缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查系统以及膜制造装置的制作方法

本实用新型涉及用于检查膜的缺陷的缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查 系统以及膜制造装置。

背景技术：

已知对偏振膜以及相位差膜等光学膜、电池的隔膜中使用的膜等的缺 陷进行检测的缺陷检查系统。这种缺陷检查系统利用搬运机构搬运膜，利 用光照射机构向膜的拍摄区域照射光，利用拍摄机构拍摄膜的拍摄区域， 并根据所拍摄的图像进行缺陷检查。作为基于这种缺陷检查系统进行的缺 陷检查方法的种类，大体分为透射法和反射法。更详细地说，作为透射法， 有正透射法、正交偏振(crossed nicol)透射法、透射散射法，作为反射法， 有正反射法、正交偏振反射法、反射散射法。在专利文献1中，公开了作 为透射法而使用了正透射法、透射散射法的缺陷检查系统，另外，公开了 作为反射法而使用了正反射法、反射散射法的缺陷检查系统，在专利文献 2中，公开了作为透射法而使用了正交偏振透射法的缺陷检查系统。

例如，正透射法适于检测膜贴合工序中的混入、附着所导致的黑异物， 正交偏振透射法适于检测粘合件涂敷工序中的混入、附着所导致的亮点， 透射散射法适于检测膜搬运工序中的附着异物导致的划痕转印所带来的 变形。另一方面，反射法(正反射法、正交偏振反射法、反射散射法)适 于检测贴合工序中的咬入所导致的气泡。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-167975号公报

专利文献2：日本特开2007-212442号公报

为了检测黑异物、亮点、变形、气泡之类的不同的多个缺陷，考虑使 用不同的多种检查方法(检查系列)。然而，若检查系列数变多，则投入 成本、管理成本变高，因此希望削减检查系列数。

技术实现要素：

实用新型要解决的课题

因此，本实用新型的目的在于提供能够整合不同的检查系列而削减检 查系列数的缺陷检查用拍摄装置、缺陷检查系统以及膜制造装置。

用于解决课题的手段

本实用新型的缺陷检查用拍摄装置用于进行具有偏振特性的膜的缺 陷检查，其中，所述缺陷检查用拍摄装置具备：光照射机构，其向膜的拍 摄区域照射光；拍摄机构，其将膜的拍摄区域拍摄为二维图像；第一偏振 滤波器，其以与膜形成正交偏振状态或者第一非正交偏振状态的方式，配 置在光照射机构与膜的拍摄区域之间、或者膜的拍摄区域与拍摄机构之 间；以及搬运机构，其相对于光照射机构、拍摄机构以及第一偏振滤波器 沿搬运方向相对地搬运膜，拍摄区域包括在搬运方向上被分割出的第一拍 摄区域以及第二拍摄区域，第一偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄 区域之间、或者第一拍摄区域与拍摄机构之间。

另外，本实用新型的缺陷检查用拍摄方法使用具备光照射机构、拍摄 机构、第一偏振滤波器、以及搬运机构的缺陷检查用拍摄装置进行用于检 查具有偏振特性的膜的缺陷的拍摄，其中，所述缺陷检查用拍摄方法包括 如下工序：第一偏振滤波器配置工序，将第一偏振滤波器以与膜形成正交 偏振状态或者第一非正交偏振状态的方式，配置在光照射机构与膜的拍摄 区域之间、或者膜的拍摄区域与拍摄机构之间；搬运工序，利用搬运机构 相对于光照射机构、拍摄机构以及第一偏振滤波器沿搬运方向相对地搬运 膜；光照射工序，利用光照射机构向膜的拍摄区域照射光；以及拍摄工序， 利用拍摄机构将膜的拍摄区域拍摄为二维图像，拍摄区域包括在搬运方向 上被分割出的第一拍摄区域以及第二拍摄区域，在第一偏振滤波器配置工 序中，将第一偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄区域之间、或者第 一拍摄区域与拍摄机构之间。

在此，正交偏振状态指的是，偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与 膜的偏振轴(偏振吸收轴)实质上正交的状态，即，偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)以实质上90度的角度交叉 的状态。另一方面，非正交偏振(日文：ハ一フクロスニコル)状态指的 是，偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)实 质不上正交而是交叉的状态，即，偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与 膜的偏振轴(偏振吸收轴)以实质上90度以外的角度交叉的状态。

根据该缺陷检查用拍摄装置以及缺陷检查用拍摄方法，例如，由于第 一偏振滤波器以与膜形成正交偏振状态的方式，配置在光照射机构与第一 拍摄区域之间、或者第一拍摄区域与拍摄机构之间，拍摄机构将包括第一 拍摄区域以及第二拍摄区域的拍摄区域拍摄为二维图像，因此能够同时拍 摄第一拍摄区域的正交偏振透射检查用图像(或者正交偏振反射检查用图 像)、第二拍摄区域的例如正透射检查用图像(或者正反射检查用图像)。 即，能够整合正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反射检查用拍 摄系列)和例如正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用拍摄系列)。 其结果是，能够整合正交偏振透射检查系列(或者正交偏振反射检查系列) 和例如正透射检查系列(或者正反射检查系列)，从而能够削减检查系列 数。

在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下方式，第一 偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄区域之间。另外，在上述的缺陷 检查用拍摄方法的基础上，也可以采用如下方式，在第一偏振滤波器配置 工序中，将第一偏振滤波器配置在光照射机构与第一拍摄区域之间。

然而，在正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反射检查用拍 摄系列)与例如正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用拍摄系列)中， 适当的光的亮度值不同。

因此，也可以采用如下方式，上述的缺陷检查用拍摄装置还具备亮度 调节机构，该亮度调节机构调节照射至第一拍摄区域以及第二拍摄区域中 的至少一方的光、或者透过第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至少一方 或被第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至少一方反射的光的亮度值。

由此，能够利用亮度调节机构调节照射至第一拍摄区域以及第二拍摄 区域中的至少一方的光、或者透过第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至 少一方或被第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至少一方射光的亮度值， 因此能够在第一拍摄区域以及第二拍摄区域的拍摄中设定适当的光的亮 度值，能够以与正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反射检查用 拍摄系列)以及例如正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用拍摄系列) 相应的光的亮度值进行检查。

也可以是，上述的亮度调节机构调节照射至第二拍摄区域的光、或者 透过第二拍摄区域或被第二拍摄区域反射的光的亮度值。

有时正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反射检查用拍摄系 列)的适当的光的亮度值较大，正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查 用拍摄系列)的适当的光的亮度值较小。在这种情况下，若如上述那样， 采用亮度调节机构调节照射至第二拍摄区域的光、或者透过第二拍摄区域 或被第二拍摄区域反射的光的亮度值的方式，例如通过从光照射机构输出 较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振透射检查用拍摄系列 (或者正交偏振反射检查用拍摄系列)的第一拍摄区域照射的光的亮度值 较大，另一方面，能够利用亮度调节机构使照射至用于进行正透射检查用 拍摄系列(或者正反射检查用拍摄系列)的第二拍摄区域的光、或者透过 第二拍摄区域或被第二拍摄区域反射的光的亮度值较小。

另外，也可以是，上述的亮度调节机构是配置在光照射机构与第二拍 摄区域之间、或者第二拍摄区域与拍摄机构之间的衰减滤波器。

另外，也可以是，上述的亮度调节机构配置于光照射机构，单独调节 向第一拍摄区域照射的光的亮度值和向第二拍摄区域照射的光的亮度值。

在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以是，第一偏振滤波器 与膜的第一拍摄区域形成正交偏振状态，亮度调节机构包括第一亮度调节 用偏振滤波器，该第一亮度调节用偏振滤波器以与膜的第二拍摄区域形成 第一非正交偏振状态的方式，配置在光照射机构与第二拍摄区域之间、或 者第二拍摄区域与拍摄机构之间。

在此，本申请的发明人们发现，正透射法适于黑异物的检测，正交偏 振透射法适于亮点的检测，但正交偏振透射法难以检测与较强的亮点相比 稍弱的亮点。关于这一点，本申请的发明人们发现了在正交偏振透射法难 以检测的黑异物、稍弱的亮点的检测中利用非正交透射法。

关于这一点，根据该缺陷检查用拍摄装置，由于第一亮度调节用偏振 滤波器(亮度调节机构)与膜的第二拍摄区域形成第一非正交偏振状态， 因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以是，第一偏振 滤波器与膜的第一拍摄区域形成第一非正交偏振状态，亮度调节机构是配 置在光照射机构与第二拍摄区域之间、或者第二拍摄区域与拍摄机构之间 的衰减滤波器。

根据该缺陷检查用拍摄装置，由于第一偏振滤波器与膜的第一拍摄区 域形成第一非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的 检测。

另外，在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以是，第一偏振 滤波器与膜的第一拍摄区域形成第一非正交偏振状态，亮度调节机构配置 于光照射机构，单独调节向第一拍摄区域照射的光的亮度值和向第二拍摄 区域照射的光的亮度值。

在该缺陷检查用拍摄装置中，由于第一偏振滤波器与膜的第一拍摄区 域形成第一非正交偏振状态，因此也能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点 的检测。

另外，在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以是，拍摄区域 包括在搬运方向上被分割出的第三拍摄区域，亮度调节机构包括第二亮度 调节用偏振滤波器且调节照射至第三拍摄区域的光的亮度值，该第二亮度 调节用偏振滤波器以与膜的第三拍摄区域形成第二非正交偏振状态的方 式，配置在光照射机构与第三拍摄区域之间、或者第三拍摄区域与拍摄机 构之间。

根据该缺陷检查用拍摄装置，由于第一亮度调节用偏振滤波器(亮度 调节机构)与膜的第二拍摄区域形成第一非正交偏振状态，第二亮度调节 用偏振滤波器(亮度调节机构)与膜的第三拍摄区域形成第二非正交偏振 状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以是，拍摄区域 包括在搬运方向上被分割出的第三拍摄区域，缺陷检查用拍摄装置还具备 第二偏振滤波器，该第二偏振滤波器配置在光照射机构与第三拍摄区域之 间、或者第三拍摄区域与拍摄机构之间，与膜的第三拍摄区域形成第二非 正交偏振状态。

根据该缺陷检查用拍摄装置，由于第一偏振滤波器与膜的第一拍摄区 域形成第一非正交偏振状态，第二偏振滤波器与膜的第三拍摄区域形成第 二非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以是，第一偏振 滤波器与膜的第一拍摄区域形成第一非正交偏振状态，亮度调节机构包括 第一亮度调节用偏振滤波器，该第一亮度调节用偏振滤波器以与膜的第二 拍摄区域形成第二非正交偏振状态的方式，配置在光照射机构与第二拍摄 区域之间、或者第二拍摄区域与拍摄机构之间。

根据该缺陷检查用拍摄装置，由于第一偏振滤波器与膜的第一拍摄区 域形成第一非正交偏振状态，第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构) 与膜的第二拍摄区域形成第二非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及 上述稍弱的亮点的检测。

本实用新型的另一缺陷检查用拍摄装置用于进行不具有偏振特性的 膜的缺陷检查，其中，该缺陷检查用拍摄装置具备：光照射机构，其向膜 的拍摄区域照射光；拍摄机构，其将膜的拍摄区域拍摄为二维图像；一对 第一偏振滤波器，其以形成正交偏振状态或者第一非正交偏振状态的方 式，分别配置在光照射机构与膜的拍摄区域之间、以及膜的拍摄区域与拍 摄机构之间；以及搬运机构，其相对于光照射机构、拍摄机构以及一对第 一偏振滤波器沿搬运方向相对地搬运膜，拍摄区域包括在搬运方向上被分 割出的第一拍摄区域以及第二拍摄区域，一对第一偏振滤波器配置在光照 射机构与第一拍摄区域之间、以及第一拍摄区域与拍摄机构之间。

本实用新型的另一缺陷检查用拍摄方法使用具备光照射机构、拍摄机 构、一对第一偏振滤波器、以及搬运机构的缺陷检查用拍摄装置进行用于 检查不具有偏振特性的膜的缺陷的拍摄，其中，该缺陷检查用拍摄方法包 括如下工序：第一偏振滤波器配置工序，将一对第一偏振滤波器以形成正 交偏振状态或者第一非正交偏振状态的方式，分别配置在光照射机构与膜 的拍摄区域之间、以及膜的拍摄区域与拍摄机构之间；搬运工序，利用搬 运机构相对于光照射机构、拍摄机构以及一对第一偏振滤波器沿搬运方向 相对地搬运膜；光照射工序，利用光照射机构向膜的拍摄区域照射光；以 及拍摄工序，利用拍摄机构将膜的拍摄区域拍摄为二维图像，拍摄区域包 括在搬运方向上被分割出的第一拍摄区域以及第二拍摄区域，在第一偏振 滤波器配置工序中，将一对第一偏振滤波器分别配置在光照射机构与第一 拍摄区域之间、以及第一拍摄区域与拍摄机构之间。

根据该另一缺陷检查用拍摄装置以及缺陷检查用拍摄方法，例如，由 于一对第一偏振滤波器以形成正交偏振状态的方式，分别配置在光照射机 构与第一拍摄区域之间、以及第一拍摄区域与拍摄机构之间，拍摄机构将 包括第一拍摄区域以及第二拍摄区域的拍摄区域拍摄为二维图像，因此能 够同时拍摄第一拍摄区域的正交偏振透射检查用图像(或者正交偏振反射 检查用图像)、第二拍摄区域的例如正透射检查用图像(或者正反射检查 用图像)。即，能够整合正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反 射检查用拍摄系列)和例如正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用拍 摄系列)。其结果是，能够整合正交偏振透射检查系列(或者正交偏振反 射检查系列)和例如正透射检查系列(或者正反射检查系列)，从而能够 削减检查系列数。

然而，如上述那样，在正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振 反射检查用拍摄系列)与例如正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用 拍摄系列)中，适当的光的亮度值不同。

因此，也可以采用如下方式，上述的另一缺陷检查用拍摄装置还具备 亮度调节机构，该亮度调节机构调节照射至第一拍摄区域以及第二拍摄区 域中的至少一方的光、或者透过第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至少 一方或被第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至少一方反射的光的亮度 值。

由此，能够利用亮度调节机构调节照射至第一拍摄区域以及第二拍摄 区域中的至少一方的光、或者透过第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至 少一方或被第一拍摄区域以及第二拍摄区域中的至少一方射光的亮度值， 因此能够在第一拍摄区域以及第二拍摄区域的拍摄中设定适当的光的亮 度值，能够以与正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反射检查用 拍摄系列)以及例如正透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用拍摄系列) 相应的光的亮度值进行检查。

也可以是，上述的亮度调节机构调节照射至第二拍摄区域的光、或者 透过第二拍摄区域或被第二拍摄区域反射的光的亮度值。

如上述那样，有时正交偏振透射检查用拍摄系列(或者正交偏振反射 检查用拍摄系列)的适当的光的亮度值较大，正透射检查用拍摄系列(或 者正反射检查用拍摄系列)的适当的光的亮度值较小。在这种情况下，若 如上述那样，采用亮度调节机构调节照射至第二拍摄区域的光、或者透过 第二拍摄区域或被第二拍摄区域反射的光的亮度值的方式，例如通过从光 照射机构输出较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振透射检查 用拍摄系列(或者正交偏振反射检查用拍摄系列)的第一拍摄区域照射的 光的亮度值较大，另一方面，能够利用亮度调节机构使照射至用于进行正 透射检查用拍摄系列(或者正反射检查用拍摄系列)的第二拍摄区域的光、 或者透过第二拍摄区域或被第二拍摄区域反射的光的亮度值较小。

另外，也可以是，上述的亮度调节机构是配置在光照射机构与第二拍 摄区域之间、或者第二拍摄区域与拍摄机构之间的衰减滤波器。

另外，也可以是，上述的亮度调节机构配置于光照射机构，单独调节 向第一拍摄区域照射的光的亮度值和向第二拍摄区域照射的光的亮度值。

在上述的另一缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下方式， 一对第一偏振滤波器形成正交偏振状态，亮度调节机构包括一对第一亮度 调节用偏振滤波器，该一对第一亮度调节用偏振滤波器以形成第一非正交 偏振状态的方式，配置在光照射机构与第二拍摄区域之间、以及第二拍摄 区域与拍摄机构之间。

根据该另一缺陷检查用拍摄装置，由于一对第一亮度调节用偏振滤波 器(亮度调节机构)形成第一非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及 上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的另一缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下 方式，一对第一偏振滤波器形成第一非正交偏振状态，亮度调节机构是配 置在光照射机构与第二拍摄区域之间、或者第二拍摄区域与拍摄机构之间 的衰减滤波器。

根据该另一缺陷检查用拍摄装置，由于一对第一偏振滤波器与膜的第 一拍摄区域形成第一非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱 的亮点的检测。

另外，在上述的另一缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下 方式，一对第一偏振滤波器形成第一非正交偏振状态，亮度调节机构配置 于光照射机构，单独调节向第一拍摄区域照射的光的亮度值和向第二拍摄 区域照射的光的亮度值。

在该另一缺陷检查用拍摄装置中，由于一对第一偏振滤波器形成第一 非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的另一缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下 方式，拍摄区域包括在搬运方向上被分割出的第三拍摄区域，亮度调节机 构包括一对第二亮度调节用偏振滤波器，调节照射至第三拍摄区域的光的 亮度值，该一对第二亮度调节用偏振滤波器以形成第二非正交偏振状态的 方式，配置在光照射机构与第三拍摄区域之间、以及第三拍摄区域与拍摄 机构之间。

根据该另一缺陷检查用拍摄装置，由于一对第一亮度调节用偏振滤波 器(亮度调节机构)与膜的第二拍摄区域形成第一非正交偏振状态，一对 第二亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)与膜的第三拍摄区域形成第 二非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的另一缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下 方式，拍摄区域包括在搬运方向上被分割出的第三拍摄区域，缺陷检查用 拍摄装置还具备一对第二偏振滤波器，该一对第二偏振滤波器以形成第二 非正交偏振状态的方式，分别配置在光照射机构与第三拍摄区域之间、以 及第三拍摄区域与拍摄机构之间。

根据该另一缺陷检查用拍摄装置，由于一对第一偏振滤波器形成第一 非正交偏振状态，一对第二偏振滤波器形成第二非正交偏振状态，因此能 够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

另外，在上述的另一缺陷检查用拍摄装置的基础上，也可以采用如下 方式，一对第一偏振滤波器形成第一非正交偏振状态，亮度调节机构包括 一对第一亮度调节用偏振滤波器，该一对第一亮度调节用偏振滤波器以形 成第二非正交偏振状态的方式，配置在光照射机构与第二拍摄区域之间、 以及第二拍摄区域与拍摄机构之间。

根据该另一缺陷检查用拍摄装置，由于一对第一偏振滤波器形成第一 非正交偏振状态，一对第一亮度调节用滤波器(亮度调节机构)形成第二 非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及上述稍弱的亮点的检测。

本实用新型的缺陷检查系统具备：上述的缺陷检查用拍摄装置或者另 一缺陷检查用拍摄装置；以及检测部，其根据由缺陷检查用拍摄装置或者 另一缺陷检查用拍摄装置拍摄到的二维图像而检测膜中存在的缺陷。另 外，本实用新型的缺陷检查方法包括上述的缺陷检查用拍摄方法或者另一 缺陷检查用拍摄方法，该缺陷检查方法包括缺陷检测工序，在该缺陷检测 工序中，根据利用缺陷检查用拍摄方法或者另一缺陷检查用拍摄方法拍摄 到的二维图像而检测膜中存在的缺陷。

本实用新型的膜制造装置具备上述的缺陷检查系统。另外，本实用新 型的膜的制造方法包括上述的缺陷检查方法。

实用新型效果

根据本实用新型，能够在膜的缺陷检查中整合不同的检查系列，从而 削减检查系列数。

附图说明

图1是示出本实用新型的一实施方式所涉及的膜的制造装置以及制造 方法的图。

图2是示出本实用新型的实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检 查方法的图。

图3是示出本实用新型的第一实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置 以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图4是示出本实用新型的第二实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置 以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图5是示出本实用新型的第三实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置 以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图6是示出本实用新型的第四实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置 以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图7是示出本实用新型的第五实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置 以及缺陷检查用拍摄方法的图。

以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图8是示出本实用新型的第六实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置 以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图9是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷检 查用拍摄方法的图。

图10是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图11是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图12是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图13是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图14是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图15是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图16是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图17是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图18是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图19是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图20是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图21的(a)～(c)是示出第二实施方式的缺陷检查用拍摄装置以及 缺陷检查用拍摄方法的验证结果的图。

图22是示出本实用新型的实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷 检查方法的图。

图23是示出本实用新型的第七实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装 置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图24是示出本实用新型的第八实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装 置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图25是示出本实用新型的第九实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装 置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图26是示出本实用新型的第十实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装 置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图27是示出本实用新型的第十一实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄 装置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图28是示出本实用新型的第十二实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄 装置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图29是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图30是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图31是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图32是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图33是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图34是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图35是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图36是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图37是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图38是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图39是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图40是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图41是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图42是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图43是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图44是本实用新型的变形例所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷 检查用拍摄方法的图。

图45的(a)～(d)是示出第七实施方式的缺陷检查用拍摄装置以及 缺陷检查用拍摄方法的验证结果的图。

附图标记说明

10、10A、10B、10C、10D、10E...缺陷检查系统；20、20A、20B、 20C、20D、20E...缺陷检查用拍摄装置；21...光源(光照射机构)；21A... 光源(亮度调节机构)；22...区域传感器(拍摄机构)；22a...CCD或者 CMOS；22b...透镜；23₁、241...第一偏振滤波器；23₂、24₂...第二偏振滤 波器；25₁、25₃...第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)；25₂、25₄... 第二亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)；26...衰减滤波器(亮度调 节机构)；30...图像分析部；40...标记装置；100...制造装置(膜制造装置)； 101、102、103...原料辊；104、105...贴合辊；106...搬运辊；110...膜； 111...偏振膜主体部；112...带有隔离膜的粘合件；113...表面保护膜；R... 拍摄区域；R0...中间拍摄区域；R1...第一拍摄区域；R2...第二拍摄区域； R3...第三拍摄区域。

具体实施方式

以下，参考附图，对本实用新型的优选实施方式进行详细说明。需要 说明的是，在各附图中，对于相同或相当的部分标记相同的附图标记。

本实用新型的实施方式所涉及的膜的制造装置以及制造方法用于制 造具有偏振特性的偏振膜(光学膜)、以及不具有偏振特性的相位差膜(光 学膜)、电池用隔离膜等。在图1中示出具有偏振特性的膜(偏振膜)的 制造装置以及制造方法的一例，省略不具有偏振特性的相位差膜、电池用 隔离膜等的制造装置以及制造方法的说明。

图1所示的制造装置(膜制造装置)100首先在偏振片的主面两侧贴 合保护膜，生成偏振膜主体部(光学膜主体部)111。接下来，制造装置 100从原料辊101取出粘合件上贴合有隔离膜(脱模膜)的带有隔离膜的 粘合件112，利用贴合辊104将带有隔离膜的粘合件112贴合于偏振膜主 体部111的一方的主面侧。接下来，制造装置100从原料辊102取出表面 保护膜113，利用贴合辊105将表面保护膜113贴合于偏振膜主体部111 的另一方的主面侧，从而生成具有偏振特性的膜110。接下来，制造装置 100利用搬运辊106搬运所生成的膜110并利用原料辊103卷绕该膜110。

作为偏振膜主体部111中的偏振片的材料，可以列举PVA(Polyvinyl Alcohol)等，作为偏振膜主体部111中的保护膜的材料，可以列举TAC (Triacetylcellulose)等。另外，作为带有隔离膜的粘合件112中的隔离膜 以及表面保护膜113的材料，可以列举PET(Polyethylene Terephthalate) 等。通过剥离隔离膜，膜110能够利用粘合件贴合于液晶面板、其他光学 膜等。

另外，制造装置100具备进行膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10、 以及进行偏振膜主体部111的缺陷检查的缺陷检查系统10。需要说明的是， 由于这些缺陷检查系统10相同，因此以下对进行膜110的缺陷检查的缺 陷检查系统10进行说明。

[第一实施方式]

本实用新型的第一实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10以 及缺陷检查方法。图2是示出本实用新型的第一实施方式所涉及的缺陷检 查系统以及缺陷检查方法的图，图3是示出本实用新型的第一实施方式所 涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图2所示的缺陷检查系统10具备缺陷检查用拍摄装置20、图像分析 部(检测部)30以及标记装置40，图3所示的缺陷检查用拍摄装置20具 备光源(光照射机构)21、多个区域传感器(拍摄机构)22、以及第一偏 振滤波器23₁。在图2以及图3中示出了XYZ正交坐标，X方向表示偏振 膜的宽度方向，Y方向表示偏振膜的搬运方向。

在本实施方式中，主要是图1所示的搬运辊106以及原料辊103作为 搬运机构而发挥功能。利用这些搬运机构，沿搬运方向Y相对于光源21、 区域传感器22以及第一偏振滤波器23₁相对地搬运膜110。

光源21设置在膜110的另一方的主面侧，向膜110的拍摄区域R照 射光。例如，光源21是沿宽度方向X延伸的线状的光源。

区域传感器22配置在膜110的一方的主面侧，沿宽度方向X排列。 区域传感器22包括CCD(Charge Coupled Device)或者CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor)22a与透镜22b。区域传感 器22通过接受透过膜110后的光而在时间上连续地将膜110的拍摄区域R 拍摄为二维图像。

优选各区域传感器22所拍摄的二维图像的搬运方向Y的长度为，在 从各区域传感器22获取二维图像到获取下一个二维图像的期间膜110被 搬运的搬运距离的至少2倍以上。换句话说，优选对膜110的同一区域拍 摄2次以上。这样，通过使二维图像的搬运方向Y的长度比图像获取期间 的搬运距离大，增加膜110的同一部分的拍摄次数，从而能够高精度地检 查缺陷。

在此，拍摄区域R包括在搬运方向Y上被分割出的第一拍摄区域R1 以及第二拍摄区域R2。另外，拍摄区域R包括第一拍摄区域R1与第二拍 摄区域R2之间的中间拍摄区域R0。

第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110之间。具体地说，第一 偏振滤波器23₁配置在光源21与拍摄区域R的第一拍摄区域R1之间。在 本实施方式中，第一偏振滤波器23₁配置为，从区域传感器22观察时， 搬运方向Y上的拍摄区域R的一半被遮挡(日文：ナイフエッジ)。另外， 第一偏振滤波器23₁与膜110形成正交偏振状态。在此，正交偏振状态指 的是，偏振滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴) 实质上正交的状态，即，偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴以实质上90 度的角度交叉的状态。上述“实质上90度”指的是，例如85度以上且小于 95度，更优选为90度。

由此，能够在第一拍摄区域R1拍摄正交偏振透射检查用图像，在第 二拍摄区域R2拍摄正透射检查用图像，在中间拍摄区域R0拍摄透射散射 检查用图像。

图像分析部30根据来自区域传感器22的二维图像而检测膜110中存 在的缺陷。另外，图像分析部30根据二维图像的像素坐标、在图像拍摄 期间膜被搬运的距离，将二维图像上的坐标位置转换为膜110上的坐标位 置，生成缺陷位置信息。图像分析部30根据缺陷位置信息而合成与膜110 的整个区域相对应的图像，制作缺陷映射图。

标记装置40根据来自图像分析部30的缺陷映射图而在膜上进行标 记。

接下来，对本实用新型的第一实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成正交偏振状态的方式配 置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第一偏振滤波器配置工 序)。

接下来，利用搬运机构，相对于光源21、区域传感器22以及第一偏 振滤波器23₁相对地沿搬运方向Y搬运膜110(搬运工序)，利用光源21 向膜110的拍摄区域R照射光(光照射工序)，利用区域传感器22将膜110 的拍摄区域R拍摄为二维图像(拍摄工序)。

接下来，利用图像分析部30，根据来自区域传感器22的二维图像检 测膜110中存在的缺陷，并且根据缺陷位置信息制作缺陷映射图(缺陷检 测工序)。接下来，利用标记装置40，根据来自图像分析部30的缺陷映射 图在膜110上进行标记(标记工序)。

根据该第一实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查 用拍摄方法，由于第一偏振滤波器23₁以与膜110形成正交偏振状态的方 式配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域R1之间，区域传感器(拍 摄机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2以及中间拍摄区域 R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄第一拍摄区域R1 的正交偏振透射检查用图像、第二拍摄区域R2的正透射检查用图像、以 及中间拍摄区域R0的透射散射检查用图像。即，能够整合正交偏振透射 检查用拍摄系列、正透射检查用拍摄系列、以及透射散射检查用拍摄系列。

其结果是，根据第一实施方式的缺陷检查系统10以及缺陷检查方法， 能够整合正交偏振透射检查系列、正透射检查系列、以及透射散射检查系 列。

因此，根据第一实施方式的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄 方法、缺陷检查系统10、以及缺陷检查方法，能够削减检查系列数。

[第二实施方式]

本实用新型的第二实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10以 及缺陷检查方法。

本实用新型的第二实施方式所涉及的缺陷检查系统10A与第一实施 方式的不同之处在于，在图2所示的缺陷检查系统10中，代替缺陷检查 用拍摄装置20而具备缺陷检查用拍摄装置20A。另外，图4所示的缺陷 检查用拍摄装置20A与第一实施方式的不同之处在于，在图3所示的缺陷 检查用拍摄装置20中还具备衰减滤波器(亮度调节机构)26。

衰减滤波器26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，衰减 滤波器26能够降低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。衰减滤波器 26也可以配置在第二拍摄区域R2与区域传感器22之间，降低透过第二 拍摄区域R2的光的亮度。

接下来，对本实用新型的第二实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，进行上述的第一偏振滤波器配置工序。接下来，将衰减滤波器 26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，能够降低照射至第二 拍摄区域R2的光的亮度值(亮度调节工序)。衰减滤波器26也可以配置 在第二拍摄区域R2与区域传感器22之间，降低透过第二拍摄区域R2的 光的亮度。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第二实施方式的缺陷检查用拍摄装置20A、缺陷检查用拍摄方 法、缺陷检查系统10A、以及缺陷检查方法，也能够获得与第一实施方式 的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10、以 及缺陷检查方法同样的优点。

然而，在正交偏振透射检查用拍摄系列与正透射检查用拍摄系列中， 适当的光的亮度值不同。更具体地说，正交偏振透射检查用拍摄系列的适 当的光的亮度值较大，正透射检查用拍摄系列的适当的光的亮度值较小。

关于这一点，根据该第二实施方式的缺陷检查用拍摄装置20A以及缺 陷检查用拍摄方法，由于能够利用衰减滤波器(亮度调节机构)26调节照 射至第二拍摄区域R2的光的亮度值，因此，例如通过从光源(光照射机 构)21输出较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振透射检查用 拍摄系列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利 用衰减滤波器(亮度调节机构)26使朝向用于进行正透射检查用拍摄系列 的第二拍摄区域R2照射的光的亮度值较小。如前述那样，即便将衰减滤 波器26配置在第二拍摄区域R2与区域传感器22之间，调节透过第二拍 摄区域R2后的光的亮度值，也能够期待同样的效果。

以下，进行上述效果的验证。在图21的(a)中示出在正交偏振透射 法以及正透射法中改变光源光量时的各种缺陷(黑异物、较弱的亮点、较 强的亮点)的检测图像。另外，在图21的(b)中示出将基于图21的(a) 的正交偏振透射法得到的检测图像的缺陷信号图表化的图，在图21的(c) 中示出将基于图21的(a)的正透射法得到的检测图像的缺陷信号图表化 的图。需要说明的是，光源光量示出为以图像上的亮度值为128时的光源 光量(正透射中的最佳的光量)为基准的1倍～40倍。

根据图21的(a)以及图21的(c)，在正透射法中，光源光量优选 为1倍左右，若将光源光量设为2倍以上，则图像上的亮度过高，图像整 体变白。另一方面，根据图21的(a)以及图21的(b)可知，在正交偏 振透射法中，在光源光量为1倍左右的情况下，画面上的亮度过低，无法 识别缺陷，光源光量优选为20倍以上，更优选为40倍以上。

在上述的验证中，通过调节向拍摄区域照射的光源的光量来调节图像 上的亮度值，但作为亮度调节方法，如前述那样通过使用衰减滤波器的方 法也能够实现同样的效果。

[第三实施方式]

本实用新型的第三实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10以 及缺陷检查方法。

本实用新型的第三实施方式所涉及的缺陷检查系统10B与第一实施 方式的不同之处在于，在图2所示的缺陷检查系统10中，代替缺陷检查 用拍摄装置20而具备缺陷检查用拍摄装置20B。另外，图5所示的缺陷 检查用拍摄装置20B与第一实施方式的不同之处在于，在图3所示的缺陷 检查用拍摄装置20中，代替光源21而具备光源21A。

光源21A具有单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第 二拍摄区域R2照射的光的亮度值的亮度调节功能。由此，能够使照射至 第一拍摄区域R1的光的亮度值较大，使照射至第二拍摄区域R2的光的亮 度值较小。

接下来，对本实用新型的第三实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，进行上述的第一偏振滤波器配置工序。接下来，利用光源21A 单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第二拍摄区域R2照射 的光的亮度值。由此，能够使照射至第一拍摄区域R1的光的亮度值较大， 使照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值较小(亮度调节工序)。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第三实施方式的缺陷检查用拍摄装置20B、缺陷检查用拍摄方 法、缺陷检查系统10B、以及缺陷检查方法，也能够获得与第一实施方式 的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10、以 及缺陷检查方法同样的优点。

另外，根据该第三实施方式的缺陷检查用拍摄装置20B以及缺陷检查 用拍摄方法，由于能够利用光源21A单独调节向第一拍摄区域R1照射的 光的亮度值和向第二拍摄区域R2照射的光的亮度值，因此能够使朝向用 于进行正交偏振透射检查用拍摄系列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度 值较大，另一方面，能够使朝向用于进行正透射检查用拍摄系列的第二拍 摄区域R2照射的光的亮度值较小。

[第四实施方式]

本实用新型的第四实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检查 的缺陷检查系统以及缺陷检查方法。第四实施方式所涉及的缺陷检查系统 以及缺陷检查方法能够应用于不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜 等的制造装置以及制造方法。在不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离 膜等的制造装置以及制造方法中，除第四实施方式中进行说明的缺陷检查 系统以及缺陷检查方法以外的内容是公知的，因此如前述那样省略说明。 对于与进行不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检查的缺 陷检查系统以及缺陷检查方法相关的其他实施方式以及变形例，基于同样 的观点，省略对不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的制造装置 以及制造方法的说明。在第四实施方式中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本实用新型的第四实施方式所涉及的缺陷检查系统10C与第一实施 方式的不同之处在于，在图2所示的缺陷检查系统10中，代替缺陷检查 用拍摄装置20而具备缺陷检查用拍摄装置20C。另外，图6所示的缺陷 检查用拍摄装置20C与第一实施方式的不同之处在于，在图3所示的缺陷 检查用拍摄装置20中，代替第一偏振滤波器23₁而具备一对第一偏振滤 波器23₁、24₁。

第一偏振滤波器23₁与第一实施方式同样地配置在光源21与膜110 之间。具体地说，第一偏振滤波器23₁配置在光源21与拍摄区域R的第 一拍摄区域R1之间。在本实施方式中，第一偏振滤波器23₁配置为，从 区域传感器22观察时，搬运方向Y上的拍摄区域R的一半被遮挡。

另一方面，第一偏振滤波器24₁配置在膜110与区域传感器22之间。 具体地说，第一偏振滤波器24₁配置在拍摄区域R的第一拍摄区域R1与 区域传感器22之间。在本实施方式中，第一偏振滤波器24₁配置为，从 区域传感器22观察时，搬运方向Y上的拍摄区域R的一半被遮挡。

另外，第一偏振滤波器23₁与第一偏振滤波器24₁形成正交偏振状态。 由此，能够在第一拍摄区域R1拍摄正交偏振透射检查用图像，在第二拍 摄区域R2拍摄正透射检查用图像，在中间拍摄区域R0拍摄透射散射检查 用图像。

接下来，对本实用新型的第四实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110的第一拍摄区 域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍摄区域R1与区 域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一偏振滤波器24₁配置为形成正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工序)。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第四实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置20C以及缺陷检 查用拍摄方法，由于一对第一偏振滤波器23₁、24₁以形成正交偏振状态 的方式分别配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域R1之间、以及 第一拍摄区域R1与区域传感器(拍摄机构)22之间，区域传感器(拍摄 机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2以及中间拍摄区域 R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄第一拍摄区域R1 的正交偏振透射检查用图像、第二拍摄区域R2的正透射检查用图像、中 间拍摄区域R0的透射散射检查用图像。即，能够整合正交偏振透射检查 用拍摄系列、正透射检查用拍摄系列、以及透射散射检查用拍摄系列。

其结果是，根据第四实施方式的缺陷检查系统10C以及缺陷检查方 法，能够整合正交偏振透射检查系列、正透射检查系列、以及透射散射检 查系列。

因此，根据第四实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍 摄方法、缺陷检查系统10C、以及缺陷检查方法，能够削减检查系列数。

[第五实施方式]

本实用新型的第五实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检查 的缺陷检查系统以及缺陷检查方法。在第五实施方式中，膜110是不具有 偏振特性的膜。

本实用新型的第五实施方式所涉及的缺陷检查系统10D与第四实施 方式的不同之处在于，在图2所示的缺陷检查系统10C中，代替缺陷检查 用拍摄装置20C而具备缺陷检查用拍摄装置20D。另外，图7所示的缺陷 检查用拍摄装置20D与第四实施方式的不同之处在于，在图6所示的缺陷 检查用拍摄装置20C中还具备衰减滤波器(亮度调节机构)26。

衰减滤波器26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，衰减 滤波器26能够降低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。衰减滤波器 26也可以配置在第二拍摄区域R2与区域传感器(拍摄机构)22之间，降 低透过第二拍摄区域R2的光的亮度。

接下来，对本实用新型的第五实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，进行上述的第一偏振滤波器配置工序。接下来，将衰减滤波器 26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，能够降低照射至第二 拍摄区域R2的光的亮度值(亮度调节工序)。衰减滤波器26也可以配置 在第二拍摄区域R2与区域传感器(拍摄机构)22之间，降低透过第二拍 摄区域R2的光的亮度。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第五实施方式的缺陷检查用拍摄装置20D、缺陷检查用拍摄方 法、缺陷检查系统10D、以及缺陷检查方法，也能够获得与第四实施方式 的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10C、 以及缺陷检查方法同样的优点。

另外，根据该第五实施方式的缺陷检查用拍摄装置20D以及缺陷检查 用拍摄方法，由于能够利用衰减滤波器(亮度调节机构)26调节照射至第 二拍摄区域R2的光的亮度值，因此，例如通过从光源(光照射机构)21 输出较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振透射检查用拍摄系 列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利用衰减 滤波器(亮度调节机构)26使朝向用于进行正透射检查用拍摄系列的第二 拍摄区域R2照射的光的亮度值较小。另外，即便将衰减滤波器26配置在 第二拍摄区域R2与区域传感器(拍摄机构)22之间，调节透过第二拍摄 区域R2后的光的亮度值，也能够实现同样的效果。

[第六实施方式]

本实用新型的第六实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检查 的缺陷检查系统以及缺陷检查方法。在第六实施方式中，膜110是不具有 偏振特性的膜。

本实用新型的第六实施方式所涉及的缺陷检查系统10E与第四实施 方式的不同之处在于，在图2所示的缺陷检查系统10C中，代替缺陷检查 用拍摄装置20C而具备缺陷检查用拍摄装置20E。另外，图8所示的缺陷 检查用拍摄装置20E与第四实施方式的不同之处在于，在图6所示的缺陷 检查用拍摄装置20C中，代替光源21而具备光源21A。

光源21A具有单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第 二拍摄区域R2照射的光的亮度值的亮度调节功能。由此，能够使照射至 第一拍摄区域R1的光的亮度值较大，使照射至第二拍摄区域R2的光的亮 度值较小。

接下来，对本实用新型的第六实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，进行上述的第一偏振滤波器配置工序。接下来，利用光源21A 单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第二拍摄区域R2照射 的光的亮度值。由此，能够使照射至第一拍摄区域R1的光的亮度值较大， 使照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值较小(亮度调节工序)。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第六实施方式的缺陷检查用拍摄装置20E、缺陷检查用拍摄方 法、缺陷检查系统10E、以及缺陷检查方法，也能够获得与第四实施方式 的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10C、 以及缺陷检查方法同样的优点。

另外，根据该第六实施方式的缺陷检查用拍摄装置20E以及缺陷检查 用拍摄方法，由于能够利用光源21A单独调节向第一拍摄区域R1照射的 光的亮度值和向第二拍摄区域R2照射的光的亮度值，因此能够使朝向用 于进行正交偏振透射检查用拍摄系列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度 值较大，另一方面，能够使朝向用于进行正透射检查用拍摄系列的第二拍 摄区域R2照射的光的亮度值较小。

需要说明的是，本实用新型不限于上述的本实施方式，能够进行各种 变形。例如，在第一、第二以及第三实施方式中，例示了利用了透射法的 缺陷检查用拍摄装置20、20A、20B以及缺陷检查用拍摄方法，但本实用 新型的特征也能够应用于如图9、图10以及图11所示那样利用了反射法 的缺陷检查用拍摄装置20、20A、20B以及缺陷检查用拍摄方法。

根据图9、图10以及图11所示的缺陷检查用拍摄装置20、20A、20B 以及缺陷检查用拍摄方法，由于第一偏振滤波器23₁以与膜110形成正交 偏振状态的方式配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域R1之间， 区域传感器(拍摄机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2 以及中间拍摄区域R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄 第一拍摄区域R1的正交偏振反射检查用图像、第二拍摄区域R2的正反射 检查用图像、以及中间拍摄区域R0的反射散射检查用图像。即，能够整 合正交偏振反射检查用拍摄系列、正反射检查用拍摄系列、以及反射散射 检查用拍摄系列。其结果是，在缺陷检查系统10、10A、10B以及缺陷检 查方法中，能够整合正交偏振反射检查系列、正反射检查系列、以及反射 散射检查系列，从而能够削减检查系列数。

然而，在正交偏振反射检查用拍摄系列与正反射检查用拍摄系列中， 适当的光的亮度值不同。更具体地说，正交偏振反射检查用拍摄系列的适 当的光的亮度值较大，正反射检查用拍摄系列的适当的光的亮度值较小。

关于这一点，根据图10以及图11所示的缺陷检查用拍摄装置20A、 20B以及缺陷检查用拍摄方法，由于能够利用衰减滤波器(亮度调节机构) 26以及光源(亮度调节机构)21A调节照射至第二拍摄区域R2的光的亮 度值，因此，例如通过从光源(光照射机构)21以及光源(光照射机构) 21A输出较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振反射检查用拍 摄系列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利用 衰减滤波器(亮度调节机构)26以及光源(亮度调节机构)21A使朝向用 于进行正反射检查用拍摄系列的第二拍摄区域R2照射的光的亮度值较 小。在利用衰减滤波器(亮度调节机构)26的情况下(例如图10中例示 的方式)，也可以将衰减滤波器26配置在第二拍摄区域R2与区域传感器 (拍摄机构)22之间，在第二拍摄区域R2中调节反射光的亮度值。

同样地，在第四、第五以及第六实施方式中，例示了利用透射法的缺 陷检查用拍摄装置20C、20D、20E以及缺陷检查用拍摄方法，但本实用 新型的特征也能够应用于如图12、图13以及图14所示那样利用反射法的 缺陷检查用拍摄装置20C、20D、20E以及缺陷检查用拍摄方法。

根据图12、图13以及图14所示的缺陷检查用拍摄装置20C、20D、 20E以及缺陷检查用拍摄方法，由于一对第一偏振滤波器23₁、24₁以形成 正交偏振状态的方式分别配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域 R1之间、以及第一拍摄区域R1与区域传感器(拍摄机构)22之间，区域 传感器(拍摄机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2以及中 间拍摄区域R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄第一拍 摄区域R1的正交偏振反射检查用图像、第二拍摄区域R2的正反射检查用 图像、中间拍摄区域R0的反射散射检查用图像。即，能够整合正交偏振 反射检查用拍摄系列、正反射检查用拍摄系列、以及反射散射检查用拍摄 系列。其结果是，在缺陷检查系统10C、10D、10E以及缺陷检查方法中， 能够整合正交偏振反射检查系列、正反射检查系列、以及反射散射检查系 列，从而能够削减检查系列数。

另外，根据图13以及图14所示的缺陷检查用拍摄装置20D、20E以 及缺陷检查用拍摄方法，能够利用衰减滤波器(亮度调节机构)26以及光 源(亮度调节机构)21A调节照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值，因 此，例如通过从光源(光照射机构)21以及光源(光照射机构)21A输出 较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振反射检查用拍摄系列的 第一拍摄区域R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利用衰减滤波 器(亮度调节机构)26以及光源(亮度调节机构)21A使朝向用于进行正 反射检查用拍摄系列的第二拍摄区域R2照射的光的亮度值较小。在利用 衰减滤波器(亮度调节机构)26的情况下(例如图13中例示的方式)，也 可以将衰减滤波器26配置在第二拍摄区域R2与区域传感器(拍摄机构) 22之间，在第二拍摄区域R2中调节反射光的亮度值。

另外，在第一、第二以及第三实施方式、以及图9、图10以及图11 所示的方式中，例示了第一偏振滤波器23₁设置在光源(光照射机构)21 与膜110的第一拍摄区域R1之间的方式，但也可以采用如图15、图16、 图17、图18、图19以及图20所示那样第一偏振滤波器23₁配置在膜110 的第一拍摄区域R1与区域传感器(拍摄机构)22之间的方式。

[第七实施方式]

本实用新型的第七实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10以 及缺陷检查方法。图22是示出本实用新型的第七实施方式所涉及的缺陷 检查系统以及缺陷检查方法的图，图23是示出本实用新型的第七实施方 式所涉及的缺陷检查用拍摄装置以及缺陷检查用拍摄方法的图。

图22所示的缺陷检查系统10具备缺陷检查用拍摄装置20、图像分析 部(检测部)30以及标记装置40，图23所示的缺陷检查用拍摄装置20 具备光源(光照射机构)21、多个区域传感器(拍摄机构)22、第一偏振 滤波器23₁以及第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁。在图 22以及图23中示出了XYZ正交坐标，X方向表示偏振膜的宽度方向，Y 方向表示偏振膜的搬运方向。

在本实施方式中，主要是图1所示的搬运辊106以及原料辊103作为 搬运机构而发挥功能。利用这些搬运机构，沿搬运方向Y相对于光源21、 区域传感器22以及第一偏振滤波器23₁相对地搬运膜110。

光源21设置在膜110的另一方的主面侧，向膜110的拍摄区域R照 射光。例如，光源21是沿宽度方向X延伸的线状的光源。

区域传感器22配置在膜110的一方的主面侧，沿宽度方向X排列。 区域传感器22包括CCD(Charge Coupled Device)或者CMOS (Complementary Metal-Oxide Semiconductor)22a与透镜22b。区域传感 器22通过接受透过膜110的光而在时间上连续地将膜110的拍摄区域R 拍摄为二维图像。

优选各区域传感器22所拍摄的二维图像的搬运方向Y的长度为，在 从各区域传感器22获取二维图像到获取下一个二维图像的期间膜110被 搬运的搬运距离的至少2倍以上。换句话说，优选对膜110的同一区域拍 摄2次以上。这样，通过使二维图像的搬运方向Y的长度比图像获取期间 的搬运距离大，增加膜110的同一部分的拍摄次数，从而能够高精度地检 查缺陷。

在此，拍摄区域R包括在搬运方向Y上被分割出的第一拍摄区域R1 以及第二拍摄区域R2。另外，拍摄区域R包括第一拍摄区域R1与第二拍 摄区域R2之间的中间拍摄区域R0。

第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110之间。具体地说，第一 偏振滤波器23₁配置在光源21与拍摄区域R的第一拍摄区域R1之间。在 本实施方式中，第一偏振滤波器23₁配置为，从区域传感器22观察时， 搬运方向Y上的拍摄区域R的一半被遮挡。另外，第一偏振滤波器23₁与膜110形成正交偏振状态。在此，正交偏振状态指的是，偏振滤波器的 偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)实质上正交的状态， 即，偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴以实质上90度的角度交叉的状态。 上述“实质上90度”指的是，例如85度以上且小于95度，更优选为90度。

第一偏振滤波器23₁与膜110形成正交偏振状态即可，第一偏振滤波 器23₁也可以配置在第一拍摄区域R1与区域传感器22之间。

第一亮度调节用偏振滤波器25₁以与膜110形成第一非正交偏振(half crossed nicol)状态的方式配置在光源21与第一偏振滤波器23₁之间、以 及光源21与第二拍摄区域R2之间。在此，非正交偏振状态指的是，偏振 滤波器的偏振轴(偏振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)不实质上正 交而是交叉的状态，即，偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴以实质上90 度以外的角度交叉的状态。非正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴(偏 振吸收轴)与膜的偏振轴(偏振吸收轴)的角度根据拍摄机构的拍摄对象 即膜的透射率以及从光源出射的光的亮度值等而有所不同，例如是利用区 域传感器22透过拍摄区域R的规定的区域(在图23的例子中为第二拍摄 区域R2)拍摄时的图像上的亮度值为200以下的角度，优选为图像上的 亮度值为130以下的角度。例如后述那样，第一亮度调节用偏振滤波器25₁的偏振轴与膜110的偏振轴的交叉角度为75度以上且小于85度、或者为95度以上且105度以下。由此，第一亮度调节用偏振滤波器25₁能够降低 照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。在本说明书中，“亮度值”是8位 灰度图像上的各像素所具有的值。

另外，第一亮度调节用偏振滤波器25₁可以仅配置在光源21与第二 拍摄区域R2之间，调节所照射的光的亮度，也可以配置在膜110与区域 传感器22之间，调节透过第二拍摄区域R2的光的亮度。

由此，能够在第一拍摄区域R1拍摄正交偏振透射检查用图像，在第 二拍摄区域R2拍摄非正交偏振(第一非正交偏振)透射检查用图像，在 中间拍摄区域R0拍摄透射散射检查用图像。

图像分析部30根据来自区域传感器22的二维图像而检测膜110中存 在的缺陷。另外，图像分析部30根据二维图像的像素坐标以及在图像拍 摄期间膜被搬运的距离，将二维图像上的坐标位置转换为膜110上的坐标 位置，生成缺陷位置信息。图像分析部30根据缺陷位置信息合成与膜110 的整个区域相对应的图像，制作缺陷映射图。

标记装置40根据来自图像分析部30的缺陷映射图，在膜上进行标记。

接下来，对本实用新型的第七实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成正交偏振状态的方式配 置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第一偏振滤波器配置工 序)。也可以将第一偏振滤波器23₁配置在第一拍摄区域R1与区域传感器 22之间。接下来，将第一亮度调节用偏振滤波器25₁以与膜110形成第一 非正交偏振状态的方式配置在光源21与第一偏振滤波器23₁之间、以及 光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，能够降低照射至第二拍摄区域 R2的光的亮度值(亮度调节工序)。可以将第一亮度调节用偏振滤波器25₁仅配置在光源21与第二拍摄区域R2之间，也可以配置在膜110与区域传 感器22之间。

接下来，利用搬运机构，相对于光源21、区域传感器22以及第一偏 振滤波器23₁相对地沿搬运方向Y搬运膜110(搬运工序)，利用光源21 向膜110的拍摄区域R照射光(光照射工序)，利用区域传感器22将膜110 的拍摄区域R拍摄为二维图像(拍摄工序)。

接下来，利用图像分析部30，根据来自区域传感器22的二维图像而 检测膜110中存在的缺陷，并且根据缺陷位置信息制作缺陷映射图(缺陷 检测工序)。接下来，利用标记装置40，根据来自图像分析部30的缺陷映 射图在膜110上进行标记(标记工序)。

根据该第一实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查 用拍摄方法，由于第一偏振滤波器23₁以与膜110形成正交偏振状态的方 式配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域R1之间，区域传感器(拍 摄机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2以及中间拍摄区域 R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄第一拍摄区域R1 的正交偏振透射检查用图像、第二拍摄区域R2的非正交偏振(第一非正 交偏振)透射检查用图像、以及中间拍摄区域R0的透射散射检查用图像。 即，能够整合正交偏振透射检查用拍摄系列、非正交偏振透射检查用拍摄 系列、以及透射散射检查用拍摄系列。

其结果是，根据第七实施方式的缺陷检查系统10以及缺陷检查方法， 能够整合正交偏振透射检查系列、非正交偏振透射检查系列、以及透射散 射检查系列。

因此，根据第七实施方式的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄 方法、缺陷检查系统10、以及缺陷检查方法，能够削减检查系列数。

根据第七实施方式的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查用拍摄方 法，能够利用第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁调节照射 至第二拍摄区域R2的光的亮度值。因此，例如通过从光源(光照射机构) 21输出较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振透射检查用拍摄 系列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利用第 一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁使朝向用于进行非正交偏 振(第一非正交偏振)透射检查用拍摄系列的第二拍摄区域R2照射的光 的亮度值较小。

然而，本申请的发明人们发现，正透射法适于黑异物的检测，正交偏 振透射法适于亮点的检测，但正交偏振透射法难以检测与较强的亮点相比 稍弱的亮点。关于这一点，本申请的发明人们发现了在正交偏振透射法难 以检测的黑异物、稍弱的亮点的检测中利用非正交透射法。

关于这一点，根据第七实施方式的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷 检查用拍摄方法，由于第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁与膜110的第二拍摄区域R2形成第一非正交偏振状态，因此能够改善黑 异物以及较弱的亮点(包括上述稍弱的亮点)的检测。在本说明书中，以 下，较弱的亮点包括上述“稍弱的亮点”的概念。

以下，进行上述效果的验证。在图45的(a)中示出光源光量40倍 时的、改变偏振滤波器相对于膜的交叉角度时的各种缺陷(黑异物、较弱 的亮点、较强的亮点)的检测图像，在图45的(b)中示出将图45的(a) 的检测图像的亮度值图表化的图。同样地，在图45的(c)中示出将光源 光量20倍时的、改变偏振滤波器相对于膜的交叉角度时的各种缺陷(黑 异物、较弱的亮点、较强的亮点)的检测图像的亮度值图表化的图，在图 45的(d)中示出将光源光量10倍时的、改变偏振滤波器相对于膜的交叉 角度时的各种缺陷(黑异物、较弱的亮点、较强的亮点)的检测图像的亮 度值图表化的图。需要说明的是，对于光源光量40倍、20倍、10倍而言， 将图像上的亮度值为128时的光源光量(正透射中最佳的光量)作为1倍 而示出。

根据图45的(a)、(b)可知，在光源光量为40倍的情况下，对于较 强的亮点的缺陷的检测，交叉角度实质上为90度，即正交偏振透射法适 宜，对于较弱的亮点的缺陷的检测，交叉角度为105度，即非正交偏振透 射法适宜。需要说明的是，在交叉角度为70度以下以及110度以上的情 况下，图像上的亮度过高，图像整体变白。另外，对于黑异物的缺陷的检 测，可知正透射法适宜，但对于在正透射法中将偏振滤波器用作亮度调节 的情况，可知交叉角度为75度以上且小于85度、或者95度以上且105 度以下，即非正交偏振透射法适宜。

另外，根据图45的(b)、(c)、(d)可知，根据光源光量的不同，对 于较弱的亮点的缺陷的检测以及黑异物的缺陷的检测，非正交偏振透射法 中的最佳的交叉角度不同。

由此，对于在正透射法中将偏振滤波器用作亮度调节的情况，即利用 非正交偏振透射法的情况，有利于交叉角度实质上为90度以外时缺陷信 号变高的缺陷，例如较弱的亮点、黑异物的检测。

另外，能够综合考虑两个交叉角度下的检查，判断缺陷等级的强弱。 例如，也可以在利用交叉角度实质上为90度的正交偏振透射法以及交叉 角度为75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下的非正交偏 振透射法这两方确认到缺陷信号的情况下，换言之在较大的角度范围内确 认到缺陷信号的情况下，判断为缺陷等级强，在仅通过交叉角度实质上为 90度的正交偏振透射法确认到缺陷信号的情况下，判断为缺陷等级弱。

在上述的验证中，将偏振滤波器配置在光源与拍摄区域之间，调节照 射至拍摄区域的光的亮度，但通过利用偏振滤波器的非正交透射法对透过 拍摄区域的光进行亮度调节，也能够实现同样的效果。

[第七实施方式的变形例]

在第七实施方式中，例示了将正交偏振透射法与非正交偏振透射法组 合的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将正交 偏振透射法与两个以上不同的非正交偏振透射法组合。以下，作为第七实 施方式的变形例，例示将正交偏振透射法与两个不同的非正交偏振透射法 组合的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查用拍摄方法。

图39所示的变形例的缺陷检查用拍摄装置20与第七实施方式的不同 之处在于，在图23所示的缺陷检查用拍摄装置20中还具备第二亮度调节 用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂。

在此，拍摄区域R还包括在搬运方向Y上被分割出的第三拍摄区域 R3，该第三拍摄区域R3与第二拍摄区域R2邻接。

第二亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂以与第一亮度调节 用偏振滤波器25₁邻接且与膜110形成第二非正交偏振状态的方式，配置 在光源21与第三拍摄区域R3之间。在此，第二非正交偏振状态与第一非 正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴与 膜的偏振轴的交叉角度和第一非正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴 与膜的偏振轴的交叉角度不同。由此，第二亮度调节用偏振滤波器25₂能 够降低照射至第三拍摄区域R3的光的亮度值。第二亮度调节用偏振滤波 器25₂与膜110形成第二非正交偏振状态即可，也可以在第三拍摄区域R3 与区域传感器22之间，调节透过第三拍摄区域R3的光的亮度值。

接下来，对第七实施方式的变形例的缺陷检查方法以及缺陷检查用拍 摄方法进行说明。

首先，进行上述的第一偏振滤波器配置工序。接下来，如上述那样， 将第一亮度调节用偏振滤波器25₁以与膜110形成第一非正交偏振状态的 方式配置在光源21与第一偏振滤波器23₁之间、以及光源21与第二拍摄 区域R2之间。接下来，将第二亮度调节用偏振滤波器25₂以与膜110形 成第二非正交偏振状态的方式配置在光源21与第三拍摄区域R3之间。由 此，能够降低照射至第二拍摄区域R2以及第三拍摄区域R3的光的亮度值 (亮度调节工序)。也可以将第二亮度调节用偏振滤波器25₂配置在第三 拍摄区域R3与区域传感器22之间。接下来，进行上述的搬运工序、光照 射工序、拍摄工序、缺陷检测工序、标记工序。

根据该第七实施方式的变形例的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用 拍摄方法、缺陷检查系统10、以及缺陷检查方法，也能够获得与第七实施 方式的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10、 以及缺陷检查方法同样的优点。

[第八实施方式]

本实用新型的第八实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10A以 及缺陷检查方法。

本实用新型的第八实施方式所涉及的缺陷检查系统10A与第七实施 方式的不同之处在于，在图22所示的缺陷检查系统10中，代替缺陷检查 用拍摄装置20而具备缺陷检查用拍摄装置20A。另外，图24所示的缺陷 检查用拍摄装置20A与第七实施方式的不同之处在于，在图23所示的缺 陷检查用拍摄装置20中，代替第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机 构)25₁而具备衰减滤波器(亮度调节机构)26。另外，缺陷检查用拍摄 装置20A与第七实施方式的不同之处在于，在缺陷检查用拍摄装置20中， 第一偏振滤波器23₁的偏振轴相对于膜110的偏振轴(偏振吸收轴)的交 叉角度不同。

第一偏振滤波器23₁与膜110的第一拍摄区域R1形成第一非正交偏 振状态。例如后述那样，第一偏振滤波器23₁的偏振轴与膜110的偏振轴 的交叉角度为75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。另 外，第一偏振滤波器23₁与膜110的第一拍摄区域R1形成第一非正交偏 振状态即可，第一偏振滤波器23₁也可以配置在第一拍摄区域R1与区域 传感器22之间(参照图35)。

衰减滤波器26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，衰减 滤波器26能够降低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。另外，衰减滤 波器26也可以配置在第二拍摄区域R2与区域传感器22之间，降低透过 第二拍摄区域R2的光的亮度值。

接下来，对本实用新型的第八实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成第一非正交偏振状态的 方式配置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第一偏振滤波器配 置工序)。也可以将第一偏振滤波器23₁配置在第一拍摄区域R1与区域传 感器22之间。接下来，将衰减滤波器26配置在光源21与第二拍摄区域 R2之间。由此，能够降低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值(亮度调 节工序)。也可以将衰减滤波器26配置在第二拍摄区域R2与区域传感器 22之间。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第八实施方式的缺陷检查用拍摄装置20A、缺陷检查用拍摄方 法、缺陷检查系统10A、以及缺陷检查方法，也能够获得与第七实施方式 的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10、以 及缺陷检查方法同样的优点。

[第八实施方式的第一变形例]

在第八实施方式中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20A以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将两个以上不 同的非正交偏振透射法与正透射法组合。以下，作为第八实施方式的第一 变形例，例示将两个不同的非正交偏振透射法与正透射法组合的缺陷检查 用拍摄装置20A以及缺陷检查用拍摄方法。

图40所示的第一变形例的缺陷检查用拍摄装置20A与第七实施方式 的不同之处在于，在图24所示的缺陷检查用拍摄装置20A中还具备第二 偏振滤波器23₂。

在此，拍摄区域R还包括在搬运方向Y上被分割出的第三拍摄区域 R3，该第三拍摄区域R3与第一拍摄区域R1邻接。

第二偏振滤波器23₂以与第一偏振滤波器23₁邻接且与膜110形成第 二非正交偏振状态的方式配置在光源21与第三拍摄区域R3之间。在此， 第二非正交偏振状态与第一非正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状 态下的偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴的交叉角度和第一非正交偏振 状态下的偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴的交叉角度不同。第二偏振滤 波器23₂配置为与第三拍摄区域R3形成第二非正交偏振状态即可，也可 以相对于第一偏振滤波器23₁独立地配置在第三拍摄区域R3与区域传感 器22之间。

接下来，对第八实施方式的第一变形例的缺陷检查方法以及缺陷检查 用拍摄方法进行说明。

首先，如上述那样，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成第一非正 交偏振状态的方式配置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第一 偏振滤波器配置工序)。接下来，将第二偏振滤波器23₂以与膜110形成 第二非正交偏振状态的方式配置在光源21与膜110的第三拍摄区域R3之 间(第二偏振滤波器配置工序)。也可以将第二偏振滤波器23₂相对于第 一偏振滤波器23₁独立地配置在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间。 接下来，进行上述的亮度调节工序、搬运工序、光照射工序、拍摄工序、 缺陷检测工序、标记工序。

根据该第八实施方式的第一变形例的缺陷检查用拍摄装置20A、缺陷 检查用拍摄方法、缺陷检查系统10A、以及缺陷检查方法，也能够获得与 第七实施方式的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查 系统10、以及缺陷检查方法同样的优点。

[第八实施方式的第二变形例]

在第八实施方式中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20A以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将两个以上不 同的非正交偏振透射法组合。以下，作为第八实施方式的第二变形例，例 示将两个不同的非正交偏振透射法组合的缺陷检查用拍摄装置20A以及 缺陷检查用拍摄方法。

第二变形例的缺陷检查用拍摄装置20A与第八实施方式的不同之处 在于，在图24所示的缺陷检查用拍摄装置20A中，代替衰减滤波器(亮 度调节机构)26而具备第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁。

第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁以与膜110形成第 二非正交偏振状态的方式配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。在此， 第二非正交偏振状态与第一非正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状 态下的偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴的交叉角度和第一非正交偏振 状态下的偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴的交叉角度不同。由此，第一 亮度调节用偏振滤波器25₁能够降低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度 值。

第一亮度调节用偏振滤波器25₁与膜110形成第二非正交偏振状态即 可，第一亮度调节用偏振滤波器25₁也可以配置在第二拍摄区域R2与区 域传感器22之间，调节透过第二拍摄区域R2的光的亮度值。

接下来，对第八实施方式的第二变形例的缺陷检查方法以及缺陷检查 用拍摄方法进行说明。

首先，如上述那样，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成第一非正 交偏振状态的方式配置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第一 偏振滤波器配置工序)。接下来，将第一亮度调节用偏振滤波器25₁以与 膜110形成第二非正交偏振状态的方式，配置在光源21与第一偏振滤波 器23₁之间、以及光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，能够降低照射 至第二拍摄区域R2的光的亮度值(亮度调节工序)。也可以将第一亮度调 节用偏振滤波器25₁配置在第二拍摄区域R2与区域传感器22之间，调节 透过第二拍摄区域R2的光的亮度值。接下来，进行上述的搬运工序、光 照射工序、拍摄工序、缺陷检测工序、标记工序。

根据该第八实施方式的第二变形例的缺陷检查用拍摄装置20A、缺陷 检查用拍摄方法、缺陷检查系统10A、以及缺陷检查方法，也能够获得与 第七实施方式的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查 系统10、以及缺陷检查方法同样的优点。

[第九实施方式]

本实用新型的第九实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的具有偏振特性的膜110的缺陷检查的缺陷检查系统10以 及缺陷检查方法。

本实用新型的第九实施方式所涉及的缺陷检查系统10B与第七实施 方式的不同之处在于，在图22所示的缺陷检查系统10中，代替缺陷检查 用拍摄装置20而具备缺陷检查用拍摄装置20B。另外，图25所示的缺陷 检查用拍摄装置20B与第七实施方式的不同之处在于，在图23所示的缺 陷检查用拍摄装置20中，代替光源21以及第一亮度调节用偏振滤波器(亮 度调节机构)25₁而具备光源21A。另外，缺陷检查用拍摄装置20B与第 七实施方式的不同之处在于，在缺陷检查用拍摄装置20中，第一偏振滤 波器23₁的偏振轴相对于膜110的偏振轴(偏振吸收轴)的交叉角度不同。

第一偏振滤波器23₁与膜110的第一拍摄区域R1形成第一非正交偏 振状态。例如后述那样，第一偏振滤波器23₁的偏振轴与膜110的偏振轴 的交叉角度为75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。第 一偏振滤波器23₁与膜110的第一拍摄区域R1形成第一非正交偏振状态 即可，第一偏振滤波器23₁也可以配置在光源21A与第一拍摄区域R1之 间(参照图25)，或者配置在第一拍摄区域R1与区域传感器22之间(参 照图36)。

光源21A具有单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第 二拍摄区域R2照射的光的亮度值的亮度调节功能。由此，能够使照射至 第一拍摄区域R1的光的亮度值较大，使照射至第二拍摄区域R2的光的亮 度值较小。

接下来，对本实用新型的第九实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成第一非正交偏振状态的 方式配置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第一偏振滤波器配 置工序)。也可以将第一偏振滤波器23₁配置在第一拍摄区域R1与区域传 感器22之间。接下来，利用光源21A单独调节向第一拍摄区域R1照射 的光的亮度值和向第二拍摄区域R2照射的光的亮度值。由此，能够使照 射至第一拍摄区域R1的光的亮度值较大，使照射至第二拍摄区域R2的光 的亮度值较小(亮度调节工序)。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第九实施方式的缺陷检查用拍摄装置20B、缺陷检查用拍摄方 法、缺陷检查系统10B、以及缺陷检查方法，也能够获得与第七实施方式 的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10、以 及缺陷检查方法同样的优点。

[第九实施方式的变形例]

在第九实施方式中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20B以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将两个以上不 同的非正交偏振透射法与正透射法组合。以下，作为第九实施方式的变形 例，例示将两个不同的非正交偏振透射法与正透射法组合的缺陷检查用拍 摄装置20B以及缺陷检查用拍摄方法。

图41所示的缺陷检查用拍摄装置20B与第七实施方式的不同之处在 于，在图25所示的缺陷检查用拍摄装置20B中还具备第二偏振滤波器23₂。

在此，拍摄区域R还包括在搬运方向Y上被分割出的第三拍摄区域 R3，该第三拍摄区域R3与第一拍摄区域R1邻接。

第二偏振滤波器23₂以与第一偏振滤波器23₁邻接且与膜110形成第 二非正交偏振状态的方式配置在光源21与第三拍摄区域R3之间。在此， 第二非正交偏振状态与第一非正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状 态下的偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴的交叉角度和第一非正交偏振 状态下的偏振滤波器的偏振轴与膜的偏振轴的交叉角度不同。第二偏振滤 波器23₂与膜110形成第二非正交偏振状态即可，第二偏振滤波器23₂也 可以配置在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间。

接下来，对第九实施方式的变形例的缺陷检查方法以及缺陷检查用拍 摄方法进行说明。

首先，如上述那样，将第一偏振滤波器23₁以与膜110形成第一非正 交偏振状态的方式，配置在光源21与膜110的第一拍摄区域R1之间(第 一偏振滤波器配置工序)。接下来，将第二偏振滤波器23₂以与膜110形 成第二非正交偏振状态的方式，配置在光源21与膜110的第三拍摄区域R3之间(第二偏振滤波器配置工序)。也可以将第二偏振滤波器23₂配置 在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间。接下来，进行上述的亮度调节 工序、搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工序、标记工序。

根据该第九实施方式的变形例的缺陷检查用拍摄装置20B、缺陷检查 用拍摄方法、缺陷检查系统10B、以及缺陷检查方法，也能够获得与第七 实施方式的缺陷检查用拍摄装置20、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统 10、以及缺陷检查方法同样的优点。

[第十实施方式]

本实用新型的第十实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查方 法是进行上述的不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检查 的缺陷检查系统以及缺陷检查方法。第十实施方式所涉及的缺陷检查系统 以及缺陷检查方法能够应用于不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜 等的制造装置以及制造方法。在不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离 膜等的制造装置以及制造方法中，除第十实施方式中进行说明的缺陷检查 系统以及缺陷检查方法以外的内容是公知的，因此如前述那样省略说明。 对于与进行不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检查的缺 陷检查系统以及缺陷检查方法相关的其他实施方式以及变形例，基于同样 的观点，省略关于不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的制造装 置以及制造方法的说明。在第十实施方式及其变形例的说明中，膜110是 不具有偏振特性的膜。

本实用新型的第十实施方式所涉及的缺陷检查系统10C与第七实施 方式的不同之处在于，在图22所示的缺陷检查系统10中，代替缺陷检查 用拍摄装置20而具备缺陷检查用拍摄装置20C。另外，图26所示的缺陷 检查用拍摄装置20C与第七实施方式偶的不同之处在于，在图23所示的 缺陷检查用拍摄装置20中，代替第一偏振滤波器23₁而具备一对第一偏 振滤波器23₁、24₁，在第一亮度调节用偏振滤波器25₁的基础上还具备与 第一亮度调节用偏振滤波器25₁成对的第一亮度调节用偏振滤波器25₃。

第一偏振滤波器23₁与第七实施方式同样地配置在光源21与膜110 之间。具体地说，第一偏振滤波器23₁配置在光源21与拍摄区域R的第 一拍摄区域R1之间。在本实施方式中，第一偏振滤波器23₁配置为，从 区域传感器22观察时，搬运方向Y上的拍摄区域R的一半被遮挡。

另一方面，第一偏振滤波器24₁配置在膜110与区域传感器22之间。 具体地说，第一偏振滤波器24₁配置在拍摄区域R的第一拍摄区域R1与 区域传感器22之间。在本实施方式中，第一偏振滤波器24₁配置为，从 区域传感器22观察时，搬运方向Y上的拍摄区域R的一半被遮挡。

另外，一对第一亮度调节用偏振滤波器25₁、25₃中的第一亮度调节 用偏振滤波器25₁与第七实施方式同样地配置在光源21与膜110之间。 另一方面，第一亮度调节用偏振滤波器25₃配置在膜110与区域传感器22 之间。具体地说，第一亮度调节用偏振滤波器25₃配置在拍摄区域R的第 二拍摄区域R2与区域传感器22之间。在第十实施方式中，第一亮度调节 用偏振滤波器25₃配置为，从区域传感器22观察时，搬运方向Y上的拍 摄区域R的一半(在图26的例子中是第二拍摄区域R2侧的部分)被遮挡。

另外，第一偏振滤波器23₁与第一偏振滤波器24₁形成正交偏振状态。 另一方面，第一亮度调节用偏振滤波器25₁与第一亮度调节用偏振滤波器 25₃形成第一非正交偏振状态。例如，第一亮度调节用偏振滤波器25₁的 偏振轴与第一亮度调节用偏振滤波器25₃的偏振轴的交叉角度为75度以 上且小于85度、或者95度以上且105度以下。由此，能够在第一拍摄区 域R1拍摄正交偏振透射检查用图像，在第二拍摄区域R2拍摄非正交偏振 透射检查用图像，在中间拍摄区域R0拍摄透射散射检查用图像。

接下来，对本实用新型的第十实施方式所涉及的缺陷检查方法以及缺 陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110的第一拍摄区 域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍摄区域R1与区 域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一偏振滤波器24₁配置为形成正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工序)。

接下来，将第一亮度调节用偏振滤波器25₁配置在光源21与第一偏 振滤波器23₁之间、以及光源21与第二拍摄区域R2之间，将第一亮度调 节用偏振滤波器25₃配置在膜110的第二拍摄区域R2与区域传感器22之 间。此时，第一亮度调节用偏振滤波器25₁与第一亮度调节用偏振滤波器 25₃配置为形成第一非正交偏振状态。由此，能够降低透过第二拍摄区域R2被区域传感器22观测到的光的亮度值(亮度调节工序)。也可以将第 一亮度调节用偏振滤波器25₁仅配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。

另外，也可以代替第一亮度调节用偏振滤波器25₃而使第一偏振滤波 器24₁扩展至第二拍摄区域R2，在该情况下，将第一亮度调节用偏振滤 波器25₁配置为与第一偏振滤波器24₁形成第一非正交偏振状态即可。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第十实施方式所涉及的缺陷检查用拍摄装置20C以及缺陷检 查用拍摄方法，由于一对第一偏振滤波器23₁、24₁以形成正交偏振状态 的方式分别配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域R1之间、以及 第一拍摄区域R1与区域传感器(拍摄机构)22之间，区域传感器(拍摄 机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2以及中间拍摄区域 R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄第一拍摄区域R1 的正交偏振透射检查用图像、第二拍摄区域R2的非正交偏振(第一非正 交偏振)透射检查用图像、中间拍摄区域R0的透射散射检查用图像。即， 能够整合正交偏振透射检查用拍摄系列、非正交偏振(第一非正交偏振) 透射检查用拍摄系列、以及透射散射检查用拍摄系列。

其结果是，根据第十实施方式的缺陷检查系统10C以及缺陷检查方 法，能够整合正交偏振透射检查系列、非正交偏振透射检查系列、以及透 射散射检查系列。

因此，根据第十实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍 摄方法、缺陷检查系统10C、以及缺陷检查方法，能够削减检查系列数。

另外，根据该第十实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C以及缺陷检查 用拍摄方法，能够利用一对第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构) 25₁、25₃，调节透过第二拍摄区域R2被区域传感器22观测到的光的亮度 值。因此，例如通过从光源(光照射机构)21输出较大的亮度值的光，能 够使朝向用于进行正交偏振透射检查用拍摄系列的第一拍摄区域R1照射 的光的亮度值较大，另一方面，能够利用一对第一亮度调节用偏振滤波器 (亮度调节机构)25₁、25₃使透过用于进行非正交偏振透射检查用拍摄系 列的第二拍摄区域R2被区域传感器观测到的光的亮度值较小。

另外，根据第十实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C以及缺陷检查用 拍摄方法，由于一对第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁、 25₃形成第一非正交偏振状态，因此能够改善黑异物以及较弱的亮点的检 测。

[第十实施方式的变形例]

在第十实施方式中，例示了将正交偏振透射法与非正交偏振透射法组 合的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将正交 偏振透射法与两个以上不同的非正交偏振透射法组合。以下，作为第十实 施方式的变形例，例示将正交偏振透射法与两个不同的非正交偏振透射法 组合的缺陷检查用拍摄装置20C以及缺陷检查用拍摄方法。

图42所示的变形例的缺陷检查用拍摄装置20C与第七实施方式的不 同之处在于，在图26所示的缺陷检查用拍摄装置20C中，还具备一对第 二亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂、25₄。

在此，拍摄区域R还包括在搬运方向Y上被分割出的第三拍摄区域 R3，该第三拍摄区域R3与第二拍摄区域R2邻接。

第二亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂以与第一亮度调节 用偏振滤波器25₁邻接的方式配置在光源21与第三拍摄区域R3之间，另 一方面，第二亮度调节用偏振滤波器25₄以与第一亮度调节用偏振滤波器 25₃邻接的方式配置在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间。一对第二 亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂、25₄配置为形成第二非正交 偏振状态。在此，一对第二亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂、 25₄形成的第二非正交偏振状态与第一非正交偏振状态不同。即，第二非 正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴的交叉角度与第一非正交偏振状 态下的偏振滤波器的偏振轴的交叉角度不同，由此，第二亮度调节用偏振 滤波器25₂、25₄能够降低透过第三拍摄区域R3被区域传感器22观测到 的光的亮度值。

接下来，对第十实施方式的变形例的缺陷检查方法以及缺陷检查用拍 摄方法进行说明。

首先，进行上述的第一偏振滤波器配置工序。接下来，如上述那样将 第一亮度调节用偏振滤波器25₁配置在光源21与第一偏振滤波器23₁之 间、以及光源21与第二拍摄区域R2之间，并且将第一亮度调节用偏振滤 波器25₃配置在膜110的第二拍摄区域R2与区域传感器22之间。此时， 第一亮度调节用偏振滤波器25₁、25₃配置为形成第一非正交偏振状态。 接下来，将第二亮度调节用偏振滤波器25₂配置在光源21与第三拍摄区 域R3之间，并且将第二亮度调节用偏振滤波器25₄配置在膜110的第三 拍摄区域R3与区域传感器22之间。此时，第二亮度调节用偏振滤波器 25₂、25₄配置为形成第二非正交偏振状态。由此，能够降低透过第二拍摄 区域R2以及第三拍摄区域R3被区域传感器22观测到的光的亮度值(亮 度调节工序)。也可以将第一亮度调节用偏振滤波器25₁仅配置在光源21 与第二拍摄区域R2之间。

另外，也可以代替第一亮度调节用偏振滤波器25₃，使第一偏振滤波 器24₁扩展至第二拍摄区域R2，在该情况下，将第一亮度调节用偏振滤 波器25₁配置为与第一偏振滤波器24₁形成第一非正交偏振状态即可。或 者，也可以代替第二亮度调节用偏振滤波器25₄，使第一亮度调节用偏振 滤波器25₃扩展至第三拍摄区域R3，在该情况下，将第二亮度调节用偏 振滤波器25₂配置为相对于第一亮度调节用偏振滤波器25₃形成第二非正 交偏振状态即可。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第十实施方式的变形例的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查 用拍摄方法、缺陷检查系统10C、以及缺陷检查方法，也能够获得与第十 实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系 统10C、以及缺陷检查方法同样的优点。

[第十一实施方式]

本实用新型的第十一实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查 方法是进行上述的不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检 查的缺陷检查系统以及缺陷检查方法。在第十一实施方式及其变形例的说 明中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本实用新型的第十一实施方式所涉及的缺陷检查系统10D与第十实 施方式的不同之处在于，在图22所示的缺陷检查系统10C中，代替缺陷 检查用拍摄装置20C而具备缺陷检查用拍摄装置20D。另外，图27所示 的缺陷检查用拍摄装置20D与第十实施方式的不同之处在于，在图26所 示的缺陷检查用拍摄装置20C中，代替第一亮度调节用偏振滤波器(亮度 调节机构)25₁而具备衰减滤波器(亮度调节机构)26。另外，缺陷检查 用拍摄装置20D与第十实施方式的不同之处在于，在缺陷检查用拍摄装置 20C中，一对第一偏振滤波器23₁、24₁的偏振轴(偏振吸收轴)的交叉 角度不同。

第一偏振滤波器23₁与第一偏振滤波器24₁形成第一非正交偏振状 态。例如，第一偏振滤波器23₁的偏振轴与第一偏振滤波器24₁的偏振轴 的交叉角度为75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。

衰减滤波器26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，衰减 滤波器26能够降低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。

接下来，对本实用新型的第十一实施方式所涉及的缺陷检查方法以及 缺陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110的第一拍摄区 域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍摄区域R1与区 域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一偏振滤波器24₁配置为形成第一非正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工序)。接下来， 将衰减滤波器26配置在光源21与第二拍摄区域R2之间。由此，能够降 低照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值(亮度调节工序)。也可以将衰减 滤波器26配置在膜110的第二拍摄区域R2与区域传感器22之间，降低 透过第二拍摄区域R2的光的亮度值。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第十一实施方式的缺陷检查用拍摄装置20D、缺陷检查用拍摄 方法、缺陷检查系统10D、以及缺陷检查方法，也能够获得与第十实施方 式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10C、 以及缺陷检查方法同样的优点。

[第十一实施方式的第一变形例]

在第十一实施方式中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的 缺陷检查用拍摄装置20D以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将两个以上 的不同的非正交偏振透射法与正透射法组合。以下，作为第十一实施方式 的第一变形例，例示将两个不同的非正交偏振透射法与正透射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20D以及缺陷检查用拍摄方法。

图43所示的第一变形例的缺陷检查用拍摄装置20D与第十一实施方 式的不同之处在于，在图27所示的缺陷检查用拍摄装置20D中还具备一 对第二偏振滤波器23₂、24₂。

在此，拍摄区域R还包括在搬运方向Y上被分割出的第三拍摄区域 R3，该第三拍摄区域R3与第一拍摄区域R1邻接。

第二偏振滤波器23₂以与第一偏振滤波器23₁邻接的方式配置在光源 21与第三拍摄区域R3之间，第二偏振滤波器24₂以与第一偏振滤波器24₁邻接的方式配置在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间。一对第二偏振 滤波器23₂、24₂形成第二非正交偏振状态。在此，第二非正交偏振状态 与第一非正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状态下的偏振滤波器的 偏振轴的交叉角度与第一非正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴的交 叉角度不同。

接下来，对第十一实施方式的第一变形例的缺陷检查方法以及缺陷检 查用拍摄方法进行说明。

首先，如上述那样，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110 的第一拍摄区域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍 摄区域R1与区域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一 偏振滤波器24₁配置为形成第一非正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工 序)。接下来，将第二偏振滤波器23₂配置在光源21与膜110的第三拍摄 区域R3之间，将第二偏振滤波器24₂配置在膜110的第三拍摄区域R3 与区域传感器22之间。此时，将第二偏振滤波器23₂以及第二偏振滤波 器24₂配置为形成第二非正交偏振状态(第二偏振滤波器配置工序)。接 下来，进行上述的亮度调节工序、搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺 陷检测工序、标记工序。

根据该第十一实施方式的第一变形例的缺陷检查用拍摄装置20D、缺 陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10D、以及缺陷检查方法，也能够获得 与第十实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷 检查系统10C、以及缺陷检查方法同样的优点。

[第十一实施方式的第二变形例]

在第十一实施方式中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的 缺陷检查用拍摄装置20D以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将两个以上 不同的非正交偏振透射法组合。以下，作为第十一实施方式的第二变形例， 例示将两个不同的非正交偏振透射法组合的缺陷检查用拍摄装置20D以 及缺陷检查用拍摄方法。

第二变形例的缺陷检查用拍摄装置20D与第十一实施方式的不同之 处在于，在图27所示的缺陷检查用拍摄装置20D中，代替衰减滤波器(亮 度调节机构)26而具备一对第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构) 25₁、25₃。

第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁配置在光源21与第 二拍摄区域R2之间，第一亮度调节用偏振滤波器25₃配置在膜110的第 二拍摄区域R2与区域传感器22之间。此时，一对第一亮度调节用偏振滤 波器25₁、25₃配置为形成第二非正交偏振状态。在此，第二非正交偏振 状态与第一非正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状态下的偏振滤波 器的偏振轴的交叉角度与第一非正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴 的交叉角度。由此，一对第一亮度调节用偏振滤波器25₁、25₃能够降低 透过第二拍摄区域R2的光的亮度值。

接下来，对第十一实施方式的第二变形例的缺陷检查方法以及缺陷检 查用拍摄方法进行说明。

首先，如上述那样，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110 的第一拍摄区域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍 摄区域R1与区域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一 偏振滤波器24₁配置为形成第一非正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工 序)。接下来，将第一亮度调节用偏振滤波器25₁配置在光源21与第二拍 摄区域R2之间，将第一亮度调节用偏振滤波器25₃配置在膜110的第二 拍摄区域R2与区域传感器22之间。此时，将一对第一亮度调节用偏振滤 波器25₁、25₃配置为形成第二非正交偏振状态。由此，能够降低透过第 二拍摄区域R2的光的亮度值(亮度调节工序)。接下来，进行上述的搬运 工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工序、标记工序。

根据该第十一实施方式的第二变形例的缺陷检查用拍摄装置20D、缺 陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10D、以及缺陷检查方法，也能够获得 与第十实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷 检查系统10C、以及缺陷检查方法同样的优点。

[第十二实施方式]

本实用新型的第十二实施方式所涉及的缺陷检查系统以及缺陷检查 方法是进行上述的不具有偏振特性的相位差膜、电池用隔离膜等的缺陷检 查的缺陷检查系统以及缺陷检查方法。在第十二实施方式及其变形例的说 明中，膜110是不具有偏振特性的膜。

本实用新型的第十二实施方式所涉及的缺陷检查系统10E与第十实 施方式的不同之处在于，在图22所示的缺陷检查系统10C中，代替缺陷 检查用拍摄装置20C而具备缺陷检查用拍摄装置20E。另外，图28所示 的缺陷检查用拍摄装置20E与第十实施方式的不同之处在于，在图26所 示的缺陷检查用拍摄装置20C中，代替光源21以及第一亮度调节用偏振 滤波器(亮度调节机构)25₁而具备光源21A。另外，缺陷检查用拍摄装 置20E与第十实施方式的不同之处在于，在缺陷检查用拍摄装置20C中， 一对第一偏振滤波器23₁、24₁的偏振轴(偏振吸收轴)的交叉角度不同。

第一偏振滤波器23₁与第一偏振滤波器24₁形成第一非正交偏振状 态。例如，第一偏振滤波器23₁的偏振轴与第一偏振滤波器24₁的偏振轴 的交叉角度为75度以上且小于85度、或者95度以上且105度以下。

光源21A具有单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第 二拍摄区域R2照射的光的亮度值的亮度调节功能。由此，能够使照射至 第一拍摄区域R1的光的亮度值较大，使照射至第二拍摄区域R2的光的亮 度值较小。

接下来，对本实用新型的第十二实施方式所涉及的缺陷检查方法以及 缺陷检查用拍摄方法进行说明。

首先，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110的第一拍摄区 域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍摄区域R1与区 域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一偏振滤波器24₁配置为形成第一非正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工序)。接下来， 利用光源21A单独调节向第一拍摄区域R1照射的光的亮度值和向第二拍 摄区域R2照射的光的亮度值。由此，能够使照射至第一拍摄区域R1的光 的亮度值较大，使照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值较小(亮度调节 工序)。

接下来，进行上述的搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺陷检测工 序、标记工序。

根据该第十二实施方式的缺陷检查用拍摄装置20E、缺陷检查用拍摄 方法、缺陷检查系统10E、以及缺陷检查方法，也能够获得与第十实施方 式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查系统10C、 以及缺陷检查方法同样的优点。

[第十二实施方式的变形例]

在第十二实施方式中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的 缺陷检查用拍摄装置20E以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以将两个以上 不同的非正交偏振透射法与正透射法组合。以下，作为第十二实施方式的 变形例，例示将两个不同的非正交偏振透射法与正透射法组合的缺陷检查 用拍摄装置20E以及缺陷检查用拍摄方法。

图44所示的缺陷检查用拍摄装置20E与第十实施方式的不同之处在 于，在图28所示的缺陷检查用拍摄装置20E中还具备一对第二偏振滤波 器23₂、24₂。

在此，拍摄区域R还包括在搬运方向Y上被分割出的第三拍摄区域 R3，该第三拍摄区域R3与第一拍摄区域R1邻接。

第二偏振滤波器23₂以与第一偏振滤波器23₁邻接的方式配置在光源 21与第三拍摄区域R3之间，第二偏振滤波器24₂以与第一偏振滤波器24₁邻接的方式配置在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间。一对第二偏振 滤波器23₂、24₂形成第二非正交偏振状态。在此，第二非正交偏振状态 与第一非正交偏振状态不同。即，第二非正交偏振状态下的偏振滤波器的 偏振轴的交叉角度与第一非正交偏振状态下的偏振滤波器的偏振轴的交 叉角度。

接下来，对第十二实施方式的变形例的缺陷检查方法以及缺陷检查用 拍摄方法进行说明。

首先，如上述那样，将第一偏振滤波器23₁配置在光源21与膜110 的第一拍摄区域R1之间，将第一偏振滤波器24₁配置在膜110的第一拍 摄区域R1与区域传感器22之间。此时，将第一偏振滤波器23₁以及第一 偏振滤波器24₁配置为形成第一非正交偏振状态(第一偏振滤波器配置工 序)。接下来，将第二偏振滤波器23₂配置在光源21与膜110的第三拍摄 区域R3之间，将第二偏振滤波器24₂配置在膜110的第三拍摄区域R3 与区域传感器22之间。此时，将第二偏振滤波器23₂以及第二偏振滤波 器24₂配置为形成第二非正交偏振状态(第二偏振滤波器配置工序)。接 下来，进行上述的亮度调节工序、搬运工序、光照射工序、拍摄工序、缺 陷检测工序、标记工序。

根据该第十二实施方式的变形例的缺陷检查用拍摄装置20E、缺陷检 查用拍摄方法、缺陷检查系统10E、以及缺陷检查方法，也能够获得与第 十实施方式的缺陷检查用拍摄装置20C、缺陷检查用拍摄方法、缺陷检查 系统10C、以及缺陷检查方法同样的优点。

需要说明的是，本实用新型不限于上述的本实施方式，可以进行各种 变形。例如，在第七、第八以及第九实施方式中，例示了利用透射法的缺 陷检查用拍摄装置20、20A、20B以及缺陷检查用拍摄方法，但本实用新 型的特征也能够应用于如图29、图30以及图31所示那样利用反射法的缺 陷检查用拍摄装置20、20A、20B以及缺陷检查用拍摄方法。

另外，在图29中，例示了将正交偏振反射法与非正交偏振反射法组 合的缺陷检查用拍摄装置20以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图39 同样地将正交偏振反射法与两个以上不同的非正交偏振反射法组合。另 外，在图30中，例示了将非正交偏振反射法与正反射法组合的缺陷检查 用拍摄装置20A以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图40同样地，将 两个以上不同的非正交偏振反射法与正反射法组合，也可以将两个以上不 同的非正交偏振反射法组合。另外，在图31中，例示了将非正交偏振反 射法与正反射法组合的缺陷检查用拍摄装置20B以及缺陷检查用拍摄方 法，但也可以与图41同样地，将两个以上不同的非正交偏振反射法与正 反射法组合。

根据图29、图30以及图31所示的缺陷检查用拍摄装置20、20A、20B 以及缺陷检查用拍摄方法，例如，由于第一偏振滤波器23₁以与膜110形 成正交偏振状态的方式配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄区域R1 之间，区域传感器(拍摄机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区 域R2以及中间拍摄区域R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同 时拍摄第一拍摄区域R1的正交偏振反射检查用图像、第二拍摄区域R2 的正反射(或者非正交偏振发射)检查用图像、以及中间拍摄区域R0的 反射散射检查用图像。即，能够整合正交偏振反射检查用拍摄系列、非正 交偏振反射检查用拍摄系列(参照图29)或者正反射检查用拍摄系列(参 照图30、31)、以及反射散射检查用拍摄系列。其结果是，在缺陷检查系 统10、10A、10B以及缺陷检查方法中，能够整合正交偏振反射检查系列、 非正交偏振反射检查系列或者正反射检查系列、以及反射散射检查系列， 从而能够削减检查系列数。

然而，在正交偏振反射检查用拍摄系列与例如正反射检查用拍摄系列 中，适当的光的亮度值不同。更具体地说，正交偏振反射检查用拍摄系列 的适当的光的亮度值较大，例如正反射检查用拍摄系列的适当的光的亮度 值较小。

关于这一点，根据图29、图30以及图31所示的缺陷检查用拍摄装置 20、20A、20B以及缺陷检查用拍摄方法，能够利用偏振滤波器(亮度调 节机构)25₁、衰减滤波器(亮度调节机构)26以及光源(亮度调节机构) 21A，调节照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。因此，例如通过从光 源(光照射机构)21以及光源(亮度调节机构)21A输出较大的亮度值的 光，能够使朝向用于进行正交偏振反射检查用拍摄系列的第一拍摄区域 R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利用偏振滤波器(亮度调节 机构)25₁、衰减滤波器(亮度调节机构)26以及光源(亮度调节机构) 21A，使朝向用于进行非正交偏振反射检查用拍摄系列(参照图29)或者 正反射检查用拍摄系列(参照图30、31)的第二拍摄区域R2照射的光的 亮度值较小。

同样地，在第十、第十一以及第十二实施方式中，例示了利用透射法 的缺陷检查用拍摄装置20C、20D、20E以及缺陷检查用拍摄方法，但本 实用新型的特征也能够应用于如图32、图33以及图34所示那样利用反射 法的缺陷检查用拍摄装置20C、20D、20E以及缺陷检查用拍摄方法。

另外，在图32中，例示了将正交偏振反射法与非正交偏振反射法组 合的缺陷检查用拍摄装置20C以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图 42同样地将正交偏振反射法与两个以上不同的非正交偏振反射法组合。在 该情况下，相对于图42例示的第三拍摄区域R3，将第二亮度调节用偏振 滤波器(亮度调节机构)25₂以与第一亮度调节用偏振滤波器25₁邻接的 方式配置配置在光源21与第三拍摄区域R3之间，另一方面，将与第二亮 度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₂成对的第二亮度调节用偏振滤 波器25₄以与第一亮度调节用偏振滤波器25₃邻接的方式，配置在第三拍 摄区域R3与区域传感器22之间即可。

另外，在图33中，例示了将非正交偏振反射法与正反射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20D以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图43同样 地，将两个以上不同的非正交偏振反射法与正反射法组合，也可以将两个 以上不同的非币交偏振反射法组合。在该情况下，相对于图43例示的第 三拍摄区域R3，可以如第十一实施方式的第一变形例中说明那样，将第 二偏振滤波器23₂以与第一偏振滤波器23₁邻接的方式配置在光源21与 第三拍摄区域R3之间，将与第二偏振滤波器23₂成对的第二偏振滤波器 24₂以与第一偏振滤波器24₁邻接的方式配置在第三拍摄区域R3与区域 传感器22之间，也可以如第十一实施方式的第二变形例中说明那样，代 替衰减滤波器(亮度调节机构)26而将一对第一亮度调节用偏振滤波器(亮 度调节机构)25₁、25₃配置为形成第二非正交偏振状态。在采用一对第一 亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁、25₃的情况下，将第一亮度 调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁配置在光源21与第二拍摄区域 R2之间，将第一亮度调节用偏振滤波器25₃配置在膜110的第二拍摄区域 R2与区域传感器22之间即可。

另外，在图34中，例示了将非正交偏振反射法与正反射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20E以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图44同样 地，将两个以上不同的非正交偏振反射法与正反射法组合。在该情况下， 相对于图44例示的第三拍摄区域R3，将第二偏振滤波器23₂以与第一偏 振滤波器23₁邻接的方式配置在光源21与第三拍摄区域R3之间，将与第 二偏振滤波器23₂成对的第二偏振滤波器24₂以与第一偏振滤波器24₁邻 接的方式配置在第三拍摄区域R3与区域传感器22之间即可。

根据图32、图33以及图34所示的缺陷检查用拍摄装置20C、20D、 20E以及缺陷检查用拍摄方法，例如，由于一对第一偏振滤波器23₁、24₁以形成正交偏振状态的方式分别配置在光源(光照射机构)21与第一拍摄 区域R1之间、以及第一拍摄区域R1与区域传感器(拍摄机构)22之间， 区域传感器(拍摄机构)22将包括第一拍摄区域R1、第二拍摄区域R2 以及中间拍摄区域R0的拍摄区域R拍摄为二维图像，因此能够同时拍摄 第一拍摄区域R1的正交偏振反射检查用图像、第二拍摄区域R2的正反射 (或者非正交偏振发射)检查用图像、中间拍摄区域R0的反射散射检查 用图像。即，能够整合正交偏振反射检查用拍摄系列、非正交偏振反射用 拍摄系列(参照图32)或者正反射检查用拍摄系列(参照图33、34)、以 及反射散射检查用拍摄系列。其结果是，在缺陷检查系统10C、10D、10E 以及缺陷检查方法中，能够整合正交偏振反射检查系列、非正交偏振反射 检查系列或者正反射检查系列、以及反射散射检查系列，从而能够削减检 查系列数。

另外，根据图32、图33以及图34所示的缺陷检查用拍摄装置20C、 20D、20E以及缺陷检查用拍摄方法，能够利用一对第一亮度调节用偏振 滤波器(亮度调节机构)25₁、25₃、衰减滤波器(亮度调节机构)26以及 光源(亮度调节机构)21A，调节照射至第二拍摄区域R2的光的亮度值。 因此，例如通过从光源(光照射机构)21以及光源(亮度调节机构)21A 输出较大的亮度值的光，能够使朝向用于进行正交偏振反射检查用拍摄系 列的第一拍摄区域R1照射的光的亮度值较大，另一方面，能够利用一对 第一亮度调节用偏振滤波器(亮度调节机构)25₁、25₃、衰减滤波器(亮 度调节机构)26以及光源(亮度调节机构)21A，使朝向用于进行非正交 偏振反射用拍摄系列(参照图32)或者正反射检查用拍摄系列(参照图 33、34)的第二拍摄区域R2照射的光的亮度值较小。

另外，在第八以及第九实施方式、以及图30以及图31所示的方式中， 例示了第一偏振滤波器23₁设置在光源(光照射机构)21与膜110的第一 拍摄区域R1之间的方式，但也可以采用如图35、图36、图37以及图38 所示那样，第一偏振滤波器23₁配置在膜110的第一拍摄区域R1与区域 传感器(拍摄机构)22之间的方式。

在图35中，例示了将非正交偏振透射法与正透射法组合的缺陷检查 用拍摄装置20A以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图40同样地，将 两个以上不同的非正交偏振透射法与正透射法组合，也可以将两个以上不 同的非正交偏振透射法组合。另外，在图36中，例示了将非正交偏振透 射法与正透射法组合的缺陷检查用拍摄装置20B以及缺陷检查用拍摄方 法，也可以与图41同样地，将两个以上不同的非正交偏振透射法与正透 射法组合。

另外，在图37中，例示了将非正交偏振反射法与正反射法组合的缺 陷检查用拍摄装置20A以及缺陷检查用拍摄方法，但也可以与图40同样 地，将两个以上不同的非正交偏振反射法与正反射法组合，也可以将两个 以上的不同的非正交偏振反射法组合。另外，在图38中，例示了将非正 交偏振反射法与于反射法组合的缺陷检查用拍摄装置20B以及缺陷检查 用拍摄方法，但也可以与图41同样地，将两个以上不同的非正交偏振反 射法与正反射法组合。

在之前的说明中，在相对于光照射机构另外配置亮度调节机构的情况 下，将该亮度调节机构配置为，调节照射至第二拍摄区域R2的光、或者 透过第二拍摄区域或被第二拍摄区域R2反射的光的亮度。然而，在相对 于光照射机构另外配置亮度调节机构的方式中，亮度调节机构配置为，调 节照射至第一以及第二拍摄区域R1、R2中的至少一方的光、或者透过第 一以及第二拍摄区域R1、R2中的至少一方或被第一以及第二拍摄区域 R1、R2中的至少一方反射的光的亮度即可。此外，在将亮度调节机构设 置于光照射机构的方式中，也可以相对于配置于光照射机构的亮度调节机 构另外进一步设置亮度调节机构。