1.一种触控基板，其特征在于，包括：衬底基板，所述衬底基板上形成有遮光图形，所述遮光图形限定出触控区域和功能孔区域；
在所述触控区域内，形成有位于所述衬底基板上方的触控单元和位于触控单元上方的第一消影图形；
在所述功能孔区域内，形成有位于所述衬底基板上方第一绝缘层、位于所述第一绝缘层上方且覆盖所述功能孔区域内部分区域的第二消影图形、位于所述第二消影图形的上方或下方且与所述第二消影图形对应设置的增透图形；
所述第一消影图形与所述第二消影图形同层设置，所述增透图形用于提升所述第二消影图形所对应的区域的透光率。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控单元包括：位于所述衬底基板上方的若干个触控电极；
所述增透图形位于所述第二消影图形的下方且与所述触控电极同层设置。
3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极和所述增透图形的材料为氧化铟锡。
4.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述触控单元还包括：信号走线，所述信号走线与所述触控电极通过过孔连接。
5.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一消影图形的上方设置有第二绝缘层图形；
所述增透图形位于所述第二消影图形的上方且与所述第二绝缘层图形同层设置。
6.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第二消影图形包括：若干个彼此独立的第二消影子图形；
全部所述第二消影子图形在所述功能孔区域内均匀分布。
7.根据权利要求1-6中任一所述的触控基板，其特征在于，第二消影图形的面积与所述功能孔区域的面积的比为：80％～90％。
8.一种触摸屏，其特征在于，包括如上述权利要求1-7中任一所述的触控基板。
9.一种触控基板的制备方法，其特征在于，包括：
在所述衬底基板的上方形成遮光图形，所述遮光图形限定出触控区域和功能孔区域；
在所述衬底基板的上方且对应所述触控区域内形成触控单元，以及在所述衬底基板的上方且对应所述功能孔区域的区域形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层的上方形成第一消影图形和第二消影图形，所述第一消影图形与所述第二消影图形同层设置，所述第一消影图形覆盖所述触控单元所对应的区域，所述第二消影图形覆盖所述功能孔区域内部分区域；
形成增透图形，所述增透图形位于所述第二消影图形的上方或下方且与所述第二消影图形对应设置，所述增透图形用于提升所述第二消影图形所对应的区域的透光率。
10.根据权利要求9所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控单元包括：若干个触控电极；
所述形成增透图形的步骤与所述形成触控单元的步骤同步进行，形成增透图形和形成触控单元的步骤具体包括：
在所述衬底基板的上方形成透明导电材料膜层；
对所述透明导电材料膜层进行一次构图工艺以形成所述触控电极和所述增透图形，所述触控电极位于所述触控区域内，所述增透图形位于所述功能孔区域内且与后续待形成的所述第二消影图形对应设置。
11.根据权利要求10所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述触控单元还包括：信号走线；
所述形成增透图形和形成触控单元的步骤还包括：
在所述触控电极和所述增透图形的上方形成第一绝缘层，所述第一绝缘层上对应所述触控电极的位置形成有过孔；
在所述第一绝缘层上的上方形成所述信号走线，所述信号走线通过对应的过孔与对应的所述触控电极电连接。
12.根据权利要求10所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述透明导电材料为氧化铟锡。
13.根据权利要求10所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述在所述第一绝缘层的上方形成第一消影图形和第二消影图形的步骤具体包括：
在所述第一绝缘层的上方形成消影材料膜层；
在所述消影材料膜层材料的上方形成第二绝缘材料膜层；
对所述第二绝缘材料膜层进行一次构图工艺以形成第二绝缘层图形，所述第二绝缘层图形覆盖所述触控区域；
对所述消影材料膜层进行网印刻蚀以形成所述第一消影图形和所述第二消影图形，所述第一消影图形覆盖所述触控单元所对应的区域，所述第二消影图形覆盖所述功能孔区域内部分区域。
14.根据权利要求9所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述形成增透图形的步骤位于所述形成第一消影图形和第二消影图形的步骤之前执行，形成增透图形、第一消影图形和第二消影图形的步骤具体包括：
在所述第一绝缘层的上方形成消影材料膜层；
在所述消影材料膜层材料的上方形成第二绝缘材料膜层；
对所述第二绝缘材料膜层进行一次构图工艺以形成第二绝缘层图形和所述增透图形，所述第二绝缘层图形覆盖所述触控区域，所述增透图形与后续待形成的所述第二消影图形对应设置；
对所述消影材料膜层进行网印刻蚀以形成所述第一消影图形和所述第二消影图形，所述第一消影图形覆盖所述触控单元所对应的区域，所述第二消影图形覆盖所述功能孔区域内部分区域。
15.根据权利要求9所述的触控基板的制备方法，其特征在于，所述第二消影图形包括：若干个彼此独立的第二消影子图形；
全部所述第二消影子图形在所述功能孔区域内均匀分布。
16.根据权利要求9-15中任一所述的触控基板的制备方法，其特征在于，第二消影图形的面积与所述功能孔区域的面积的比为：80％～90％。