机9的输出轴之间连接有第二驱动皮带8；所述第二混料辊7的下方设置有出料室11；所述出料室11内设置有螺旋推进器10。

进一步的，所述混料机主体3内左侧设置有向右下方倾斜的导料斜板2；所述第一混料辊5与第二混料辊7均设置在导料斜板2的右侧；所述混料机主体3的内部且在位于第二混料辊7的下方设置有导料斜块1；所述导料斜块1固定在混料机主体3的右端，其上表面向左下方倾斜。

进一步的，所述导料斜块1上表面与水平面的倾斜角度为15～45°。

进一步的，第一混料辊5与第二混料辊7上的第一搅拌棒13之间为错位设置。

本实用新型的有益效果：本实用新型提供了一种陶瓷球原料混合装置，能够提高搅拌效率和搅拌效果，实现陶瓷球原料的均匀混合，从而提高了产品的质量。

1、混料机主体的内部设置有第一混料辊，第一混料辊的下方设置有第二混料辊，第一混料辊与第二混料辊上分别设置有多个第一搅拌棒，第一搅拌棒上均匀分布有多个第二搅拌棒，该结构的设置可以对陶瓷球原料进行均匀搅拌。

2、螺旋推进器的设置能够加快陶瓷球原料的输出，同时对陶瓷球原料进行了再次搅拌，提高了搅拌效率和搅拌效果。

3、导料斜板与导料斜块能够对混合后的陶瓷球原料进行导向，使陶瓷球原料能够顺利滑轮到螺旋推进器的起始段，从而进一步提高了搅拌效果。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为图1中A处的局部放大图。

图中所述文字标注表示为：1、导料斜块；2、导料斜板；3、混料机主体；4、进料斗；5、第一混料辊；6、第一驱动皮带；7、第二混料辊；8、第二驱动皮带；9、电机；10、螺旋推进器；11、出料室；12、支架；13、第一搅拌棒；14、第二搅拌棒。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图2所示，本实用新型的具体结构为：它包括混料机主体3和支架12，所述混料机主体3为长方形结构，其顶部设置有进料斗4；所述混料机主体3的内部设置有第一混料辊5；所述第一混料辊5的下方设置有第二混料辊7；所述第一混料辊5与第二混料辊7上分别设置有多个第一搅拌棒13；所述第一搅拌棒13上均匀分布有多个第二搅拌棒14；所述第一混料辊5与第二混料辊7的之间通过第一驱动皮带6连接；所述第二混料辊7的末端与电机9的输出轴之间连接有第二驱动皮带8；所述第二混料辊7的下方设置有出料室11；所述出料室11内设置有螺旋推进器10。

优选的，所述混料机主体3内左侧设置有向右下方倾斜的导料斜板2；所述第一混料辊5与第二混料辊7均设置在导料斜板2的右侧；所述混料机主体3的内部且在位于第二混料辊7的下方设置有导料斜块1；所述导料斜块1固定在混料机主体3的右端，其上表面向左下方倾斜。

优选的，所述导料斜块1上表面与水平面的倾斜角度为15～45°。

优选的，第一混料辊5与第二混料辊7上的第一搅拌棒13之间为错位设置。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。