微镜元件封装构造的制作方法

文档序号:5264661阅读:188来源:国知局
专利名称:微镜元件封装构造的制作方法
技术领域
本发明是有关于一种半导体封装构造及其制造方法,更特别是有关于一种具有密闭空腔的微机械(micromachine)封装构造。
背景技术
微机械已是广为人知的,诸如微机械感应元件(micromachine sensingelement)以及微镜子(micromirror)。微机械包括缩小的可移动或可摆动结构,诸如悬臂梁、电容元件、轭(yoke)、及铰链。这些微机械结构通常是与半导体元件,诸如互补式金属氧化物半导体(ComplimentaryMetal-Oxide Semiconductor;CMOS),共同作用,而使该可摆动结构产生位移。由于这些微机械的作用是取决于缩小的可摆动结构的可移动性,所以很重要的是,包含该微机械的封装构造绝对不能接触该缩小的可摆动结构。
现有技术业已揭示许多微机械的封装构造,诸如美国专利第6,415,505号中所揭示的,其作为本案的参考。
参考图1,其显示现有技术的一微镜元件封装构造10。该微镜元件封装构造10包括一微镜子晶片14具有可摆动结构15、以及一半导体晶片,诸如互补式金属氧化物半导体CMOS(Complimentary Metal-Oxide Semiconductor)晶片12,具有致动器或电极13与该可摆动结构15相对应。该微镜子晶片14是配置于该CMOS晶片12上,且与该CMOS晶片12间由间隔子16均匀地间隔开,以形成一密闭空腔30,如此使得该可摆动结构15可与该电极13共同作用,且于该空腔30中自由的移动。该CMOS晶片12是由一胶层32固定于一陶瓷基板20,并由复数条连接线36电性连接至该陶瓷基板20。该陶瓷基板20具有一环状立壁22环绕该CMOS晶片12,且一透明外盖26是由密封件24,固定于该环状立壁22上。又,该微镜子晶片14可另由接地线34,连接于该基板20上。
于此一结构中,该CMOS晶片12一般是由硅所制造,该微镜子晶片14一般是为透明的玻璃所制造,诸如Corning公司以Eagle 2000为商标名所贩售。玻璃的热膨胀系数(coefficient of thermalexpansion;CTE)是可与硅大体上相同,约为4ppm/℃,用以降低其间的所存在的热不协调(thermal mismatch)。然而,该基板20的热膨胀系数是约为12-14ppm/℃,故于该基板20与该CMOS晶片12间的热膨胀系数便存在相当大的差异。当该微镜元件封装构造10于制造过程中或与操作过程中,承受温度变化时,该CMOS晶片12便会承受循环的应力,导致翘曲(Warpage)或疲劳破坏。尤其,该微镜元件封装构造10是为一光学元件,举例而言,安装于一投影机中,因此即使微小的变形量亦有可能造成透影画面的品质降低。
因此,便有需要提供一种半导体微机械封装构造,能够克服前述的缺点。

发明内容
本发明的主要目的是提供一种具有微机械的半导体封装构造,其具有较低的热不变形量。
为达上述目的,本发明提供一种微镜元件封装构造,其特征在于,其包含一基板,具有一环状立壁;一底部基板,配置于该基板上,位于该环状立壁中;一外盖基板;一半导体晶片;一第一黏著剂,具有第一间隔子,配置于该外盖基板与该半导体晶片之间,用以将该外盖基板与该半导体晶片间隔开,并将该外盖基板固定于该半导体晶片上;一第二黏著剂,具有第二间隔子,配置于该半导体晶片与该底部基板之间,用以将该半导体晶片与该底部基板间隔开,并将该半导体晶片固定于该底部基板上;复数条连接线,用以将该半导体晶片电性连接至该基板;以及一外盖配置于该环状立壁上。
其中该外盖基板是为一微镜子晶片,具有可摆动微镜片结构。
其中该半导体晶片是为一互补式金属氧化物半导体晶片。
其中该半导体晶片具有可摆动微镜片结构,以及电极,该电极是与该可摆动微镜片结构共同作用。
其中该外盖基板是为一透明基板。
其中该半导体晶片具有电极,与该可摆动微镜片结构共同作用。
其中该第二间隔子的尺寸是为200μm。
其中该底部基板与该外盖基板是以相同的材料制造。
其中该底部基板与该外盖基板是由玻璃所制造。
其中该底部基板与该外盖基板是由热膨胀系数约为4ppm/℃的材料所制造。
其中该外盖是由一透明材质所制造。
其中该外盖基板与该半导体晶片间相结合,而形成一密闭空腔。
根据本发明的半导体微镜元件封装构造,具有一底部基板,且一CMOS晶片是被夹于该微镜子晶片与该底部基板之间,因此该CMOS晶片的翘曲会受到该微镜子晶片与该底部基板两者的限制,而得以降低。


为了让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显,下文特举本发明较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下,其中图1是为现有技术中的一微镜子封装构造的剖面示意图。
图2是为根据本发明的一实施例的一微镜子封装构造的剖面示意图。
图3是为根据本发明的另一实施例的一微镜子封装构造的剖面示意图。
具体实施例方式
如图2所示,其显示本发明(原稿中用的是“先前技术”)的一微镜元件封装构造100。该微镜元件封装构造100包括一微镜子晶片114,例如一具有可摆动微镜片结构115的玻璃基板、以及一半导体晶片,诸如一互补式金属氧化物半导体(Complimentary Metal-OxideSemiconductor)CMOS晶片112,具有致动器或电极113与该可移动微镜片结构115相对应。一黏著剂118是与第一间隔子116相混合,配置于该微镜子晶片114与该CMOS晶片112之间,由此将该微镜子晶片114固定于该CMOS晶片112上,并与其均匀地间隔开,以形成一空腔130,较佳地,该空腔是一密闭空腔。于此配置中,得该可移动微镜片结构115可与该电极113共同作用,且于该空腔130中自由的摆动。
该CMOS晶片112是由混合有第二间隔子152的另一黏著剂154,固定于一底部基板150。该底部基板150是另由一黏著剂156固定于一基板上,诸如一陶瓷基板120上。该CMOS晶片112是另由复数条连接线136,电性连接至该陶瓷基板120。该陶瓷基板120具有一环状立壁122环绕该CMOS晶片112、该微镜子晶片114、及该底部基板150,且一透明外盖126是由密封件124,固定于该环状立壁122上。精于本技艺者将可了解,该透明外盖126亦可为一透镜,用以将光线聚焦于该微镜子晶片114上。又,该微镜子晶片114可另由接地线134,连接于该基板120上。精于本技艺者将可了解,该陶瓷基板120可另提供复数个锡球(图中未示),电性连接至一外部印刷电路。
该CMOS晶片112是由硅所制造。该微镜子晶片114与该底部基板150是以相同的材料所制造。于此配置下,该CMOS晶片112是被该微镜子晶片114与该底部基板150所夹住,因此该CMOS晶片112的翘曲会受到该微镜子晶片114与该底部基板150两者的限制,而得以降低。
再者,于根据本发明的一特定实施例中,该透明基板114与该底部基板150是以透明材料所制造,诸如玻璃,其可购自Corning公司商标名为Eagle 2000,热膨胀系数(CTE)是约为4ppm/℃,且与硅相匹配。该第一及第二间隔子116、152是可为硼硅酸盐是玻璃(Borosilicate Glasses)所制造。该空腔130的高度是取决于该第一间隔子116的尺寸,一般而言,是为200μm。该第二间隔子150可为各种不同的高度,以决定连接线厚度(bond line thickness),并由此改良该微镜元件封装构造100的散热效率。
再者,该黏著剂118、154、以及156是为低强度的环氧树脂(epoxy),由此缓冲该微镜元件封装构造100中的热不协调(thermalmismatch),并由此降低翘曲。再者,该黏著剂118、154、以及156亦是为低溢气(outgas)的环氧树脂(epoxy),由此避免次微米微粒的产生。
现请参考图3,其显示根据本发明的另一实施例的一微镜元件封装构造200。该微镜元件封装构造200类似于该微镜元件封装构造100,其中相似的元件标示相似的图号。该微镜子封装构造200具有一半导体晶片212,其具有可摆动微晶片结构215与电极213与该可摆动微晶片结构215共同作用,以及一外盖基板214,例如一透明基板或一玻璃基板,由与第一间隔子116相混合的一黏著剂118,配置于该半导体晶片212上,并由此形成一空腔230,较佳地,该空腔是一密闭空腔。于此配置中,该可摆动微晶片结构215可与该电极213共同作用,且于该空腔230中自由的摆动。
虽然前述的描述及图示已揭示本发明的较佳实施例,必须了解到各种增添、许多修改和取代可能使用于本发明较佳实施例,而不会脱离如所附申请专利范围所界定的本发明原理的精神及范围。熟悉该技艺者将可体会本发明可能使用于很多形式、结构、布置、比例、材料、元件和组件的修改。因此,本文于此所揭示的实施例于所有观点,应被视为用以说明本发明,而非用以限制本发明。本发明的范围应由后附申请专利范围所界定,并涵盖其合法均等物,并不限于先前的描述。
权利要求
1.一种微镜元件封装构造,其特征在于,其包含一基板,具有一环状立壁;一底部基板,配置于该基板上,位于该环状立壁中;一外盖基板;一半导体晶片;一第一黏著剂,具有第一间隔子,配置于该外盖基板与该半导体晶片之间,用以将该外盖基板与该半导体晶片间隔开,并将该外盖基板固定于该半导体晶片上;一第二黏著剂,具有第二间隔子,配置于该半导体晶片与该底部基板之间,用以将该半导体晶片与该底部基板间隔开,并将该半导体晶片固定于该底部基板上;复数条连接线,用以将该半导体晶片电性连接至该基板;以及一外盖配置于该环状立壁上。
2.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该外盖基板是为一微镜子晶片,具有可摆动微镜片结构。
3.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该半导体晶片是为一互补式金属氧化物半导体晶片。
4.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该半导体晶片具有可摆动微镜片结构,以及电极,该电极是与该可摆动微镜片结构共同作用。
5.依权利要求4所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该外盖基板是为一透明基板。
6.依权利要求2所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该半导体晶片具有电极,与该可摆动微镜片结构共同作用。
7.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该第二间隔子的尺寸是为200μm。
8.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该底部基板与该外盖基板是以相同的材料制造。
9.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该底部基板与该外盖基板是由玻璃所制造。
10.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该底部基板与该外盖基板是由热膨胀系数约为4ppm/℃的材料所制造。
11.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该外盖是由一透明材质所制造。
12.依权利要求1所述的微镜元件封装构造,其特征在于,其中该外盖基板与该半导体晶片间相结合,而形成一密闭空腔。
全文摘要
一种微镜元件封装构造包含一基板、一底部基板、一外盖基板、一半导体晶片、一第一黏著剂、一第二黏著剂、复数条连接线、以及一外盖。该基板具有一环状立壁。该底部基板是配置于该基板上,位于该环状立壁中。该第一黏著剂是具有第一间隔子,配置于该外盖基板与该半导体晶片之间,用以将该外盖基板与该半导体晶片间隔开,并将该外盖基板固定于该半导体晶片上。该第二黏著剂是具有第二间隔子,配置于该半导体晶片与该底部基板之间,用以将该半导体晶片与该底部基板间隔开,并将该半导体晶片固定于该底部基板上。该连接线是用以将该半导体基板电性连接至该基板。该外盖是配置于该环状立壁上。
文档编号B81B7/02GK1718532SQ200410063719
公开日2006年1月11日 申请日期2004年7月7日 优先权日2004年7月7日
发明者余国宠 申请人:日月光半导体制造股份有限公司
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