专利名称：移动体驱动系统及移动体驱动方法、图案形成装置及方法、组件制造方法以及决定方法
移动体驱动系统及移动体驱动方法、 困案形成装置及方法、组件制造方法以及决定方法技术领域0G01本发明，涉及一种移动体驱动系统及移动体驱动方法、图 案形成装置及方法、组件制造方法以及决定方法，更详细地说，涉及 沿规定平面驱动移动体的移动体驱动系统及移动体驱动方法、具备该 移动体驱动系统的图案形成装置及利用该移动体驱动方法的困案形 成方法、具备该移动体驱动系统的咏光装置及利用该移动体驱动方法 的瀑光方法、利用该图案形成方法的組件制造方法、以及决定用于测 量移动体在规定方向的位置信息的编码器系统测量值的修正信息的 决定方法。
背景技术：
0CM)21以往，在制造半导体組件、液晶表示組件等的微型组件(电 子组件等)的光刻过程中，较常使用步进重复方式的缩小投影曝光装置 (所谓的步进器)、步进扫描方式的缩小投影膝光装置(所谓的扫描步进 器(也称为扫描仪))等。00031此种膝光装置，为了将标线片(或掩膜)的困案转印于晶片上 的多个照射区域，保持晶片的晶片栽台通过例如线性马达等在XY 二 维方向上被驱动。特别是扫描步进器，不仅可驱动晶片栽台，也可将 标线片栽台通过线性马达等在规定动程驱动于扫描方向。标线片栽台 或晶片栽台的测量， 一般使用长期测量值的穗定性良好、具高分解能 力的激光干涉仪。
另外，主控制装置20，在结束上述附设于五个第二对准照 射区域的对准标记的同时检测动作后，再次开始在接触状态(或接近状 态)下的两栽台WST，MST向+丫方向的移动，同时如图23所示，使 用Z传感器72a ~ 72d与多点AF系统(90a， 90b)开始前述的对焦匹配。0208I接着，当两栽台WST，MST到达图24所示测量板30配置 于投影光学系统PL正下方的位置时，主控制装置20进行前述 Pri-BCHK的后半处理及聚焦校正的后半处理。此处的Pri-BCHK的 后半处理是指使用包含前述空间像测量装置4S(将空间像测量狭缝图 案SL形成于测量板30)来测量投影光学系统PL所投影的标线片R上 的一对测量标记投影像(空间像)，并将其测量结果(与晶片台WTB的XY位置对应的空间像强度)储存于内部存储器的处理。此处理，例如 可使用与前述美国专利申请公开第2002 / 0041377号说明书等公开的 方法同样的方法，经由使用一对空间像测量狭缝图案SL的狭缝扫描 方式的空间像测量动作，测量一对测量标记的空间像。另外，聚焦校 正的后半处理是指主控制装置20， 一边如图24所示根据Z传感器72a， 72b， 72c， 72d所测量的面位置信息控制测量板30(晶片台WTB)在投影 光学系统PL的光轴方向的位置(Z位置)， 一边使用空间像测量装置 45，测量标线片R或形成于标线片栽台RST上未图示标记板的测量 标记的空间像，并根据其结果测量投影光学系统PL的最佳聚焦位置 的处理。此测量标记的投影像的测量动作，公开于例如国际公开第 2005 / 124834号小册子等。主控制装置20 —边使测量栽台30移动于 Z轴方向、 一边与来自空间像测量装置45的输出信号的撷取动作同 步，撷取Z传感器74u、 742，4、 Z传感器76u、 762，3的测量值。接 着，将与投影光学系统PL的最佳聚焦位置对应的Z传感器74li4、 742， 4、 Z传感器76u、 762,3的值储存于未图示的内存。此外，之所以在 聚焦校正的后半处理中，使用Z传感器72a， 72b， 72c，72d所测量的面 位置信息，来控制测量板30(晶片栽台WST)在投影光学系统PL的光 轴方向的位置(Z位置)是因为该聚焦校正的后半处理是在前述聚焦的 途中进行的。[0209此时，由于液浸区域14形成于投影光学系统PL与测量板 30(晶片台WTB)之间，因此上述空间像的测量经由投影光学系统PL 及水Lq进行。另外，测量板30等装栽于晶片栽台WST(晶片台WTB), 受光元件等装栽于测量栽台MST，因此上述空间像的测量如图24所 示，在晶片栽台WST与测量栽台MST保持接触状态(或接近状态)下 进行。通过上述测量，求出与投影光学系统PL的最佳聚焦位置对应 的、通过晶片台WTB中心的Y轴方向直线一致于前述直线LV的状 态下Z传感器74！，4、 742，4、 76li3、 762，3的测量值(也即晶片台WTB 的面位置信息)。021§，接着，主控制装置20根椐上述Pri-BCHK的前半处理的结果与Pri-BCHK的后半处理的结果算出一次对准系统AL1的基线。同 时，主控制装置20根据前述聚焦校正前半处理所求得的Z传感器72a， 72b, 72c，72d的测量值(晶片台WTB的面位置倌息)、与多点AF系统 (90a， 90b)对测量板30表面的检测点中检测结果(面位置信息)的关系、 以及在前述聚焦校正后半处理所求得的与投影光学系统PL的最佳聚 焦位置对应的Z传感器74u、 742，4、 76^、 762,3的测量值(也即，晶 片台WTB的面位置信息)，求出多点AF系统(90a， 90b)对投影光学系 统PL的最佳聚焦位置的代表检测点(此时多个检测点中位于中央或其 附近的检测点)的偏置，并通过例如光学方法将多点AF系统的检测原点调整到该偏置成为零。02UI在此情形下，从提升生产量的观点来看，也可仅进行上述 Pri-BCHK的后半处理及聚焦校正的后半处理的其中一方，也可在不 进行两处理的状态下移行至下一处理。当然，若不进行Pri-BCHK的 后半处理即也无进行前述Pri-BCHK的前半处理的必要，此时，主控 制装置20只要使晶片栽台WST移动至可从前述装栽位置LP检测出 附设于第一对准照射区域AS的对准标记的位置即可。此外，当不进 行Pri-BCHK处理时，使用已用相同的动作在曝光对象晶片W前的 晶片的瀑光前一刻进行了测量的基线。另外，当不进行聚焦校正的后 半处理时，与基线同样地，使用已在先前的晶片的曝光前一刻进行了 测量的投影光学系统PL的最佳聚焦位置。0212此外，在此图24的状态下，继续进行前述聚焦校正。0213I通过使在上述接触状态(或接近状态)下的两栽台WST， MST向+Y方向移动，而使晶片栽台WST在规定时间后到达图25 所示的位置时，主控制装置20使晶片栽台WST停止在该位置，且使 测量栽台MST继续向+Y方向移动。接着，主控制装置20使用五个 对准系统AL1， AL2, AL24大致同时且独立地检测出附设于五个第 三对准照射区域的对准标记(参照围25中的星标记)，并将上述五个对 准系统AL1， AL2i~AL24的检测结果与进行该检测时的上述四个编 码器中至少三个编码器(经前述各修正信息修正后的测量值)的测量值以彼此相关联的方式储存于内部存储器。此时，也持续进行对焦匹配。021司另一方面，从上述晶片栽台WST的停止起经过规定时间 后，测量栽台MST与晶片载台WST从接触(或接近状态)移行至分离 状态。在移行至此分离状态后，主控制装置20使测量栽台MST在到 达至曝光开始为止在该处待机的瀑光开始待机位置后停在该位置。[02151其次，主控制装置20使晶片栽台WST向+Y方向移动向 附设于前述三个第一对准照射区域的对准标记的检测位置。此时仍持 续进行对焦匹配。另一方面，晶片栽台WST在上述膝光开始待机位 置待机中。H)216接着，当晶片栽台WST到达困26所示的位置时，主控制 装置20立即使晶片载台WST停止，且使用一次对准系统AL1、 二次 对准系统AL22， AL23大致同时且独立地检测出附设于晶片W上三个 笫一对准照射区域的对准标记(参照图26中的星标记)，并将上述三个 对准系统AL1， AL22， AL23的检测结果与进行该检测时的上述四个编 码器中至少个编码器的测量值以彼此相关联的方式储存于内部存储 器。在此时点也持续进行对焦匹配，测量栽台MST持续在上述咏光 开始待机位置待机。接着，主控制装置20使用于上述方式获得的合 计十六个对准标记的检测结果与所对应的编码器的测量值(经前述各 修正信息修正后的测量值)，经由例如美国专利第4,780,617号说明书 等所公开的EGA方式，算出上述四个编码器的测量轴所规定的坐标 系统(以晶片台WTB的中心为原点的XY坐标系统)上晶片W上的所 有照射区域的排列信息(坐标值)。[0217其次，主控制装置20 —边再次使晶片栽台WST向+ Y方 向移动， 一边持续进行对焦匹配。接着，当来自多点AF系统(90a， 90b) 的检测光束自晶片W表面偏离时，即如图27所示结束对焦匹配。其 后，主控制装置20根据事前进行的晶片对准(EGA)的结果及五个对准 系统AL1， AL2, ~ AL22的最新的基线测量结果等，经由液浸膝光进行 步进扫描方式的曝光，以将标线片困案按顺序转印至晶片W上的多 个照射区域。其后，对批量内的剩余晶片也反复进行同样的动作以使其啄光。0218!另外，到此为止，为了简化说明，将主控制装置20设定为 进行栽台系统等的瀑光装置各部的控制，但并不限于此，当然也可将 上述主控制装置20所进行的控制的至少一部分，由多个控制装置分 担进行。例如，可将根据编码器系统、Z传感器及干涉仪系统的测量 值进行晶片栽台WST等的控制的栽台控制装置，设置在主控制装置 20的控制下。此外，上述主控制装置20所进行的控制不一定必须用 硬件来实现，也可使用用于规定主控制装置20、或前述分担进行控制 的若干个控制装置各自的动作的计算机程序，以软件方式加以实现。[0219如以上所详细说明，根据本实施形态的瀑光装置100，在晶 片对准时或瀑光时等，使晶片栽台WST移动于规定方向、例如Y轴 方向时，根据编码器系统的测量信息、晶片栽台WST在与Y轴方向 不同的方向的位置信息(包含倾斜信息，例如ex方向的旋转信息等)， 将晶片栽台WST驱动于Y轴方向。也即，驱动晶片栽台WST以补 偿因晶片栽台WST向与Y轴方向不同的方向的移位(包含倾斜)与标 尺而产生的编码器系统(编码器70A， 70C)的测量误差。在本实施形态 中，通过主控制装置20，根据用于测量晶片栽台WST在Y轴方向的 位置信息的编码器70A，70C的测量值、该测量时晶片栽台WST在与 Y轴方向不同的方向(非测量方向)的位置信息(例如干涉仪系统118的 Y干涉仪16、 Z干涉仪43A， 43B所测量的与晶片栽台WST的6x方 向、ez方向、以及Z轴方向的位置信息对应的栽台位置起因误差修正 信息(由前述式(10)所算出的修正信息))将晶片栽台WST驱动于Y轴 方向。如此，可根据将标尺39Y^ 39Y2与Y读头64在非测量方向的 相对移位的编码器70A， 70C测量误差，控制栽台驱动系统124以将晶 片栽台WST驱动于Y轴方向。022W另外，当使晶片载台WST移动于X轴方向时，根据编码 器系统的测量信息、晶片栽台WST在与X轴方向不同的方向的位置 信息(包含倾斜倌息，例如ey方向的旋转信息等)，将晶片栽台WST 驱动于X轴方向。也即，驱动晶片栽台WST以补偿因晶片栽台WST向与X轴方向不同的方向的移位(包含倾斜)而产生的编码器系统(编 码器70B， 70D)的测量误差。在本实施形态中，通过主控制装置20， 根据用于测量晶片载台WST在X轴方向的位置信息的编码器70B, 70D的测量值、该测量时晶片栽台WST在与X轴方向不同的方向(非 测量方向)的位置信息(例如干涉仪系统118Z干涉仪43A， 43B所测量 的与晶片栽台WST的6y方向、ez方向、以及Z轴方向的位置信息 对应的栽台位置起因误差修正信息(由前述式(ll)所算出的修正信 息))，将晶片栽台WST驱动于X轴方向。因此，不会受到读头与标 尺间往希望测量的方向(测量方向)以外的相对运动的影响，而可使用 编码器将晶片栽台WST向所希望的方向以良好精度驱动。02211另外，根据本实施形态的膝光装置100，为了使来自照明系 统IO经由标线片R、投影光学系统PL、及水Lq而照射于晶片W的 照明光IL与晶片W的相对运动，通过主控制装置20，根据上述各编 码器的测量值、该测量时与晶片栽台WST在非测量方向的位置信息， 以良好精度驱动装栽晶片W的晶片栽台WST。因此，可通过扫描曝 光及液浸瀑光，以良好精度将标线片R的图案形成于晶片上。0222另外，根据本实施形态，主控制装置20在取得前述编码器 的测量值的修正信息时，使晶片栽台WST变化成不同的多个姿势， 就各姿势，在根据干涉仪测量系统118的测量结果维持晶片栽台WST 的姿势的状态下， 一边从编码器的读头64或66将检测光照射于标尺 39Yi、 39Y2， 39X!、 39乂2的特定区域， 一边使晶片载台WST在规定 动程范围内移动于Z轴方向，并在该移动中对编码器的测量结果进行 取样。由此，来得到就各姿势的与晶片载台WST在正交于移动面的 方向(Z轴方向)的位置对应的编码器测量值的变化信息(例如
图12的 图表所示的特性曲线)。0223I接着，主控制装置20根据此取样结果，也即就各姿势的与 晶片栽台WST在Z轴方向的位置对应的编码器测量值的变化信息， 进行规定运算，由此求出与晶片栽台WST在非测量方向的位置信息 对应的编码器测量值的修正信息。因此，能以简单的方法，决定用于修正因读头与标尺在非测量方向的相对变化而产生的编码器测量误 差的修正信息。0224，另外，在本实施形态中，由在对构成同一读头单元的多个 读头、例如构成读头单元62A的多个Y读头64，决定上述修正信息 时，从各Y读头64将检测光照射于所对应的Y标尺39Y，的相同特定 区域，进行上述编码器的测量结果的取样，并根据其取样结果，决定 由各Y读头64与Y标尺39Y!构成的各编码器的栽台位置起因误差修 正信息，其结果，可通过使用此修正信息也修正因读头倾倒产生的几 何性误差。换言之，主控制装置20，在以与同一标尺对应的多个编码 器为对象求出前述修正信息时，考虑使晶片栽台WST移动于Z轴方 向时因作为对象的编码器的读头倾倒而产生的几何误差，求出作为前 述对象的编码器的修正信息。因此，本实施形态，也不会产生因多个 读头的倾倒角度不同而产生的余弦误差，另外，即使Y读头64不产 生倾倒，而例如因读头的光学特性(倾斜度等)等使编码器产生测量误 差时，同样地可通过求出前述修正信息，来防止测量误差的产生，进 而防止晶片栽台WST的位置控制精度降低。也即在本实施形态中， 驱动晶片栽台WST以补偿因读头单元而产生的编码器系统的测量误 差(以下也称为读头起因误差)。此外，也可根据读头单元的特性信息 (包含例如读头的倾倒、及/或光学特性等)，算出例如编码器系统的 测量值修正信息。另外，在本实施形态中，也可分别单独修正前述载 台位置起因误差与上述读头起因误差。0225另外，上述各实施形态的编码器系统、干涉仪系统、多点 AF系统及Z传感器等构成或配置仅为一例，本发明当然并不限定于 此。例如，上述实施形态中的例，虽用于Y轴方向位置的测量的一对 Y读头39Yl5 39Y2、以及用于X轴方向位置的测量的一对X读头39Xh 39X2，设于晶片台WTB上，而与此对应地， 一对读头单元62A，62C 配置于投影光学系统PL的X轴方向一侧与另 一侧， 一对读头单元62B 62D配置于投影光学系统PL的Y轴方向一侧与另一侧，然而并不限 于此，也可Y轴方向位置测量用的Y读头39Y,， 39Y2及X轴方向位置测量用的X读头39X,， 39X2中至少一方的一个(非一对)设于晶片台 WTB上，或仅设置一对读头单元62A， 62C及一对读头单元62B， 62D 中至少一方的一个。另外，标尺的延设方向及读头单元的延设方向， 并不限于上述实施形态的X轴方向、Y轴方向的正交方向，也可为相 互交叉的方向。另外，衍射光栅的周期方向也可是与各标尺的长边方 向正交(或交叉)的方向，此时，只要在与衍射光栅周期方向正交的方 向配置对应的读头单元的多个读头即可。另外，各读头单元，也可具 有在与上述衍射光栅周期方向正交的方向无间隙地配置的多个读头。[02261另外，上述实施形态中的例子，虽采用于晶片台(晶片栽台) 上配置栅格部(X标尺，Y标尺)，并与此对向地将读头单元(X读头，Y 读头)配置于晶片栽台外部的构成的编码器系统，但并不限于此，也可 采用在晶片栽台(晶片台)上配置编码器读头，并与此对向地将二维栅 格(或二维配置的一维栅格部)配置于晶片栽台外部的构成的编码器系 统。此时，当于晶片栽台上面也配置Z传感器时，可将该二维栅格(或 二维配置的一维栅格部)兼用为用于反射来自Z传感器的测量光束的 反射面。即使采用此种构成的编码器系统，基本上也与上述实施形态 同样地，可根据编码器的测量值与标尺的平面度的相关倌息，将晶片 栽台WST驱动于编码器的测量方向。由此，可不受标尺凹凸的影响， 使用编码器将晶片栽台WST以良好精度驱动于所欲方向。02271此外，在上述实施形态中，虽用干涉仪系统测量晶片栽台 WST在0x方向的旋转信息(纵摇量)，但例如也可从一对Z传感器74i， j或76p，q的测量值求得纵摇量。或者，也可与读头单元62A，62C同样 地，例如于读头单元62B， 62D的各读头接近配置一个或一对Z传感 器，再从与X标尺39&，39x2分别对向的Z传感器的测量值求得纵摇 量。由此，可不使用干涉仪系统118，而使用前述编码器与Z传感器 测量晶片载台WST在六自由度的方向、也即X轴、Y轴、Z轴、ex、ey、 ez方向的位置信息。前述编码器与z传感器测量晶片栽台wst 在六自由度方向的位置信息的动作，不仅可在瀑光动作进行，也可在 前述对准动作及/或对焦匹配动作进行。0228另外，在上述实施形态中，虽根据前述修正信息来修正编 码器系统的测量值，来补偿因晶片栽台WST往与晶片栽台WST所驱 动的规定方向不同的方向的移位(读头与标尺的相对移位)而产生的编 码器系统的测量误差，但并不限于此，例如也可一边根据编码器系统 的测量值驱动晶片栽台WST, —边根据前述修正信息修正用于定位晶 片载台WST的目标位置。或者，特别是在曝光动作中，也可一边根 据编码器系统的测量值驱动晶片栽台WST，一边根据前述修正信息修正标线片栽台RST的位置。02291另外，在上述实施形态中，例如在瀑光时等，根据编码器 系统的测量值仅驱动晶片栽台WST，但例如也可追加用于测量标线片 栽台RST位置的编码器系统，再才艮据该编码器系统的测量值、与标线 片干涉仪116所测量的标线片栽台在非测量方向的位置信息对应的修 正信息，来驱动标线片栽台RST。[02301另外，在上述实施形态中，虽说明了具备一个固定的一次 对准系统与四个可动的二次对准系统，且以与这些五个对准系统对应 的行程检测附设于晶片上的十六个对准照射区域的对准标记。然而， 二次对准系统也可不为可动，另外，二次对准系统的数目也可为任意。 总之，只要有能检测晶片上的对准标记的至少一个对准系统即可。[02311此外，在上述实施形态中，虽说明了与例如国际公开 WO2005 / 074014号小册子等所公开的曝光装置同样地，与晶片栽台 WST分开独立地具备测量栽台MST的曝光装置，但并不限于此，即 使例如日本特开平10-214783号小册子及对应美国专利笫6，341，007 号、以及国际公开第98/40791号小册子及对应美国专利第6，262，796 号等所公开的，可使用两个晶片栽台来大致同时执行瀑光动作与测量 动作(例如对准系统对标记的检测等)的双晶片栽台方式的咏光装置， 也可使用前述编码器系统(参照图3等)来进行各晶片栽台的位置控制。 此处，虽不仅在瀑光动作而在测量动作时，也可通过适当地设定各读 头单元的配置、长度等，来直接使用前述编码器系统而进行各晶片载 台的位置控制，但也可与前述读头单元(62A ~ 62D)分别独立地设置可在其测量动作中4吏用的读头单元。例如，也可设置以一个或两个对准 系统为中心配置成十字形的四个读头单元，在上述测量动作时通过这些读头单元与所对应的移动标尺(62A ~ 62D)来测量各晶片载台WST 的位置信息。双晶片栽台方式的曝光装置，在两个晶片栽台分别设置 至少各两个移动标尺，当装栽于一晶片载台的晶片的曝光动作结束 后，即通过与该一晶片载台的更换，来将用于装栽已在测量位置进行 了标记检测等的次一晶片的另一晶片栽台配置于瀑光位置。另外，与 瀑光动作同时进行的测量动作，并不限于对准系统对晶片等的标记检 测，也可代替此方式或与其组合，进行晶片的面位置信息(段差信息等) 的检测。0232j此外，在上述实施形态中，虽说明了在晶片栽台WST侧进 行晶片更换的期间，使用测量栽台MST的CD杆46来进行 Sec-BCHK(时距)，但并不限于此，也可使用测量栽台MST的测量器 (测量用构件)进行照度不均测量(及照度测量)、空间像测量、波面像差 测量等的至少一个，并将该测量结果反映于其后进行的晶片曝光。具 体而言，例如能根据测量结果，通过调整装置68来进行投影光学系 统PL的调整。0233另外，在上述实施形态中，也可在测量栽台MST配置标尺， 并使用前述编码器系统(读头单元)来进行测量栽台的位置控制。也即， 进行由编码器系统进行的位置信息的测量的移动体，并不限于晶片载台。[0234此外，若考虑到晶片栽台WST的小型化或轻量化等，虽最 好在晶片栽台WST上尽可能地将标尺配置成接近晶片W，但在可增 大晶片栽台大小的情形时，也可增大晶片栽台，以增加对向配置的一 对标尺的间隔，由此至少在晶片的瀑光动作中，可随时在X轴方向及 Y轴方分别测量各两个、合计四个的位置信息。另外，也可代替增大 晶片栽台的方式，将例如标尺设置成其一部分从晶片栽台超出，或使 用至少设有一个标尺的辅助板，将标尺配置于晶片栽台本体的外侧， 由此来增大同样对向配置的一对标尺的间隔。[0235另外，在上述实施形态中，为了防止异物附着于Y标尺39Y^ 39Y2、 X标尺39Xh 39X2、或污染等导致测量精度降低，例如可对表 面施以涂布以復盖至少衍射光栅，或设置軍玻璃。此时，特别是液浸 型曝光装置，也可将疏液性保护膜涂布于标尺(栅格面)，或于革玻璃 表面(上面)形成疏液膜。再者，各标尺虽于其长边方向的大致全区连 续地形成衍射光栅，但也可将衍射光栅区分成多个区域来断续地形 成，或将各移动标尺以多个标尺构成。另外，在上述实施形态中，虽 例示了使用衍射干涉方式的编码器来作为编码器的情形，但并不限于 此，也可使用所谓拾取方式、磁气方式等，例如美国专利笫6,639,686 号说明书等所公开的所谓扫描编码器等。[0236j另外，在上述实施形态中，作为Z传感器，也可代替前述 光拾取方式的传感器，而使用例如具备下述构成的传感器，也即将 例如探测光束投射于测量对象面且通过接收其反射光来以光学方式 读取测量对象面在Z轴方向的位移的第1传感器(也可是光拾取方式 的传感器，或其它的光学式位移传感器)，用于将该第1驱动于Z轴 方向的驱动部，以及用于测量第1传感器再Z轴方向的位移的第2传 感器(例如编码器等)。此种构成的Z传感器，可设定下述两模式，也 即根据第l传感器的榆出由驱动部将笫1传感器驱动于Z轴方向，以 使测量对象面例如标尺的面与第1传感器在Z轴方向的距离恒为一定 的模式(第l伺服控制模式)，以及从外部(控制装置)给予第2传感器的 目标值，并使驱动部维持第1传感器在Z轴方向的位置以使第2传感 器的测量值与该目标值一致(第2伺服控制模式)。在第1伺服控制模 式时，Z传感器的输出可使用测量部(第2传感器)的输出，在第2祠 服控制模式时也可使用第2传感器的输出。另外，在使用上述Z传感 器的情形下，采用编码器来作为第2传感器时，其结果能使用编码器 来测量晶片栽台WST(晶片台WTB)在六自由度方向的位置信息。另 外，在上述各实施形态中，作为Z传感器也可采用其它检测方式的传遂紫 懲森o0237j另外，在上述实施形态中，用于测量晶片栽台WST的位置信息的多个干涉仪的构成或组合，并不限定于前述的构成或组合。总 之，只要能测量除了编码器系统的测量方向以外的方向的晶片载台WST的位置信息，干涉仪的构成及组合可为任意。另外，除了上迷编 码器系统以外，只要有能测量除了编码器系统的测量方向以外的方向 的晶片栽台WST位置信息的测量装置(是否为干涉仪均可)即可。例如 也可将前述Z传感器作为测量装置，02381另外，在上述实施形态中，除了多点AF系统以外也还设 有Z传感器，但只要能以多点AF系统在瀑光时检测晶片W的碟光对 象照射区域中的面位置信息，即不一定要设置测量Z传感器。0239此外，在上述实施形态中，虽使用纯水(水)作为液体，但本 发明当然并不限定于此。也可使用化学性质穗定、照明光IL的透射 率高的安全液体来作为液体，例如氣系惰性液体。作为此氟系惰性液 体，例如能使用象洛黎纳特(Fluorinert，美国3M公司的商品名称)。此 氟系惰性液体也具优异冷却效果。另外，作为液体，也能使用对照明 光IL的折射率比纯水(折射率1.44左右)高的，例如折射率为1.5以上 的液体。此种液体，例如有折射率约1.50的异丙醇、折射率约1.61 的甘油(glycerine)的类具有C-H鍵结或O-H键结的规定液体、己烷、 庚烷、癸烷等规定液体(有机溶剂)、或折射率约1.60的十氢萘 (Decalin:Decahydronaphthalene)等。或者，也可混合上述液体中任意 两种类以上的液体，也可在纯水中添加(混合)上述液体的至少一种者。 或者，液体LQ，也可在纯水中添加(混合)H+、 Cs+、 K+、 Cr、 SO -、 PO:等碱基或酸等者。再者，也可在纯水中添加(混合)A1氣化物等微 粒子。上迷液体能使ArF准分子激光透射，另外，作为液体，最好是 光的吸收系数较小，温度依存性较少，并对涂布于投影光学系统PL 及/或晶片表面的感光材(或保护膜(顶层涂布膜)或反射防止膜等)较 稳定的。另外，在以F2激光为光源时，只要选择全氟聚醚油(Fomblin Oil)即可。02461另外，在上述实施形态中，也可再利用回收的液体，此时， 最好是能在液体回收装置、或回收管等设置用于从回收的液体中除去杂质的过滤器。02411此外，在上述实施形态中，虽就膝光装置为液浸型瀑光装 置的情形作了说明，但并不限于此，本发明也非常适合应用于不经由 过液体(水)进行晶片W的瀑光的干式瀑光装置。[02421另外，上述实施形态中，虽说明了将本发明适用于步进扫 描方式等的扫描型瀑光装置，但并不限于此，也能将本发明适用于步 进器等静止型瀑光装置。即使是步进器等，也能通过编码器来测量装 栽有膝光对象物体的栽台的位置，而能同样地使因空气动荡所导致的 位置测量误差的产生可能性几乎为零。此时，可根据编码器的测量值 与前述各修正信息，来以高精度定位栽台，其结果能将高精度的标线 片困案转印至物体上。另外，本发明也适用于用于合成照射区域与照 射区域的步进接合方式的缩小投影瀑光装置、近接方式的啄光装置、 或镜面投影对准瀑光器等。02431另外，上述实施形态的攀光装置中的投影光学系统不仅可 为缩小系统，也可为等倍系统及放大系统的任一个，投影光学系统PL 不仅可为折射系统，也可为反射系统及反折射系统的任一个，其投影 像也可为倒立像与正立像的任一个。再者，经由投影光学系统PL来 照射照明光IL的瀑光区域IA，虽在投影光学系统PL的视野内包含 光轴AX的轴上区域，但例如也可与如国际/>开第2004/107011号小 册子所公开的所谓在线型反折射系统同样地，其膝光区域为不含光轴 AX的离轴区域，该在线型反折射系统具有多个反射面且将至少形成 一次中间像的光学系统(反射系统或反折射系统)设于其一部分，并具 有单一光轴。另外，前述照明区域及曝光区域的形状虽为矩形，但并 不限于此，也可为例如囷弧、梯形、或平行四边形等。02441另外，上迷实施形态的瀑光装置的光源，不限于ArF准分 子激光源，也能使用KrF准分子激光源(输出波长248nm)、 F2激光(输 出波长157nm)、 Ar2激光(输出波长126nm)、Kr2激光(输出波长146nm) 等脉沖激光源，或发出g线(波长436nm)、 i线(波长365nm)等发射亮 线的超高压水银灯等。另外，也可使用YAG激光的谐波产生装置等。另外，可4吏用例如国际>^开第1999/46835号小册子(对应美国专利笫 7， 023， 610号说明书)所公开的谐波，用涂布有铒(或铒及镱两者)的光 纤放大器，将从DFB半导体激光或纤维激光射出的红外线区或可见 区的单一波长激光放大来作为真空紫外光，并用非线形光学结晶将其 转换波长成紫外光。024Sl另外，在上述实施形态中，作为膝光装里的照明光IL，并 不限于波长大于100nm的光，也可使用波长未满100nm的光。例如， 近年来，为了瀑光70nm以下的困案，已进行了一种EUV瀑光装置的 开发，其用SOR或电浆激光为光源来产生软X线区域(例如5 15nm 的波长域)的EUV(Extreme Ultra Violet)光，且使用根据其曝光波长 (例如13.5nm)所设计的全反射缩小光学系统及反射型掩膜。此装置由 于使用圃弧照明同步扫描掩膜与晶片来进行扫瞄膝光的构成，因此能 将本发明非常合适地适用于上述装置。此外，本发明也适用于使用电 子射线或离子束等的带电粒子射线的膝光装置。02461另外，在上述实施形态中，虽使用在具光透射性的基板上 形成规定遮光围案(或相位图案，减光图案)的光透射性掩膜(标线片)， 但也可使用例如美国专利第6,778,257号说明书所公开的电子掩膜来 代替此掩膜，该电子掩膜(也称为可变成形掩膜、主动掩膜、或影像产 生器，例如包含非发光型影像表示组件(空间光调变器)的一种的 DMD(Digital Micro-mhror Device)等)根据要曝光困案的电子数据来 形成透射困案、反射图案、或发光困案。使用此种可变成形掩膜时，由于装栽有晶片或軍玻璃等的栽台对可变成形掩膜进行扫描，因此可 使用编码器测量该栽台的位置，根据该编码器的测量值、与干涉仪所 测量的载台在非测量方向的位置信息对应的修正信息，来驱动该载 台，由此获得与上述实施形态同等的效果。[0247I另外，本发明也能适用于，例如国际公开第2001 /035168 号说明书所公开的，通过将干涉紋形成于晶片上、而在晶片上形成等 间隔线闺案的瀑光装置(光刻系统)，024移1进而，例如也能将本发明适用于例如日本特表2004 -519850号公报(对应美国专利第6,611,316号)所公开的瀑光装置，将两 个标线片困案经由投影光学系统在晶片上合成，通过一次的扫描膝光 来对晶片上的一个照射区域大致同时进行双重瀑光。02491另外，在物体上形成困案的装置并不限于前述瀑光装置(光 刻系统)，例如也能将本发明适用于以喷墨式来将图案形成于物体上的装置o025 1此外，上述实施形态及变形例中待形成困案的物体(能量束 所照射的膝光对象的物体)并不限于晶片，也可是玻璃板、陶资基板、 膜构件、或者掩膜基板等其它物体。02511作为曝光装置用途并不限定于半导体制造用的瀑光装置， 也可广泛适用于例如用来制造将液晶表示组件图案转印于方型玻璃 板的液晶用瀑光装置，或制造有机EL、薄膜磁头、摄影组件(CCD等)、 微型机器及DNA芯片等的膝光装置。另外，除了制造半导体组件等 微型组件以外，为了制造用于光瀑光装置、EUV(极远紫外线)膝光装 置、X射线曝光装置及电子射线曝光装置等的标线片或掩膜，也能将 本发明适用于用于将电路图案转印至玻璃基板或硅晶片等的曝光装 置。02521此外，本发明的移动体驱动系统、移动体驱动方法或决定 方法，并不限定于瀑光装置，也可广泛适用于其它的基板处理装置(例 如激光修理装置、基板检查装置等其它)，或其它精密机械中的试料定 位装置、打线装置等具备在二维面内移动的栽台等移动体的装置。02531另外，上述实施形态的瀑光装置(困案形成装置)，通过组装 各种次系统(包含本案申请范围中所列举的各构成要素)，以能保持规 定的机械精度、电气精度、光学精度的方式所制造。为确保这些各种 精度，在组装前后，进行对各种光学系统进行用于达成光学精度的调 整、对各种机械系统进行用于达成机械精度的调整、对各种电气系统 进行用于达成电气精度的调整。从各种次系统至咏光装置的组装步 骤，包含机械连接、电路的配线连接、气压回路的配管连接等。当然， 从各种次系统至啄光装置的组装步骤前，有各次系统个别的组装步骤。当各种次系统至瀑光装置的組装步骤结束后，即进行综合调整， 以确保瀑光装置全体的各种精度。此外，咏光装置的制造最好是在温 度及清洁度等都受到管理的洁净室进行。025引此外，援用与上述实施形态所引用的曝光装置等相关的所 有公报、国际公开小册子、美国专利申请公开说明书及美国专利说明 书的公开，来作为本说明书的记栽的一部分。02551接着，说明在光刻步骤使用上述曝光装置(图案形成装置) 的組件制造方法的实施形态。10256困28表示組件(IC(集成电路)或LSI等半导体芯片、液晶面 板、CCD、薄膜磁头、微型机器等)的制造例流程围。如图28所示， 首先，在步骤201(设计步骤)中，进行组件的功能/性能设计(例如半 导体组件的电珞设计等)，并进行用于实现其功能的图案设计。接着， 在步骤202(掩膜制作步稞)中，制作形成有所设计电路困案的掩膜。另 一方面，在步骤203(晶片制造步骤)中，使用硅等材料来制造晶片。0257其次，在步骤204(晶片处理步骤)中，使用在步骤201-步 猓203所准备的掩膜及晶片，如后所述，通过光刻技术等将实际电路 等形成于晶片上。其次，步骤205(组件组装步骤)中，使用在步骤204 所处理的晶片进行组件组装。于此步骤205中，根据需要而包含切割 步骤、接合步骤及封装步骤(芯片封入)等步骤。02581最后，在步稞206(检查步骤)中，进行在步驟205制成的组 件的动作确认测试、耐久测试等检查。在经过这些步骤后组件即告完 成，并将其出荷。02591困29表示半导体组件时上述步槺204的详细流程例。在图 29中，步槺211(氧化步骤)使晶片表面氧化。步骤212(CVD(化学气相 沉积)步骤)于晶片表面形成绝缘膜。步骤213(电极形成步骤)通过蒸镀 将电极形成于晶片上。步骤214(离子植入步骤)将离子植入晶片。以上 步稞211 ~步槺214的各步骤构成晶片处理的各阶段的前处理步骤， 并视各阶段所需处理加以选择并执行。026ai在晶片处理的各阶段中，当结束上迷前处理步稞时，即如以下进行后处理步骤。此后处理步骤中，首先，步稞215(抗蚀剂形成 步骤)，将感光剂涂布于晶片。接着，在步骤216(曝光步骤)中，使用 于上说明的曝光装置(图案形成装置)及曝光方法(图案形成方法)将掩 膜的电路困案转印于晶片。其次，在步骤217(显影步骤)中，使咏光的 晶片显影，在步骤218(蚀刻步骤)中，通过蚀刻除去抗蚀剂残存部分以 外部分的露出构件。接着，在步骤219(抗蚀剂除去步骤)中，除去结束 蚀刻后不需要的抗蚀剂。[02611通过反复进行这些前处理步驟及后处理步骤，来在晶片上 形成多重电路困案。0262，由于只要使用于上说明的本实施形态的組件制造方法，即 会在曝光步壤(步稞216)中使用上述实施形态的曝光装置(图案形成装 置)及膝光方法(围案形成方法)，因此可一边维持高重叠精度， 一边进 行高生产率的瀑光。据此，能提升形成有微细困案的高集成度的微型 组件的生产性。[02631如以上的说明，本发明的移动体驱动系统及移动体驱动方 法，适在移动面内驱动移动体。另外，本发明的图案形成装置及图案 形成方法，适在物体上形成图案。另外，本发明的膝光装置及曝光方 法、以及組件制造方法，适于制造微型组件。此外，本发明的决定方 法，适于决定供测量移动体在前述移动面内的规定方向位置信息的编 码器测量值的修正信息。
权利要求
1、一种实质上沿规定平面驱动移动体的移动体驱动系统，其特征在于包括编码器，具备向具有把与上述规定平面平行的规定方向作为周期方向的栅格的标尺照射检测光并接收来自上述标尺的反射光的读头，测量上述移动体在上述规定方向的位置信息；以及驱动装置，基于上述编码器的测量值、以及相应于该测量时的上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息的修正信息，将上述移动体驱动于上述规定方向。
2、 根据权利要求l所述的移动体驱动系统，其特征在于 上述标尺配置在与上述规定平面实质上平行的上述移动体的一面，上迷读头配置在上述移动体的外部而能与上述标尺对向。
3、 根振权利要求1或2所述的移动体驱动系统，其特征在于 上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息，包含涉及上迷移动体在与上述规定平面正交的方向，以及在与上迷规定平面平行 的面内的旋转方向及与上述规定平面平行的面内、绕与上述规定方向 正交的方向的轴旋转方向中的至少一个方向的位置信息。
4、 根据权利要求1至3中的任一所述的移动体驱动系统，其特 征在于还包括储存有上述修正信息的记忆装置，上述驱动装置，在使用上述编码器测量上述移动体在上述规定方 向的位置倌息时，根据上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置 信息与储存于上述记忆装置的信息，求出对应上述移动体在与上述规 定方向不同方向的位置信息的上迷修正信息。
5、 根据权利要求4所述的移动体驱动系统，其特征在于 上述编码器设有多个，在上迷记忆装置中，针对每个编码器储存上述修正信息， 上述駔动装置，基于上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息、与储存于上述记忆装置的信息，针对各编码器求出对应上述 移动体在与上迷规定方向不同方向的位置信息的修正信息，
6、 根据权利要求1至5中的任一所述的移动体驱动系统，其特 征在于作为上述标尺，设有第l标尺，具有把与上述规定平面平行的面内的笫l方向作为周 期方向的裙格；以及第2标尺，具有把与上述规定平面平行的面内的第1方向交叉的 笫2方向作为周期方向的栅格；作为上述编码器，包含多个第l编码器，在上述第2方向的不同位置配置多个第l读头， 且通过与上述第1标尺对向的上述多个第1读头的至少1个，测量上 迷移动体在上述笫1方向的位置信息；以及多个笫2编码器，在上述第1方向的不同位置配置多个第2读头， 且通过与上述笫2标尺对向的上述多个第2读头的至少l个，测量上 述移动体在上述笫2方向的位置信息。
7、 根据权利要求1至6中的任一所述的移动体驱动系统，其特 征在于还包括测量装置，测量上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息。
8、 根据权利要求7所述的移动体驱动系统，其特征在于 上迷測量装置，包含对设在上述移动体的至少1个反射面照射1或2以上的测长光束，来测量上述移动体在与上述规定方向不同方向 的位置信息的干涉仪。
9、根据权利要求7或8所述的移动体驱动系统，其特征在于还 包括控制装置，使上述移动体变化為不同的多姿势，针对各姿势，根 据上述测量装置的测量结果在维持上述移动体的姿势的状态下， 一边边使上述移动体以规定行程范围移动于与上述规定平面正交的方向， 在上述移动中对上述编码器的测量结果进行取样，根据上述取样结果 进行规定运算，以求出作为对象的编码器的修正信息。
10、 根据权利要求9所述的移动体驱动系统，其特征在于 上述控制装置，把与同一标尺对应的多个编码器作为对象，在求取上述修正信息时，考虑作为对象的编码器读头的倾倒所产生的几何 性误差，求出作为上述对象的编码器的修正信息。
11、 一种困案形成装置，其特征在于包括移动体，装栽物体、能保持上述物体实质上沿移动面移动； 困案化装置，用在上述物体上形成图案；以及 为了在上述物体上形成图案，驱动上述移动体的权利要求1至10 中的任一所述的移动体驱动系统。
12、 一种通过能量束的照射在物体上形成闺案的碟光装置，其特 征在于包括图案化装置，对上述物体照射能量束；以及 权科要求1至10中的任一所述的移动体驱动系统， 为进行上迷能量束与上述物体的相对移动，用上述移动体驱动系 统进行装栽上述物体的移动体的驱动。
13、 一种用能量束使物体曝光的曝光装置，其特征在于包括 移动体，保持上述物体，能至少在规定平面内正交的笫1及第2方向移动；编码器系统，在保持上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与 读头单元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向设置，以测量上 述移动体在上述第1及第2方向的至少一方的位置信息；以及驱动装置，基于编码器系统的测量信息、与上述移动体在与上迷 第l及第2方向不同方向的位置信息，在上述规定平面内驱动上述移 动体。
14、 裉据权利要求13所述的攀光装置，其特征在于 驱动上述移动体，以便补偿因上述移动体向上述不同方向的位移所产生的上述编码器系统的测量误差。
15、 根据权利要求14所述的爆光装置，其特征在于 基于上述移动体在上述不同方向的位置信息，求出用于补偿驱动上述移动体所使用的上述测量误差的修正信息。
16、 根据权利要求14或15所述的曝光装置，其特征在于 基于上述移动体在上述不同方向的位置信息，修正上述编码器系统的测量倌息或定位上述移动体的目标位置。
17、 根椐权利要求13至16中的任一所述的曝光装置，其特征在于上述物体经由掩膜用上述能量束曝光，在上述曝光时， 一边基于 上述编码器系统的测量信息驱动上述移动体、 一边移动上述掩膜以补 偿因上述移动体向上述不同方向的位移所产生的上迷编码器系统的 測量误差.
18、 裉据权利要求13至17中的任一所述的瀑光装置，其特征在于上述不同方向包舍与上述规定平面正交的方向、绕与上述规定平 面正交的轴的旋转方向、以及绕与上述规定平面平行的轴的旋转方向 的至少一个。
19、 根据权利要求13至18中的任一所述的瀑光装置，其特征在于上述移动体在上述不同方向为可动， 还具备测量上述移动体在上述不同方向的位置信息的测量装置。
20、 一种用能量束使物体咏光的瀑光装置，其特征在于包括 移动体，保持上述物体，能至少在规定平面内正交的笫1及第2方向移动，且相对上述规定平面倾斜；编码器系统，在保持上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与 读头单元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向设置，以测量上 述移动体在上述笫1及第2方向的至少一方的位置信息；以及驱动装置，基于上述编码器系统的测量信息、与上迷移动体的倾 斜信息，在上述规定平面内驱动上述移动体。
21、 根据杈利要求20所述的瀑光装置，其特征在于 驱动上述移动体，以补偿因上述移动体的倾斜所产生的上述编码器系统的测量误差。
22、 ^L据权利要求21所述的瀑光装置，其特征在于 基于上述移动体的倾斜信息，求出用于补镛驱动上述移动体所使用的上迷鰂量谈差的修正信息。
23、 根椐杈利要求21或22所述的瀑光装置，其特征在于 基于上迷移动体的倾斜信息，修正上迷编码器系统的测量倌息或定位上述移动体的目标位置。
24、 根椐权利要求20至23中的任一所述的瀑光装置，其特征在于上述物体经由掩膜用上述能量束瀑光，在上述瀑光时， 一边根椐 上述编码器系统的测量信息驱动上述移动体、 一边移动上述掩膜以补 偿因上述移动体的倾斜所产生的上述编码器系统的测量误差。
25、 根振权利要求13至24中的任一所述的膝光装置，其特征在于基于成为上述编码器系统的测量误差的产生原因的上述读头单 元的特性信息，驱动上述移动体。
26、 一种用能量束使物体漆光的曝光装置，其特征在于包括 移动体，保持上述物体，能至少在规定平面内正交的第1及第2方向移动；编码器系统，在保持上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与 读头单元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向设置，以测量上 迷移动体在上述第1及第2方向的至少一方的位置信息；以及驱动装置，基于编码器系统的测量信息、与成为上述编码器系统 的测量误差的产生原因的上述读头单元的特性信息，在上述规定平面 内驱动上述移动体。
27、 根振杈利要求25或26所述的咏光装置，其特征在于 上述特性傢息包含上述读头单元的光学特性。
28、 裉椐权利要求25至27中的任一所述的膝光装置，其特征在于基于读头羊元的特性信息，求出用于补偿驱动上述移动体所使用 的上述鲥量误差的修正信息。
29、 裉振杈利要求28所述的舉光装置，其特征在于 基于上述读头单元的特性信息，修正上述编码器系统的测量信息或定位上迷移动体的目标位置。
30、 裉据权利要求13至29中的任一所述的瀑光装置，其特征在于驱动上述移动体，以补偿因上述读头单元所产生的上述编码器系 统的測量误差。
31、 一种用能量束使物体咏光的咏光装置，其特征在于包括 移动体，保持上述物体，能至少在规定平面内正交的第1及第2方向移动；编码器系统，在保持上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与 读头单元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向设置，来测量上 迷移动体在上述第l及第2方向的至少一方的位置信息；以及驱动装置，基于编码器系统的测量信息，在上述规定平面内驱动 上述移动体，以补偿因上述读头单元所产生的上述编码器系统的测量 误差。
32、 根据杈利要求25至31中的任一所述的曝光装置，其特征在于上逸物体烃由掩膜用上迷能量束咏光，在上述膝光时， 一边基于 上述鶬碼器系统的测重信息驱动上述移动体、 一边移动上述掩膜以补 镂國上迷读头单元所产生的上迷编码器系统的测量误差。
33、 根振权利要求13至32中的任一所述的瀑光装置，其特征在于上述栅格部以上述第1方向为长边方向延伸设置，上述读头单元 具有在上迷第2方向配置于不同位置的多个读头，上述编码器系统通 过上述多个读头中与上述栅格部相对向的读头测量上述移动体的位 置倌息.
34、 根据权利要求13至33中的任一所述的曝光装置，其特征在于上迷栅格部设于上述移动体的一面，上述读头单元则与上述移动 体的一面对向设置。
35、 根据权利要求13至34中的任一所述的曝光装置，其特征在 于还包括测量系统，通过与上述读头单元配置于相同侧的多个传感器中与 上述栅格部相对向的传感器，测量上述移动体在与上述规定平面正交 的笫3方向的位置信息，根据上述测量系统的测量信息，控制上述移动体在上述第3方向 的位置。
36、 根椐杈利要求35所述的攀光装置，其特征在于 上迷测量系统通过与上述栅格部对向的多个传感器来测量上述移动体在第3方向的位置信息、及倾斜信息。
37、 根椐杈利要求35或36所述的膝光装罝，其特征在于 上迷移动体的6自由度方向的位置信息中，包含上述笫l方向、上迷第2方向、及上述规定平面内的旋转方向的3自由度方向的位置 倌息用上述编瑪器系统测量，其余3自由度方向的位置信息则用上述测量系统测量。
38、 裉振杈利要求37所述的瀑光装置，其特征在于 基于所测量的6自由度方向的位置信息，至少控制上述移动体在舉光动作中的位里。
39、 根据权利要求35至38中的任一所述的瀑光装置，其特征在 于还包括测量上述物体在上述第3方向的位置信息的位置测量装置， 在上迷物体的面位置信息的测量动作中使用上述编码器系统、上 迷测量系统以及上述位置测量装置。
40、 裉椐权利要求35至39中的任一所述的瀑光装置，其特征在 于还包括检测上述物体的标记的标记检测系统，在上述标记的检测动作中使用上述编码器系统与上述标记检测系统《>
41、 根据权利要求13至40中的任一所述的膝光装置，其特征在 于还包括测量上述物体在至少上述笫1及第2方向的位置信息的干涉仪系统，为了駔动上述移动体，在咏光动作中使用上述编码器系统的测量 信息，在不同于上述曝光动作的动作中则使用上述干涉仪系统的测量信息。
42、 根据杈利要求41所述的碟光装置，其特征在于 在上迷物体的标记及/或面位置信息的检测动作中使用上述编码器系统的测量倌息。
43、 根椐权利要求41或42所述的咏光装置，其特征在于 上述干涉仪系统测量信息的至少一部分使用于上述瀑光动作中。
44、 一种实质上沿规定平面驱动移动体的移动体驱动方法，其特 征在于包括使用具备向具有把与上述规定平面平行的规定方向作为周期方 向的栅格的标尺照射检测光并接收来自上述标尺的反射光的读头的 编码器测量上述移动体在上述规定方向的位置信息，基于上述编码器 的测量值、以及相應於该测量时的上述移动体在与上述规定方向不同 方向的位置信息的修正信息，将上述移动体驱动于上述规定方向的步
45、 根据权利要求44所述的移动体驱动方法，其特征在于 上述标尺配置在与上述规定平面实质上平行的上述移动体的一面，上述读头与上述标尺对向配置在上述移动体的外部。
46、 裉据权利要求44或45所述的移动体驱动方法，其特征在于 上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息包含涉及上述移动体在与上述规定平面正交的方向，以及在与上述规定平面平行 的面内的旋转方向及与上述规定平面平行的面内、绕与上述规定方向 正交的方向的轴旋转方向中的至少一个方向的位置信息。
47、 根据权利要求44至46中的任一所述的移动体驱动方法，其 特征在于在使用多个上述编码器驱动上述移动体时，上述驱动步骤，基于 上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息，针对各编码器求 出对应于上述移动体在与上述规定方向不同方向的位置信息的修正倌息，基于分別使用上述修正信息修正各上述编码器的测量值后的结果，驱动上述移动体。
48、 fil据权利要求44至47中的任一所述的移动体驱动方法，其 特征在于作为上述标尺，设有第1标尺，具有把与上述规定平面平行的面内的第1方向作为周 期方向的栅格；以及笫2标尺，具与上述规定平面平行的面内的第1方向交叉的第2方向为周期方向的槺格， 作为上述编码器，包含多个第l编码器，在上述第2方向的不同位置配置多个第l读头， 且通过与上述笫1标尺对向的上述多个第1读头的至少1个，测量上 述移动体在上迷笫1方向的位置倌息；以及多个笫2编码器，在上述第1方向的不同位置配置多个第2读头， 且通过与上述第2标尺对向的上述多个第2读头的至少1个，测量上 迷移动体在上迷第2方向的位置信息。
49、 根椐权利要求48所述的移动体驱动方法，其特征在于 上述笫1、笫2标尺配置在与上述规定平面实质上平行的上述移动体的一面，上述第1、第2读头则与上述标尺对向配置在上述移动 体外部。
50、 根据权利要求44至49中的任一所述的移动体驱动方法，其 特征在于还包括在上迷驱动步骤之前，使上述移动体变化为不同的多姿势，针对 各姿势，在维持上述移动体的姿势的状态下， 一边从作为对象的读头 对上述标尺的特定区域照射检测光、 一边使上迷移动体在与上述规定 平面正交方向以规定行程范围移动，在上述移动中对上述编码器测量 结果进行取样，根据上述取样结果进行规定运算，求取上述对象编码器的修正信息的步骤。
51、 根椐杈利要求50所述的移动体驱动方法，其特征在于 在上述求取修正信息的步骤中，把与同一标尺对应的多个编码器作为对象，在求取上述修正信息时，考虑作为对象的编码器读头的倾 倒所产生的几何性误差，求出作为上述对象的鳊码器的修正信息。
52、 一种鬮案形成方法，其特征在于包括 将物体装栽于能在移动面内移动的移动体上的步骤；以及 为了对上述物体形成图案，使用权利要求44至51中的任一所述的移动体驱动方法，来驱动上述移动体的步骤。
53、 一种包含困案形成步骤的组件制造方法，其特征在于 上迷網案形成步骤，使用权利要求52的圉案形成方法在基板上形成困案.
54、 一种通过能量束的照射在物体上形成围案的膝光方法，其特 征在于为了进行上述能量束与上述物体的相对移动，使用权利要求44 至51中的任一所述的移动体驱动方法，驱动装栽上述物体的移动体。
55、 一种用能量束使物体曝光的咏光方法，其特征在于 将物体装栽于至少能在规定平面内正交的第l及第2方向移动的移动体；基于在装栽上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与读头单 元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向i殳置，以测量上述移动 体在上述第1及笫2方向的至少一方的位置信息的编码器系统的测量 倌息与关于上述移动体在与上述笫1及第2方向不同方向的位置信 息，在上述规定平面内驱动上述移动体。
56、 根据杈利要求55所述的瀑光方法，其特征在于 驱动上述移动体，以补偿因上述移动体向上述不同方向的位移所产生的上迷编码器系统的测量误差。
57、 根据权利要求56所述的瀑光方法，其特征在于 基于上述移动体在上述不同方向的位置信息，求出用于补偿驱动上述移动体所使用的上述测量误差的修正信息。
58、 根据权利要求56或57所述的膝光方法，其特征在于 基于上述移动体在上述不同方向的位置信息，修正上述编码器系统的测量倌息或定位上述移动体的目标位置。
59、 根椐权利要求55至58中的任一所述的曝光方法，其特征在于上述物体经由掩膜用上述能量束曝光，在上述曝光时， 一边基于 上述编码器系统的测量信息驱动上述移动体、 一边移动上述掩膜以补 偿因上述移动体向上述不同方向的位移所产生的上述编码器系统的 测量误差。
60、 根据权利要求55至59中的任一所述的曝光方法，其特征在于上述不同方向包含与上述规定平面正交的方向、绕与上述规定平 面正交的轴的旋转方向、以及绕与上述规定平面平形行的轴的旋转方 向中的至少一个。
61、 根据权利要求55至60中的任一所述的膝光方法，其特征在于上述移动体在上述不同方向为可动，还包括利用测量装置测量上述移动体在上述不同方向的位置信息的步骤。
62、 一种用能量束使物体膝光的瀑光方法，其特征在于 将物体装栽于能至少在规定平面内正交的第l及笫2方向移动、且相对上迷规定平面倾斜的移动体，基于編码器系统的测量信息与上述移动体的倾斜信息，在上述规 定平面内駔动上迷移动体，上述编码器系统在装栽上述物体的上述移 动体的一面设有栅格部与读头单元的一方，且另一方与上述移动体的 一面对向设置，以测量上述移动体在上述第1及第2方向的至少一方 的位置信息。
63、 根据权利要求62所述的攀光方法，其特征在于 驱动上述移动体，以补偿因上述移动体的倾斜所产生的上述编码器系统的测量误差。
64、 根据杈利要求63所述的瀑光方法，其特征在于 基于上述移动体的倾斜信息，求出用于补偿驱动上述移动体所使用的上述测量误差的修正信息。
65、 根据权利要求63或64所述的咏光方法，其特征在于 基于上述移动体的倾斜信息，修正上述编码器系统的测量信息或定位上述移动体的目标位置。
66、 根椐权利要求62至65中的任一所述的曝光方法，其特征在于上述物体经由掩膜用上述能量束咏光，在上述瀑光时，以一边基 于上迷编码器系统的测量信息驱动上述移动体、 一边移动上述掩膜以补偿因上述移动体的倾斜所产生的上述编码器系统的测量误差。
67、 根椐权利要求55至66中的任一所迷的瀑光方法，其特征在于基于成为上述编码器系统的测量误差的产生原因的上述读头单 元的特性信息，驱动上述移动体。
68、 一种用能量束使物体曝光的曝光方法，其特征在于 将物体装栽于能至少在规定平面内正交的笫l及第2方向移动的移动体；根椐编码器系统的测量信息与上述编码器系统测量误差产生原 因的上述读头单元的特性信息，在上述规定平面内驱动上述移动体， 上述编码器系统在装栽上述物体的上述移动体的一面设有栅格部与 读头单元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向设置，测量上述 移动体在上述第1及笫2方向的至少一方的位置信息。
69、 根据权利要求67或68所述的咏光方法，其特征在于 上述特性倌息包含上述读头单元的光学特性。
70、 根据杈利要求67至69中的任一所述的曝光方法，其特征在于基于上述读头单元的特性信息，求出用于补偿驱动上述移动体所 使用的上述测量误差的修正信息，
71、 根据权利要求70所述的瀑光方法，其特征在于 基于上述读头单元的特性信息，修正上述编码器系统的测量信息或定位上述移动体的目标位置。
72、根据杈利要求55至71中的任一所述的攀光方法，其特征在于驱动上述移动体，以补偿因上述读头单元所产生的上述编码器系 统的测量误差。
73、 一种以能量束使物体瀑光的瀑光方法，其特征在于 将物体装栽于能至少在规定平面内正交的第l及笫2方向移动的移动体；基于编码器系统的测量信息，在上述规定平面内驱动上述移动 体，以补偿因上述读头单元所产生的上述编码器系统的测量误差性信 息，上述编码器系统在装栽上述物体的上述移动体的一面设有栅格部 与读头单元的一方，且另一方与上述移动体的一面对向设置，以测量 上述移动体在上述第1及第2方向的至少一方的位置信息。
74、 根据权利要求67至73中的任一所述的瀑光方法，其特征在于上述物体经由掩膜用上述能量束瀑光，在上述膝光时， 一边基于 上述编码器系统的测量信息驱动上述移动体、 一边移动上述掩膜以补 偿因上述读头单元所产生的上述编码器系统的测量误差。
75、 根据权利要求55至74中的任一所述的曝光方法，其特征在于上述栅格部以上述笫1方向为长边方向延伸设置，上述读头单元 具有在上述第2方向配置于不同位置的多个读头，上述编码器系统通 过上述多个读头中与上述栅格部相对向的读头测量上述移动体的位 置信息。
76、 根椐杈利要求55至75中的任一所述的咏光方法，其特征在于上述栅格部设于上述移动体的一面，上述读头单元则与上迷移动体的一面对向设置。
77、根据权利要求55至76中的任一所述的膝光方法，其特征在于进一步使用通过与上述读头单元配置于相同側的多个传感器中 与上述栅格部相对向的传感器，测量上述移动体在与上述规定平面正 交的第3方向的位置信息的测量系统，基于上述测量系统的测量信息， 控制上述移动体于上述第3方向的位置
78、 根椐杈利要求77所述的攀光方法，其特征在于 上迷测量系统通过与上述栅格部对向的多个传感器来测量上述移动体在第3方向的位置信息、及倾斜信息。
79、 根据杈利要求77或78所述的曝光方法，其特征在于 上迷移动体的6自由度方向的位置信息中，包含上述第l方向、上述第2方向、及上述规定平面内的旋转方向的3自由度方向的位置 信息用上述编码器系统测量，其余3自由度方向的位置信息则用上述 测量系统测量。
80、 根据杈利要求79所述的瞰光方法，其特征在于 基于所测量的6自由度方向的位置信息，至少控制上述移动体在瀑光动作的位置。
81、 根据权利要求77至80中的任一所述的膝光方法，其特征在于在上迷物体的面位置信息的测量动作中除上述编码器系统及上 述测量系銃外，进一步使用测量上述物体在上迷第3方向的位置信息 的位里鰣量装置。
82、 裉据权利要求77至81中的任一所述的瀑光方法，其特征在于在上迷标记的检测动作中，使用上述编码器系统与检测上述物体 的标记的标记检测系统。
83、 根据权利要求55至82中的任一所述的瀑光方法，其特征在于为了駔动上述移动体，在咏光动作中使用上述编码器系统的测量 倌息，在不同于上述膝光动作的动作中则使用测量上述移动体在至少 上述笫1及第2方向的位置信息的干涉仪系统的测量信息。
84、 裉据权利要求83所述的瀑光方法，其特征在于 在上迷物体的标记及/或面位置信息的检测动作中使用上述编码晷系统的测量信息。
85、 根椐杈利要求83或84所述的膝光方法，其特征在于 上述干涉仪系统测量信息的至少一部分用于上述曝光动作中。
86、 一种包含光刻步骤的组件制造方法，其特征在于 上述光刻步骤，使用权利要求55至85中的任一所述的曝光方法使感应物体瀑光，以将困案形成在上述感应物体上。
87、 一种决定编码器系统测量值的修正信息的决定方法，上述编 碣器系统具备设于能实质上沿规定平面移动的移动体、对具有把规定 方向作为周期方向的栅格的标尺照射检测光并接收来自上述标尺的 反射光的读头，测量上述移动体在关于与上述规定平面平行的平面内 规定方向的位里倌息，所述决定方法的特征在于包括使上迷移动体变化为不同的多姿势，针对备姿势，在维持上述移动体的姿势的状态下， 一边从作为对象的读头对上述标尺的特定区域 照射检测光、 一边使上述移动体在与上述规定平面正交方向以规定行 程范围移动，在上述移动中对上述编码器系统的测量结果进行取样的步骤；以及基于上述取样结果，通过进行规定的运算，求取与上述移动体的 规定方向不同的方向的位置信息对应的上述编码器系统的测量值的 修正信息的步樣。
88、 裉椐权利要求87所述的决定方法，其特征在于 上述移动体的姿势变化，就在与上迷规定平面平行的面内的旋转、以及在上迷规定方向的倾斜中的至少一方进行，
89、 一种决定编码器系统测量值的修正倌息的决定方法，上述编 码器系统具备多个构成具有设于能实质上沿规定平面移动的移动体、 对具有以规定方向为周期方向的栅格的标尺照射检测光并接收来自 上述标尺的反射光的读头，分别测量与上述规定平面平行的平面内规 定方向的位置倌息的编码器的读头单元，所述决定方法的特征在于包 括使上迷移动体变化为不同的多姿势，针对各姿势，在维持上述移 动体的姿势的状态下， 一边从作为对象的读头对上述标尺的特定区域 照射检测光、 一边使上述移动体在与上述规定平面正交方向以规定行 程范围移动，在上述移动中对上述作为对象的读头构成的编码器测量结果进行取样，将此动作针对上述多个读头进行的步骤；以及基于上述取样结果，通过进行规定的运算，求取与上述移动体的 规定方向不同的方向位置信息对应的上述多个编码器各自的测量值 的修正信息的步躁。
全文摘要
通过驱动装置，根据用于测量晶片台WTB在Y轴方向位置信息的编码器(64)的测量值、与该测量时以干涉仪(16，43A及43B)所测量的晶片台WTB在非测量方向(例如，Z、及θz及θx方向)的位置信息所对应的已知修正信息，将晶片台WTB驱动于Y轴方向。也即，根据用于修正因读头往非测量方向与标尺的相对位移引起的编码器测量误差的修正信息修正后的编码器测量值，将移动体驱动于Y轴方向。因此，能在不受读头与标尺间的要测量方向(测量方向)以外的相对运动影响的情形下，一边以编码器测量位置、一边以良好精度将晶片台WTB(移动体)驱动于所希望的方向。
文档编号G01B11/00GK101405839SQ20078000992
公开日2009年4月8日 申请日期2007年8月31日 优先权日2006年8月31日
发明者柴崎祐一 申请人:株式会社尼康