一种凹槽式密封装置的制造方法

文档序号:8900755阅读:181来源:国知局
一种凹槽式密封装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及密封装置,具体来说,涉及一种凹槽式密封装置。
【背景技术】
[0002]在直行程气动执行机构中,现有的技术是采用平面压紧式的密封方法进行密封,但是现有技术在长时间、大量的反复拉伸作用下,会降低密封效果的密封效果,已达不到需求。
[0003]所以,研制出一种可以在长时间、大量的反复拉伸作用下保持良好的密封效果的装置,便成为业内人士亟需解决的问题。
【实用新型内容】
[0004]针对相关技术中的上述技术问题,本实用新型提出一种凹槽式密封装置,能够提高密封效果和使用寿命。
[0005]为实现上述技术目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
[0006]一种凹槽式密封装置,包括相配合的上膜盖和下膜盖,所述上膜盖和下膜盖设有对应的变形部,所述变形部之间设有与所述上膜盖和下膜盖相配合的膜片。
[0007]进一步的,所述上膜盖和下膜盖通过螺栓密封连接。
[0008]进一步的,所述上膜盖和下膜盖与所述膜片之间密封连接。
[0009]本实用新型的有益效果:通过膜片凹槽变形式密封,取代传统的平面压紧式密封,可以使膜片在经过200万次的反复拉伸之后仍能够保持良好的气密封状态,去除传统膜片密封变形区域不确定、不良率高的缺陷,结构简单、安装快捷,提高了密封性和使用寿命。
【附图说明】
[0010]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0011]图1是根据本实用新型实施例所述的凹槽式密封装置结构示意图。
[0012]图中:
[0013]1、上膜盖;2、下膜盖;3、变形部;4、膜片;5、螺栓。
【具体实施方式】
[0014]下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
[0015]如图1所示,根据本实用新型实施例所述的一种凹槽式密封装置,包括相配合的上膜盖I和下膜盖2,所述上膜盖I和下膜盖2设有对应的变形部3,所述变形部3之间设有与所述上膜盖I和下膜盖2相配合的膜片4。
[0016]在一个实施例中,所述上膜盖I和下膜盖2通过螺栓5密封连接。
[0017]在一个实施例中,所述上膜盖I和下膜盖2与所述膜片4之间密封连接。
[0018]为了方便理解本实用新型的上述技术方案,以下通过具体使用方式上对本实用新型的上述技术方案进行详细说明。
[0019]在具体使用时,根据本实用新型所述的凹槽式密封装置,将膜片4套入上模盖I和下膜盖2的间隙中,利用螺栓5将二者紧固,进而夹紧膜片4,当力达到一定程度时,变形部3便在力的作用下开始变形,实现面密封。
[0020]综上所述,借助于本实用新型的上述技术方案,通过膜片凹槽变形式密封,取代传统的平面压紧式密封,可以使膜片在经过200万次的反复拉伸之后仍能够保持良好的气密封状态,去除传统膜片密封变形区域不确定、不良率高的缺陷,结构简单、安装快捷,提高了密封性和使用寿命。
[0021]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种凹槽式密封装置,其特征在于,包括相配合的上膜盖(I)和下膜盖(2),所述上膜盖(I)和下膜盖(2)设有对应的变形部(3),所述变形部(3)之间设有与所述上膜盖(I)和下膜盖(2)相配合的膜片(4)。
2.根据权利要求1所述的凹槽式密封装置,其特征在于,所述上膜盖(I)和下膜盖(2)通过螺栓(5)密封连接。
3.根据权利要求1所述的凹槽式密封装置,其特征在于,所述上膜盖(I)和下膜盖(2)与所述膜片(4)之间密封连接。
【专利摘要】本实用新型公开了一种凹槽式密封装置,包括相配合的上膜盖和下膜盖,所述上膜盖和下膜盖设有对应的变形部,所述变形部之间设有与所述上膜盖和下膜盖相配合的膜片。本实用新型的有益效果:通过膜片凹槽变形式密封,取代传统的平面压紧式密封,可以使膜片在经过200万次的反复拉伸之后仍能够保持良好的气密封状态,去除传统膜片密封变形区域不确定、不良率高的缺陷,结构简单、安装快捷,提高了密封性和使用寿命。
【IPC分类】F16J15-18
【公开号】CN204610837
【申请号】CN201520223202
【发明人】张小卫
【申请人】江西欧科思瑞工业控制阀有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年4月14日
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