1.一种半导体设备工艺运行状态的管理方法，其特征在于，包括：
根据半导体工艺流程创建工艺运行状态队列、事件列表和转换函数，其中所述工艺运行状态队列包括半导体设备的多个工艺运行状态，所述事件列表包括使所述多个工艺运行状态发生状态转换的多个转换事件，每一所述工艺运行状态配置一个或多个所述转换事件；所述转换函数用于表示所述工艺运行状态经过所述转换事件后的状态结果；
根据上述工艺运行状态队列、事件列表和转换函数生成二维状态转换表；
对所述二维状态转换表逐行或逐列查询，依次生成多个状态源临时管理文件，每一所述状态源临时管理文件记录一个所述工艺运行状态，其配置的一个所述转换事件，以及所述工艺运行状态经该转换事件后的状态结果；以及
将全部所述状态源临时管理文件合并生成动态配置管理文件。
2.根据权利要求1所述的管理方法，其特征在于，所述二维状态转换表的第一列/行为各所述工艺运行状态，第一行/列为各所述状态结果，行、列交叉处为使同行/列所述工艺运行状态转换至同列/行所述状态结果的转换事件。
3.根据权利要求1所述的管理方法，其特征在于，所述工艺运行状态包括开始、未知、准备、冷态、工艺前热态、工艺热态、工艺运行态、工艺挂起、工艺错误完成、工艺正常完成、结束；所述转换事件包括上电、下电、初始化、运行冷态工艺、运行热开始工艺、运行热态工艺、运行正常工艺、取消工艺、暂停工艺、恢复工艺、终止工艺、工艺运行成功、工艺菜单完成、关机。
4.根据权利要求1所述的管理方法，其特征在于，所述半导体设备为单片硅外延设备。
5.根据权利要求4所述的管理方法，其特征在于，还包括：
更新所述工艺运行状态队列和/或所述事件列表和/或所述转换函数；
更新所述二维状态转换表；
对所述二维状态转换表的更新部分查询，相应生成新的所述状态源临时管理文件并替换之前由所述二维状态转换表被更新部分所生成的所述状态源临时管理文件；以及
将全部所述状态源临时管理文件合并生成新的动态配置管理文件。
6.一种半导体设备工艺运行状态的管理装置，其特征在于，包括：
状态事件构建模块，根据半导体工艺流程创建工艺运行状态队列、事件列表和转换函数，其中所述工艺运行状态队列包括半导体设备的多个工艺运行状态，所述事件列表包括使所述多个工艺运行状态发生状态转换的多个转换事件，每一所述工艺运行状态配置一个或多个所述转换事件；所述转换函数用于表示所述工艺运行状态经过所述转换事件后的状态结果；
状态转换表生成模块，根据上述工艺运行状态队列、事件列表和转换函数生成二维状态转换表；
查询模块，对所述二维状态转换表逐行或逐列查询，依次生成多个状态源临时管理文件，每一所述状态源临时管理文件记录一个所述工艺运行状态，该工艺运行状态所配置的一个所述转换事件，以及该工艺运行状态经该转换事件后的状态结果；以及
管理文件生成模块，将全部所述状态源临时管理文件合并生成动态配置管理文件。
7.根据权利要求6所述的管理装置，其特征在于，所述二维状态转换表的第一列/行为各所述工艺运行状态，第一行/列为各所述状态结果，行、列交叉处为使同行/列所述工艺运行状态转换至同列/行所述状态结果的转换事件。
8.根据权利要求6所述的管理装置，其特征在于，所述工艺运行状态包括开始、未知、准备、冷态、工艺前热态、工艺热态、工艺运行态、工艺挂起、工艺错误完成、工艺正常完成、结束；所述转换事件包括上电、下电、初始化、运行冷态工艺、运行热开始工艺、运行热态工艺、运行正常工艺、取消工艺、暂停工艺、恢复工艺、终止工艺、工艺运行成功、工艺菜单完成、关机。
9.根据权利要求6所述的管理装置，其特征在于，所述半导体设备为单片硅外延设备。
10.根据权利要求6所述的管理装置，其特征在于，还包括：
状态事件更新模块，更新所述工艺运行状态队列和/或所述事件列表和/或所述转换函数；
状态转换表更新模块，更新所述二维状态转换表；
所述查询模块对所述二维状态转换表的更新部分查询，相应生成新的所述状态源临时管理文件并替换之前由所述二维状态转换表被更新部分所生成的所述状态源临时管理文件；所述管理文件生成模块将全部所述状态源临时管理文件合并生成新的动态配置管理文件。