本实用新型涉及一种去气水制备装置。
背景技术：
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土工三轴试验中，试样的饱和阶段需要使用二氧化碳饱和、水头饱和以及反压饱和等方法进行试样饱和。其中水头饱和与反压饱和中都需要使用去气水对试样进行饱和。去气水为利用抽真空或煮沸等方法将试验用纯净水中的气泡排出的一种试验用水。常规方法中，使用煮沸法进行排气时，往往在煮沸过程中，气泡从水中排出，但在冷却去气水的过程中又会有空气再次进入已经制备好的去气水中，影响三轴试验的饱和效果。而抽真空排气法获得的去气水在抽真空结束后，向真空缸中进水或者进气的过程中，也会有空气重新进入去气水中，其中进气过程中则空气直接进入去气水中，使得抽真空过程失去实际意义；进水过程中，由于真空缸中负压较大，开始状态的水会在真空缸底部不断溅起水花，水中的空气会随着水花溅起的过程重新进入去气水中，甚至溅起的水花会进入去气水制备瓶中，影响去气水的制备质量。综上所述，现有制备去气水的装置中都存在一定的问题，降低了土工试验中使用去气水的制备质量。
技术实现要素：
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本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种在真空抽气完成后防止平衡负压过程中溅起水花导致空气二次进入去气水中的去气水制备装置。
为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：一种去气水制备装置，包括真空缸、真空缸顶盖、真空泵、去水气收集瓶、储水瓶和水压缓冲层，所述真空缸顶盖密封设置在真空缸顶部开口上，所述真空缸底部设置有进水口，所述真空缸底部的进水口与储水瓶通过进水管相连接，所述进水管上设置有第一阀门，所述真空缸顶盖上设置有进气口和出气口，所述真空缸顶盖上的进气口与进气管相连接，所述真空缸顶盖上的出气口通过出气管连接至真空泵，所述进气管上设置有第二阀门，所述出气管上设置有第三阀门，所述水压缓冲层设置在真空缸底部，所述水压缓冲层上部还设置有透水板，所述去气水收集瓶置于透水板上。
作为优选，所述水压缓冲层由粗砂层、中砂层和细砂层组成，所述粗砂层、中砂层和细砂层自真空缸缸底依次向上设置。
作为优选，所述真空缸顶盖上设置有真空压力表，所述真空压力表的压力传感器与真空缸的真空室相接触。
与现有技术相比，本实用新型的有益之处是：通过设置不同粒径的砂层缓冲抽真空结束中进水中产生的水花，并且将进水口设置在真空缸底部，与现有技术中进水口设置在顶部相比，抽气结束后，真空缸中不会溅起水花，利用去气水进入真空缸缓解真空压力，所获得的去气水避免了空气二次进入水中的现象的出现，有效提高了去气水制备质量。
附图说明：
下面结合附图对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式：
下面结合附图及具体实施方式对本实用新型进行详细描述：
如图1所示的一种去气水制备装置，包括真空缸1、真空缸顶盖4、真空泵 6、去气水收集瓶7、储水瓶9和水压缓冲层，所述真空缸顶盖4密封设置在真空缸1顶部开口上，所述真空缸1底部设置有进水口，所述真空缸1底部的进水口与储水瓶9通过进水管8相连接，所述进水管8上设置有第一阀门21，所述真空缸顶盖4上设置有进气口和出气口，所述真空缸顶盖4上的进气口与进气管5相连接，进气管5的另一端连通至大气，所述真空缸顶盖4上的出气口通过出气管61连接至真空泵6，所述进气管5上设置有第二阀门22，所述出气管61上设置有第三阀门23，所述水压缓冲层设置在真空缸1底部，所述水压缓冲层上部还设置有透水板13，所述去水收集瓶7瓶底置于透水板13上。
在试验过程中，其具体操作方式如下：
1.将装盛待去气水的去气水收集瓶7放入真空缸1中透水板13上，准备开始去气水制备试验；
2.盖上真空缸1顶部的真空缸盖板4，检查真空缸盖板4与密封圈接触位置的密封性；
4.关闭第一阀门22和第二阀门22，打开第三阀门23，打开真空,6开关，开始真空抽气；
5.抽真空至去气水收集瓶7中无气泡溢出水面时，准备停止试验；
6.停止试验前，首先打开第一阀门，让储水瓶9中的蒸馏水进入真空缸1 中，同时关闭真空泵6和第三阀门23，待真空缸1中无蒸馏水进入时，关闭第一阀门21，此时可取出去气水收集瓶7。
7.结束试验，清理真空泵6以及真空缸1，为后期试验做准备。
作为水压缓冲层的优选设置方式，所述水压缓冲层由粗砂层10、中砂层11 和细砂层12组成，所述粗砂层10、中砂层11和细砂层12自真空缸1缸底依次向上设置。
在实际使用中，为了便于试验人员对真空缸1内的气压进行了解和掌握，所述真空缸顶盖4上设置有真空压力表3，所述真空压力表3的压力传感器与真空缸1的真空室相接触。
需要强调的是：对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。