敏电极202之间还可以包括由其它绝缘材料制成的具有绝缘功能的薄膜层。
[0062]在此基础上，通过构图工艺依次形成第一颜色图案(R)、第二颜色图案(G)以及第三颜色图案(B)的同时，可以在第二压敏电极202的表面形成由构成第一颜色图案(R)、第二颜色图案(G)和第三颜色图案(B)中的至少一种材料依次叠加而成的堆叠结构。然后在形成有上述结构的表面制备一层公共电极层13。这样一来，对于将公共电极层13制备于彩膜基板01上的TN型显示装置而言，无需单独增加制备绝缘层的步骤，以避免第二压敏电极202对公共电极层13的影响。由于构成彩色膜层12的材料为具有绝缘性能的树脂材料。因此，可以在制备彩色膜层12的过程中，形成由构成第一颜色图案(R)、第二颜色图案(G)以及第三颜色图案(B)的材料依次叠加而成的堆叠结构作为第二压敏电极202与公共电极层13之间的绝缘层。
[0063]实施例三
[0064]本实施例中，上述显示基板为彩膜基板01，且压力传感结构20设置于非显示区域102。与实施例二不同之处在于，构成绝缘支柱203的材料不同，且可以将公共电极层13与第二压敏电极202复用。
[0065]具体的，如图5所示，第二压敏电极202与公共电极层13同层同材料。该绝缘支柱203由构成黑矩阵11、第一颜色图案(R)、第二颜色图案(G)和第三颜色图案(B)中的至少一种材料依次叠加而成。
[0066]这样一来，在上述彩膜基板01的制备过程中，同样可以完成感应电极结构20的制备。具体的，首先，在衬底基板10的表面对应非显示区域102的位置通过构图工艺形成第一压敏电极201，然后在衬底基板10上通过构图工艺依次形成黑矩阵11、第一颜色图案(R)、第二颜色图案(G)以及第三颜色图案(B)，与此同时，可以在第一压敏电极201上依次形成由构成黑矩阵11、第一颜色图案(R)、第二颜色图案(G)和第三颜色图案⑶中的至少一种材料堆叠而成的绝缘支柱203。接下来，在形成上述结构的基板表面，将已经制作好的薄片状的透明导电层贴附于其上，从而在对应显示区域101位置形成公共电极层13，在对应非显示区域102的位置形成第二压敏电极202，使得第二压敏电极202与公共电极层13同层同材料。实现了公共电极层13与第二压敏电极202的复用，其中为了使得形成的公共电极层13能够与黑矩阵11和彩色膜层12贴合度较好，可以选择柔韧性较高的碳纳米管材料构成上述透明导电层。
[0067]相对于实施例二提供的方案而言，本实施例中，当第二压敏电极202与公共电极层13相连接时，第一压敏电极202和公共电极层13可以为同一层薄膜层，因此该薄膜层既可以作为第一压敏电极202使用，也可以作为公共电极层13使用，使得公共电极层13与第二压敏电极202能够复用，这样一来在制备过程中无需特殊工艺或步骤将公共电极层13与第二压敏电极202断开。从而可以简化制作工艺。
[0068]综上所述，上述实施例均是以显示基板为彩膜基板01为例进行的说明。当然该显示基板还可以是应用于液晶显示领域的阵列基板02，或者还可以是应用于0LED显示领域的阵列基板02。
[0069]其中，当上述显示基板为阵列基板02时，如图6a或图6b所示，阵列基板包括横纵交叉的多条栅线GATE和数据线DATA，栅线和数据线交叉界定出多个呈矩阵形式排列的像素单元Pixel。每个像素单元内设置有一个薄膜晶体管TFT，从而在阵列基板02的衬底基板10上形成了 TFT阵列。并且每个TFT的漏极与像素电极210相连接。
[0070]在此情况下，可以如图6a所示，将压力传感结构20设置于上述像素单元Pixel对应的区域。或者如图6b所示将压力传感结构20设置于对应像素单元Pixel以外的区域。基于此，可以在每个像素单元Pixel内均设置压力传感结构20，也可以选择性的在几个像素单元Pixel内设置压力传感结构20。此外，还可以如图3所示，将压力传感结构20设置于非显示区域101中。本实用新型对此不作限制。
[0071]由于TFT可以分为底栅型TFT和顶栅型TFT。以下实施例将根据TFT的不同类型，对将压力传感结构20集成于阵列基板20的方案进行描述。
[0072]实施例四
[0073]本实施例中，显示基板为阵列基板02，且阵列基板02上的TFT为底栅型TFT。具体的，如图7所示，栅极211与衬底基板10相接触，栅极绝缘层212覆盖栅极211。因此栅极211相对于栅极绝缘层212而言，更靠近衬底基板10，从而构成了底栅型TFT。
[0074]在此情况下，压力传感结构20中的第一压敏电极201可以与薄膜晶体管TFT的栅极211同层同材料，绝缘支柱203可以与覆盖栅极211的栅极绝缘层212同层同材料。这样一来，在制作TFT的过程中，就可以完成压力传感结构20的第一压敏电极201和绝缘支柱203的制备。
[0075]具体的，首先可以在衬底基板10上沉积一层栅极金属层，然后通过一次构图工艺同时形成栅极211和第一压敏电极201的图案。然后，在形成有上述图案的基板表面涂覆一层栅极绝缘层，接下来通过构图工艺在对应第一压敏电极201的位置形成多个间隔设置的绝缘支柱203。然后，将已经制备好的薄片(film)状第二压敏电极202贴附于绝缘支柱203的表面，从而完成了压力传感结构20的制备。接下来通过后续的构图工艺依次在栅极绝缘层212的表面形成半导体有源层213以及TFT的源漏极214等。
[0076]实施例五
[0077]本实施例中，显示基板为阵列基板02，且阵列基板02上的TFT为顶栅型TFT。具体的，如图8所示，因此栅极211相对于栅极绝缘层212而言，更远离衬底基板10，从而构成了顶栅型TFT。且为了防止光线照射到TFT的沟道区域，可以在衬底基板10的表面，对应TFT沟道区域的位置设置金属遮光层215。从而可以避免光线直接照射到TFT的沟道区域，导致TFT的漏电流增加。此外，由于金属遮光层215采用金属材料制备，因此还需要在金属遮光层215的表面覆盖一层具有绝缘性能的缓冲层216。
[0078]在此情况下，压力传感结构20中的第一压敏电极201可以与金属遮光层205同层同材料，绝缘支柱203与缓冲层216同层同材料。这样一来，在制作TFT的过程中，就可以完成压力传感结构20的制备。其具体的制作过程可以参考实施例四。此处不再赘述。
[0079]此外，本实施例中的TFT结构采用双栅极，即有两个栅极211。这样一来可以增加TFT区域沟道的长度，而该沟道的长度与TFT的漏电流成反比，因此上述结构可以进一步减小TFT的漏电流。
[0080]综上所述，实施例四和实施例五是以显示基板为阵列基板02为例进行的说明。此夕卜，当显示基板包括0LED发光元件时。压力传感结构20的具体设置方式如以下实施例所述。
[0081]实施例六
[0082]如图9所示，该显示基板包括电极绝缘层30，该电极绝缘层30设置于第二压敏电极202远离衬底基板10的一侧，并且该第二压敏电极与电极绝缘层30相接触。而第一压敏电极201与衬底基板10相接触。此外，该电极绝缘层30远离衬底基板10的一侧设置有0LED发光元件31。其中该0LED发光元件31可以包括依次位于电极绝缘层30表面的第一电极层310、电子注入层311、电子传输层312、有机发光层313、空穴传输层314、空穴注入层315以及第二电极层316。需要说明的是，第一电极层310可以为阴极，第二电极层316可以为阳极。由于0LED发光元件31可以分为顶发射型和底发射型。对于顶发射型0LED发光元件31而言，上述第一电极层310为透明电极，第二电极层316可以为不透明的。对于底发射型0LED发光元件31而言，第一电极层310为不透明电极，而第二电极层316可以为透明电极。本实用新型对此不做限定。
[0083]在此基础上，压力传感结构20可以位于衬底基板10与电极绝缘层30之间，并且，第一压敏电极201与衬底基板10相接触，第二压敏电极202与电极绝缘层30相接触。从而可以将压力传感结构20集成于0LED显示面板中。
[0084]本实用新型实施例提供一种显示装置，还包括如上所述的任意一种显示基板。具有与前述实施例提供的显示基板相同的结构和有益效果。由于前述实施例已经对显示基板的结构和有益效果进行了详细的描述，此处不再赘述。
[0085]需要说明的是，在本实用新型实施例中，显示装置具体可以包括液晶显示装置，例如该显示装置可以为液晶显示器、液晶电视、数码相框、手机或平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件。
[0086]本实用新型实施例提供一种压力检测系统，如图10所示，包括如上所述的显示装置40、压力信号采集器50、数据处理器60。
[0087]具体的，压力信号采集器50与显示装置40的压力传