电解槽氮气稳压装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及电解槽设备领域，尤其是一种电解槽氮气稳压装置。所要解决的技术问题是提供一种能实现为电解槽输入稳定压力的氮气的电解槽氮气稳压装置。所采用的技术方案是：电解槽氮气稳压装置，包括氮气源，所述氮气源通过氮气管与电解槽相通，还包括液封管和与氮气管相通的稳压管，所述稳压管的稳压管口设置于液封管内水面的下方。在实际使用时，氮气通过氮气源且流经氮气管而输送到电解槽内。一旦出现了氮气压力增大且超过设定值的情况，则稳压管内的氮气则会将液封管内的液体冲破，而多余的氮气则通过液封管被排走，从而保证氮气管内氮气的压力稳定，最后则保护了电解槽内的离子膜。本发明尤其适用于需要氮气输入压力稳定可靠的电解槽。
【专利说明】电解槽氮气稳压装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及电解槽设备领域，尤其是一种电解槽氮气稳压装置。
【背景技术】
[0002]电解槽是离子膜制碱工艺中的核心，其中的离子膜具有昂贵、易损坏的特点。离子膜对工艺稳定的要求非常高，不同的操作对氮气压力和流量有不同的要求。在保压操作中离子膜两侧压差要时刻保持在3KPa，氮气量必须足够小，且压力恒定，避免氮气总管的压力波动带来流量和压力的波动。如果流量过大，会造成氮气浪费。如果压力波动过大，会直接造成离子膜损坏。所以要保证氮气量足够小，且压力稳定。在膜试漏过程中压力要保证在5KPa。在停车排空电解槽的的过程中，除了压差要时刻保持在3KPa以外，还需要满足氮气流量大的特点。离子膜两侧压力压力过高或过低会引起离子膜的损坏，离子膜的损坏主要是指离子膜上出现大量泄漏点。现有操作是人工对离子膜加压到5KPa左右在日常生产中，因为膜试漏时导致压力过高，离子膜损坏经常出现。离子膜损坏后换膜的操作异常繁琐。
【发明内容】
[0003]本发明所要解决的技术问题是提供一种能实现为电解槽输入稳定压力的氮气的电解槽氮气稳压装置。
[0004]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:电解槽氮气稳压装置，包括氮气源，所述氮气源通过氮气管与电解槽相通，还包括液封管和与氮气管相通的稳压管，所述稳压管的稳压管口设置于液封管内水面的下方。
[0005]进一步的是，包括进液装置，所述进液装置与液封管相通。
[0006]进一步的是，所述液封管上方设置有排气管。
[0007]进一步的是，所述液封管底部设置有排液管。
[0008]进一步的是，包括限流装置，所述限流装置设置于氮气管上。
[0009]进一步的是，所述限流装置为孔板限流装置。
[0010]进一步的是，所述液封管内的液体为水。
[0011]本发明的有益效果是:在实际使用时，氮气通过氮气源且流经氮气管而输送到电解槽内。一旦出现了氮气压力增大且超过设定值的情况，则稳压管内的氮气则会将液封管内的液体冲破，而多余的氮气则通过液封管被排走，从而保证氮气管内氮气的压力稳定，最后则保护了电解槽内的离子膜。本发明尤其适用于需要氮气输入压力稳定可靠的电解槽。
【专利附图】
【附图说明】
[0012]图1是本发明的示意图。
[0013]图中标记为:氮气源1、氮气管11、稳压管12、稳压管口 121、进液装置2、电解槽3、限流装置4、液封管5、排气管51、排液管52、液封柱高D。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图对本发明进一步说明。
[0015]如图1所示的电解槽氮气稳压装置，包括氮气源1，所述氮气源1通过氮气管11与电解槽3相通，还包括液封管5和与氮气管11相通的稳压管12，所述稳压管12的稳压管口121设置于液封管5内水面的下方。
[0016]在实际使用时，氮气需要压力相对稳定，才能保证电解槽3内的离子膜不被破坏。当氮气压力稳定时，氮气由氮气源1经由氮气管11输送到电解槽3。一旦出现了氮气压力突然增大至设定值的情况，则与氮气管11相通的稳压管12内的氮气会冲破液封管5内的液封，多余的氮气随即被排走。一般的，所述的氮气压力设定值可以通过调节液封柱高D来实现，即当液封柱高D增大时，则设定值也随之增大。
[0017]为了实现在对液封柱高D的调节时更方便快捷，可以选择这样的方案:包括进液装置2，所述进液装置2与液封管5相通。如图1所示的，当需要加大氮气压力设定值时，只需通过进液装置2输入液体即可。当然的，也可以在液封管5底部设置排液管52，这样在需要减小氮气压力设定值时，只需通过排液管52排出多余液体即可。结合实践经验，一般液封管5内的液体为水就可以很好的保证稳压的进行。
[0018]为了让多余氮气更好的被排出，可以在液封管5上方设置排气管51，如图1所示的，这这样不仅可以及时的排出氮气，也可以保证液封柱高D的稳定。
[0019]为了实现对氮气的流速进行控制，可以选择这样的方案:增设限流装置4，所述限流装置4设置于氮气管11上。如图1所示，限流装置4可以直接的控制氮气源1输入到电解槽3的氮气流量，一般的，限流装置4为孔板限流装置为最佳。
【权利要求】
1.电解槽氮气稳压装置，包括氮气源(I)，所述氮气源(I)通过氮气管(11)与电解槽(3)相通，其特征在于:包括液封管(5)和与氮气管(11)相通的稳压管(12)，所述稳压管(12)的稳压管口(121)设置于液封管(5)内水面的下方。
2.如权利要求1所述的电解槽氮气稳压装置，其特征在于:包括进液装置(2)，所述进液装置(2)与液封管(5)相通。
3.如权利要求1或2所述的电解槽氮气稳压装置，其特征在于:所述液封管(5)上方设置有排气管(51)。
4.如权利要求1或2所述的电解槽氮气稳压装置，其特征在于:所述液封管(5)底部设置有排液管(52)。
5.如权利要求1或2所述的电解槽氮气稳压装置，其特征在于:包括限流装置(4)，所述限流装置(4)设置于氮气管(11)上。
6.如权利要求5所述的电解槽氮气稳压装置，其特征在于:所述限流装置(4)为孔板限流装置。
7.如权利要求1、2或6所述的电解槽氮气稳压装置，其特征在于:所述液封管(5)内的液体为水。
【文档编号】C25B15/02GK104264182SQ201410547199
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2014年10月15日 优先权日:2014年10月15日
【发明者】王永明, 徐遵尚, 唐润兵 申请人:攀枝花钢企欣宇化工有限公司