一种异形结构工件涡流信号的处理方法与流程

本发明涉及一种无损检测方法，特别是涉及一种异形结构工件涡流信号的处理方法。

背景技术：

涡流检测技术是工业生产中常用的材料质量检测手段之一，具有检测精度高、检测速度快的优点。但对于结构复杂的异形工件，由于工件表面结构不规则，采用穿过式常规涡流探头检测，或以点式探头作表面扫查，得到的是杂乱无章的涡流信号，很难达到检测目的。

技术实现要素：

本发明的目的在于克服现有技术之不足，采用信号对比分析处理方法，实现异形复杂工件质量的涡流检测。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种异形结构工件涡流信号的处理方法，其特征在于：包括如下步骤，

a.涡流检测传感器采用设定的检测方式、检测参数和扫查速度对标准工件进行扫查检测，涡流检测仪记录保存标准工件扫查全过程的涡流检测信号图；所述标准工件为材质、结构与被检工件相同且没有质量缺陷的工件；

b.涡流检测传感器采用与步骤a相同的检测方式、检测参数和扫查速度对被检工件进行扫查检测，涡流检测仪记录保存被检工件扫查全过程的涡流检测信号图；

c.将步骤b中得到的被检工件扫查全过程的涡流检测信号图与步骤a中得到的标准工件扫查全过程的涡流检测信号图进行相减比对处理分析；当相减比对处理分析结果被检工件扫查全过程的涡流检测信号图和标准工件的扫查全过程的涡流检测信号图完全相同，则判定被检工件质量与标准工件相同；当相减比对处理分析结果被检工件扫查全过程的涡流检测信号图和标准工件扫查全过程的涡流检测信号图之间有差异时，则判定被检工件质量与标准工件不同，存在质量异常。

进一步的，在步骤a、步骤b、步骤c后，通过数据分析软件计算标示出被检工件扫查全过程的涡流检测信号图上信号差异的时间点，根据步骤a中设定的检测方式、检测参数和扫查速度，反演推算出被检工件质量异常的部位。

进一步的采用大数据分析方法，对多个标准工件进行检测，得出标准工件扫查全过程的涡流检测信号的标准分布图，而后将被检工件的扫查全过程的涡流检测信号图与标准工件扫查全过程的涡流检测信号的标准分布图进行比对分析，若有超出标准分布图的分布范围，则判定该被检工件存在质量异常。

本发明的有益效果是，一种异形结构工件涡流信号的处理方法，采用标准工件与被检工件的扫查全过程的涡流检测信号图的相减比对分析方法，实现异形复杂工件质量的涡流检测。

以下结合实施例对本发明作进一步详细说明，但本发明的一种异形结构工件涡流信号的处理方法不局限于实施例。

附图说明

下面结合附图中实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明实施例的标准工件扫查全过程的涡流检测方法示意图。

图2是本发明实施例的被检工件扫查全过程的涡流检测方法示意图。

图3是本发明实施例的被检工件与标准工件扫查全过程的涡流检测信号的相减比对处理分析方法示意图。

图中，A.标准工件，B.被检工件，EA.标准工件扫查全过程的涡流检测信号图，EB.被检工件扫查全过程的涡流检测信号图。

具体实施方式

实施例，如图1、图2、图3所示，一种异形结构工件涡流信号的处理方法，其特征在于：包括如下步骤，

a.涡流检测传感器采用设定的检测方式、检测参数和扫查速度对标准工件A进行扫查检测，涡流检测仪记录保存标准工件A扫查全过程的涡流检测信号图EA；所述标准工件A为材质、结构与被检工件B相同且没有质量缺陷的工件；

b.涡流检测传感器采用与步骤a相同的检测方式、检测参数和扫查速度对被检工件B进行扫查检测，涡流检测仪记录保存被检工件B扫查全过程的涡流检测信号图EB；

c.将步骤b中得到的被检工件B扫查全过程的涡流检测信号图EB与步骤a中得到的标准工件A扫查全过程的涡流检测信号图EA进行相减比对处理分析；当相减比对处理分析结果被检工件B扫查全过程的涡流检测信号图EB和标准工件A的扫查全过程的涡流检测信号图EA完全相同，则判定被检工件B质量与标准工件A相同；当相减比对处理分析结果被检工件B扫查全过程的涡流检测信号图EB和标准工件A扫查全过程的涡流检测信号图EA之间有差异时，则判定被检工件B质量与标准工件A不同，存在质量异常。

进一步的，在步骤a、步骤b、步骤c后，通过数据分析软件计算标示出被检工件B扫查全过程的涡流检测信号图EB上信号差异的时间点，根据步骤a中设定的检测方式、检测参数和扫查速度，反演推算出被检工件B质量异常的部位。

进一步的采用大数据分析方法，对多个标准工件A进行检测，得出标准工件A扫查全过程的涡流检测信号的标准分布图，而后将被检工件B的扫查全过程的涡流检测信号图EB与标准工件A扫查全过程的涡流检测信号的标准分布图进行比对分析，若有超出标准分布图的分布范围，则判定该被检工件B存在质量异常。

上述实施例仅用来进一步说明本发明的一种异形结构工件涡流信号的处理方法，但本发明并不局限于实施例，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均落入本发明技术方案的保护范围内。